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Growth of CeO_2, Y_2O_3 Buffer Layers for YBCO Coated Conductor
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作者 Zhang Hua Yang Jian Gu Hongwei Liu Huizhou Qu Fei 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第5期I0001-I0001,共1页
The CeO2 and Y2O3 buffer layers were deposited on the cube textured metallic Ni substrates by using reactive magnetron sputtering. Ar/H2 mixed atmosphere, which is used as pre-depositing gas, can effectively inhibit t... The CeO2 and Y2O3 buffer layers were deposited on the cube textured metallic Ni substrates by using reactive magnetron sputtering. Ar/H2 mixed atmosphere, which is used as pre-depositing gas, can effectively inhibit the formation of NiO. In addition, the linear relationship between pre-depositing time and total depositing time is required to ensure the epitaxial growth of the films. The growth conditions of CeO2 and Y2O3 were comparatively studied, and it is found that the windows of substrate temperatures and pressures for CeO2 films are wider than that for Y2O3 films. 展开更多
关键词 CEO2 y2o3 buffer layer reactive sputtering cube texture Ni substrate rare earths
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Y_(2)O_(3)对TC4激光熔覆镍基复合涂层组织及性能的影响 被引量:2
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作者 于坤 祁文军 +2 位作者 李志勤 雷靖峰 余志翔 《热加工工艺》 北大核心 2023年第4期101-107,共7页
探究不同含量稀土氧化物Y_(2)O_(3)对钛合金TC4表面激光涂层的组织及摩擦磨损和抗高温氧化性能的影响。采用2 kW的光纤激光器,在TC4表面激光熔覆制备含0.2%、0.5%、0.8%、1.0%、2.0%、3.0%Y_(2)O_(3)粉末的Ni60A-50%Cr_(3)C_(2)涂层;利... 探究不同含量稀土氧化物Y_(2)O_(3)对钛合金TC4表面激光涂层的组织及摩擦磨损和抗高温氧化性能的影响。采用2 kW的光纤激光器,在TC4表面激光熔覆制备含0.2%、0.5%、0.8%、1.0%、2.0%、3.0%Y_(2)O_(3)粉末的Ni60A-50%Cr_(3)C_(2)涂层;利用SEM、XRD、EDS等对该涂层的组织和物相进行分析;通过显微硬度计测量该涂层的硬度;采用MMG-500三体磨损试验机进行摩擦磨损试验;利用WS-G150智能马弗炉进行抗高温氧化性试验。结果表明:Y_(2)O_(3)添加量为1.0%时,该涂层的组织及性能均优于其它Y_(2)O_(3)添加量,涂层没有缺陷、成形良好,涂层生成高硬度碳化物和金属间化合物,组织细密均匀。基体热影响区组织为针状马氏体,涂层结合区组织为平面晶和柱状晶,涂层中部和上表面组织为短小的胞晶和树枝晶,涂层显微硬度最大值为1604HV0.2,约是基体的4.6倍;涂层摩擦系数基本稳定在0.33左右,小于TC4基体的摩擦系数0.5~0.7,涂层的耐磨性较基体显著提高;恒温850℃氧化100h后涂层氧化增重为5.11 mg·cm^(-2),约为TC4基体氧化增重25.8 mg·cm^(-2)的20%,高温抗氧化性能显著提高。适量添加稀土Y_(2)O_(3)可改善TC4激光熔覆层的组织及性能。 展开更多
