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应用于HDI/BUM技术领域的超薄铜箔 被引量:5
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作者 王阿红 《印制电路信息》 2005年第3期29-34,共6页
介绍了一种比较新颖的、技术要求比较高的,能广泛应用于HDI技术领域的超薄铜箔,并且通过其在图形电镀中的应用及激光钻孔后的电镀效果研究,可以充分体会到这种铜箔优异的性能。
关键词 超薄铜箔 xtf铜箔 高密度互连技术 HDI技术 应用 图形电镀 激光钻孔
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