关键词 TC4钛合金 激光熔覆 Y_(2)O_(3)稀土 显微组织 熔覆层
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YBCO涂层导体CeO_2,Y_2O_3缓冲层的生长研究 被引量:6
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作者 张华 杨坚 +2 位作者 古宏伟 刘慧舟 屈飞 《中国稀土学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第5期636-640,共5页
采用反应溅射的方法在具有立方织构的Ni基底上制备了CeO2,Y2O3缓冲层。Ar/H2气氛下预沉积的引入,有效地抑制了基底的氧化。同时,为保证薄膜的外延取向,预沉积时间必须和总沉积时间满足线性关系。对比CeO2,Y2O3的生长条件,发现CeO2的外... 采用反应溅射的方法在具有立方织构的Ni基底上制备了CeO2,Y2O3缓冲层。Ar/H2气氛下预沉积的引入,有效地抑制了基底的氧化。同时,为保证薄膜的外延取向,预沉积时间必须和总沉积时间满足线性关系。对比CeO2,Y2O3的生长条件,发现CeO2的外延生长区间比Y2O3宽,Y2O3的生长对温度、气压等条件更为敏感。最终制备的CeO2缓冲层是纯的(100)取向,其平面内Ф扫描半高宽(FWHM)为8.5°;而Y2O3存在两种平面取向,一种是Y2O3(110)‖Ni(100),另一种是Y2O3(100)‖Ni(100)。俄歇能谱观察表明,CeO2/Ni界面优于Y2O3/Ni界面。扫描电镜照片显示,CeO2,Y2O3缓冲层的表面均匀致密,无裂纹生成,但两种薄膜中,都有呈三角形的胞状突起。 展开更多
关键词 CEO2 y2o3 缓冲层 反应溅射 立方织构 Ni基底 稀土
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走带速率对Y_2O_3隔离层生长的影响 被引量:2
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作者 张华 金薇 +2 位作者 刘慧舟 冯校亮 杨坚 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期35-38,共4页
采用反应溅射的方法在具有立方织构的Ni基底上连续制备了Y2O3隔离层。用X射线θ-2θ扫描,φ扫描对薄膜的取向和织构进行表征,用扫描电子显微镜(SEM)对薄膜的表面形貌进行观察。主要研究了走带速率对隔离层外延生长及表面形貌的影响... 采用反应溅射的方法在具有立方织构的Ni基底上连续制备了Y2O3隔离层。用X射线θ-2θ扫描,φ扫描对薄膜的取向和织构进行表征,用扫描电子显微镜(SEM)对薄膜的表面形貌进行观察。主要研究了走带速率对隔离层外延生长及表面形貌的影响。实验表明:随着走带速率的增大,Y2O3的平面内妒扫描半高宽(FWHM)增大,(400)峰的相对强度减小,晶粒更加细小;同时,制备的三层Y2O3隔离层,其面内妒扫描半高宽取决于第一层的半高宽;最终在三层Y2O3隔离层上沉积了有良好外延取向的YBCO超导层,其FWHM为8.0°。 展开更多
关键词 走带速率 y2o3 隔离层 反应溅射 表面形貌
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纳米Y_2O_3对Ni-WC合金喷焊层组织和耐磨性的影响 被引量:2
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作者 洪永昌 刘开升 《中国稀土学报》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期488-492,共5页
通过在含35%WC的Ni基自熔合金粉末中添加微量的纳米Y2O3,研究纳米Y2O3对合金喷焊层组织、硬度和耐磨性影响规律及其作用机制。实验结果表明,添加适量的纳米Y2O3可细化合金喷焊层组织,提高合金喷焊层硬度和耐磨性,改善合金喷焊层和基体... 通过在含35%WC的Ni基自熔合金粉末中添加微量的纳米Y2O3,研究纳米Y2O3对合金喷焊层组织、硬度和耐磨性影响规律及其作用机制。实验结果表明,添加适量的纳米Y2O3可细化合金喷焊层组织,提高合金喷焊层硬度和耐磨性,改善合金喷焊层和基体的结合状态,并且经一定温度的后续热处理,可进一步提高合金喷焊层硬度和耐磨性。 展开更多
关键词 金属材料 纳米y2o3 喷焊层 组织 耐磨性 稀土
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Y_2O_3对45钢表面激光熔覆镍基合金的影响 被引量:3
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作者 雷宇 罗军明 万润根 《新技术新工艺》 2007年第8期64-65,共2页
研究了Y2O3对镍基合金激光熔覆层显微组织、相结构以及性能的影响。结果表明加入Y2O3的镍基激光熔覆层显微组织细小均匀,且不出现微裂纹。熔覆层形成的物相有Fe-C,Fe-B和NiCrFe等。与纯镍基熔覆层相比,加入Y2O3的镍基熔覆层显微硬度有... 研究了Y2O3对镍基合金激光熔覆层显微组织、相结构以及性能的影响。结果表明加入Y2O3的镍基激光熔覆层显微组织细小均匀,且不出现微裂纹。熔覆层形成的物相有Fe-C,Fe-B和NiCrFe等。与纯镍基熔覆层相比,加入Y2O3的镍基熔覆层显微硬度有较大提高,其耐磨性能比淬火和软氮化后明显提高;加稀土的激光合金化比不加稀土的激光合金化的耐磨性要有所提高。 展开更多
关键词 y2o3 镍基激光熔覆层 显微硬度 耐磨性
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移动Ni-5W基带上制备钇系涂层导体隔离层的研究 被引量:3
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作者 刘慧舟 杨坚 +1 位作者 张华 古宏伟 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期627-630,共4页
采用电子束蒸发和磁控溅射两种工艺在移动的Ni-5W合金基带上制备了Y2O3隔离层,研究了镀膜过程中基带移动速度对隔离层性能的影响,同时详细比较了两种镀膜方法。利用扫描电镜、X射线衍射等手段对Y2O3隔离层进行了分析。结果表明:通过严... 采用电子束蒸发和磁控溅射两种工艺在移动的Ni-5W合金基带上制备了Y2O3隔离层,研究了镀膜过程中基带移动速度对隔离层性能的影响,同时详细比较了两种镀膜方法。利用扫描电镜、X射线衍射等手段对Y2O3隔离层进行了分析。结果表明:通过严格控制工艺条件,两种方法都能在移动Ni-5W合金基带上制备高立方织构、表面致密光滑的Y2O3隔离层。研究发现,电子束蒸发工艺中,理想的基带移动速度是0.4~1.0mm·s-1;磁控溅射工艺中,适宜的基带移动速度应该是0.5~2.0mm·s-1。 展开更多
关键词 涂层导体 连续沉积(隔离层) y2o3 电子束蒸发 溅射
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直流反应溅射法制备Y_2O_3隔离层的研究
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作者 金薇 古宏伟 +3 位作者 杨坚 张华 刘慧舟 杨玉卫 《低温与超导》 CAS CSCD 北大核心 2008年第5期38-41,46,共5页
采用直流反应溅射的方法在具有立方织构的Ni基底上制备出了Y2O3隔离层,并研究了基带温度与H2O分压两个因素对Y2O3薄膜的织构取向以及表面形貌的影响。X射线衍射(XRD)结果和扫描电子显微镜(SEM)的分析表明,在温度为760℃,H2O分压为1.68&#... 采用直流反应溅射的方法在具有立方织构的Ni基底上制备出了Y2O3隔离层,并研究了基带温度与H2O分压两个因素对Y2O3薄膜的织构取向以及表面形貌的影响。X射线衍射(XRD)结果和扫描电子显微镜(SEM)的分析表明,在温度为760℃,H2O分压为1.68×10-2Pa的条件下制备出的Y2O3薄膜具有强立方织构,平面内Φ扫描半高宽为7.07°,其表面均匀、致密、无裂纹。 展开更多
关键词 氧化钇 隔离层 直流反应溅射 涂层导体
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化学溶液沉积法制备Y_2O_3过渡层
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作者 岳建设 李祯 王晓芳 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第10期80-82,共3页
为了满足YBa2Cu3O7(YBCO)超导带材生产实际的需要,在金属基带和YBCO超导薄膜之间制备一层合适的氧化物过渡层显得尤为重要。以乙酸钇为原料配制前驱体溶液,采用金属盐化学溶液沉积法在织构的Ni-5%W(质量分数)(Ni-5W)带上成功制备了Y_2O_... 为了满足YBa2Cu3O7(YBCO)超导带材生产实际的需要,在金属基带和YBCO超导薄膜之间制备一层合适的氧化物过渡层显得尤为重要。以乙酸钇为原料配制前驱体溶液,采用金属盐化学溶液沉积法在织构的Ni-5%W(质量分数)(Ni-5W)带上成功制备了Y_2O_3过渡层。结果显示,氮气氛下1050℃热处理1h后,所获得的Y_2O_3过渡层具有良好的晶体织构,晶体生长取向为(100),完全复制了Ni-5W带模板的结构,为YBCO生长提供了良好的模板。在Y_2O_3过渡层上制备的YBCO薄膜表现出良好的超导性能。 展开更多
关键词 超导 过渡层 化学溶液沉积 y2o3薄膜
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退火对Y_2O_3薄膜结构和电学性能的影响 被引量:4
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作者 霍会宾 刘正堂 阎锋 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第7期123-125,138,共4页
采用射频磁控反应溅射法,成功地在n-Si衬底上制备了高κ栅介质Y2O3薄膜。对薄膜在不同温度退火后的结构、成分和电学性能进行了分析研究。结果表明,沉积态薄膜为非晶态,退火后薄膜开始晶化;沉积态薄膜中Y和O元素的原子浓度比基本符合化... 采用射频磁控反应溅射法,成功地在n-Si衬底上制备了高κ栅介质Y2O3薄膜。对薄膜在不同温度退火后的结构、成分和电学性能进行了分析研究。结果表明,沉积态薄膜为非晶态,退火后薄膜开始晶化;沉积态薄膜中Y和O元素的原子浓度比基本符合化学计量比;薄膜具有较低的漏电流,退火后薄膜的漏电流降低。高频C-V曲线表明,退火后由于界面层的生长导致积聚电容减小。 展开更多
关键词 y2o3薄膜 退火 漏电流 界面层
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双陶瓷层热障涂层3.5%Y_2O_3-La_2(Zr_(0.7)Ce_(0.3))_2O_7/YSZ研究 被引量:1
11
作者 张晓峰 雷新更 +2 位作者 宋希文 崔向中 张永和 《航空制造技术》 2016年第12期84-87,91,共5页
采用EB-PVD沉积了3.5%Y_2O_3-La_2(Zr_(0.7)Ce_(0.3))_2O_7(3.5YLZ7C3)/YSZ双陶瓷热障涂层,分析了涂层的成分、相结构、组织形貌和热循环氧化性能。研究表明:La_2(Zr_(0.7)Ce_(0.3))_2O_7(LZ7C3)材料中掺杂Y_2O_3能有效地降低涂层中La2O... 采用EB-PVD沉积了3.5%Y_2O_3-La_2(Zr_(0.7)Ce_(0.3))_2O_7(3.5YLZ7C3)/YSZ双陶瓷热障涂层,分析了涂层的成分、相结构、组织形貌和热循环氧化性能。研究表明:La_2(Zr_(0.7)Ce_(0.3))_2O_7(LZ7C3)材料中掺杂Y_2O_3能有效地降低涂层中La2O3/Zr O_2/Ce O_2的成分偏差;双陶瓷涂层在1050℃下氧化增重动力学为M=0.1219t1/3,相比抛物线型YSZ涂层的氧化增重曲线,较大减缓了氧化速度;沉积态双陶瓷涂层表面结构(即3.5Y-LZ7C3涂层结构)为烧绿石结构,经过热循环后逐渐分解,出现了萤石结构以及La_2O_3的衍射峰;在1050℃双陶瓷层热循环氧化寿命达768 h。 展开更多
关键词 电子束物理气相沉积 热障涂层 双陶瓷层 y2o3掺杂La2(Zr0.7Ce0.3)2O7
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反应溅射法制备Y_2O_3种子层研究
12
作者 肖山 冯啸 +3 位作者 张飞 柴刚 熊杰 陶伯万 《低温与超导》 CAS CSCD 北大核心 2010年第3期28-31,54,共5页
采用直流磁控反应溅射法在双轴织构的镍钨合金(Ni-5%W)基带上生长Y2O3种子层。研究了由于水分压导致的金属靶材的氧化问题而引起反应溅射的迟滞效应,在其他最优工艺条件下通过水分压系列的试验,通过试验得出溅射电压和水分压的关系和溅... 采用直流磁控反应溅射法在双轴织构的镍钨合金(Ni-5%W)基带上生长Y2O3种子层。研究了由于水分压导致的金属靶材的氧化问题而引起反应溅射的迟滞效应,在其他最优工艺条件下通过水分压系列的试验,通过试验得出溅射电压和水分压的关系和溅射电流和水分压平衡点Pb的关系,以及水分压平衡点为反应溅射法制备Y2O3种子层薄膜的水分压最优化条件。在优化工艺条件下,反应溅射法可以制得C轴单一取向的Y2O3种子层,其面内外半高宽可达到3.874°和4.914°。 展开更多
关键词 y2o3种子层 反应溅射 迟滞效应
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Y_2O_3插层对Ni_(81)Fe_(19)薄膜各向异性磁电阻的影响
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作者 黄华雪 王书运 +1 位作者 姚远 高铁军 《磁性材料及器件》 CAS 2015年第5期10-13,共4页
以Y_2O_3作为Ni_(81)Fe_(19)薄膜的氧化插层,利用磁控溅射法制备了一系列不同插层厚度的Ni_(81)Fe_(19)薄膜样品Ta(4nm)/Y_2O_3(t)/Ni_(81)Fe_(19)(20nm)/Y2O3(t)/Ta(3nm),利用非共线四探针法测量薄膜样品的各向异性磁电阻(AMR),用振动... 以Y_2O_3作为Ni_(81)Fe_(19)薄膜的氧化插层,利用磁控溅射法制备了一系列不同插层厚度的Ni_(81)Fe_(19)薄膜样品Ta(4nm)/Y_2O_3(t)/Ni_(81)Fe_(19)(20nm)/Y2O3(t)/Ta(3nm),利用非共线四探针法测量薄膜样品的各向异性磁电阻(AMR),用振动样品磁强计测量样品的磁滞回线,利用X射线衍射仪(XRD)分析样品薄膜结构,研究了Y_2O_3插层厚度对Ni_(81)Fe_(19)薄膜各向异性磁电阻的影响。结果表明,在基片温度为450℃时,Ni_(81)Fe_(19)薄膜AMR值随插层厚度增加先增后减,在插层厚度为2.5nm时样品具有最大AMR,其值为4.61%,比无插层样品的2.69%提高了71.3%。 展开更多
关键词 Ni81Fe19薄膜 各向异性磁电阻 y2o3插层
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316L不锈钢基体上反应溅射添加YO_x粘接层的Y_2O_3/Er_2O_3复合涂层的研究
14
作者 刘军 吕维玲 曹江利 《真空》 CAS 2012年第6期35-38,共4页
为了研究添加粘接层对复合涂层的影响,采用脉冲反应溅射在316L不锈钢基体上制备了调制周期为700 nm左右(5层)的Y2O3/Er2O3复合涂层,通过调整氧氩比制备了不饱和氧化钇(YOx,x<1.5)作为粘接层,研究了添加粘接层对复合涂层相组成、组织... 为了研究添加粘接层对复合涂层的影响,采用脉冲反应溅射在316L不锈钢基体上制备了调制周期为700 nm左右(5层)的Y2O3/Er2O3复合涂层,通过调整氧氩比制备了不饱和氧化钇(YOx,x<1.5)作为粘接层,研究了添加粘接层对复合涂层相组成、组织形貌以及涂层与基底结合情况的影响。X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、结合力及纳米硬度分析结果表明,当氧分压为0.036 Pa制备YO1.401粘接层时,Y2O3/Er2O3/YOx涂层的结合力相比于Y2O3/Er2O3复合涂层,涂层与基体的结合力增大了约60%,纳米硬度增大了近30%,绝缘电阻率测试结果表明,Y2O3/Er2O3/YOx涂层绝缘电阻率在1×109Ω.cm^1×1011Ω.cm,绝缘性能良好。 展开更多
关键词 氧化钇涂层 粘接层 反应溅射 结合力 纳米硬度
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Continuous Deposition of Double-sided Y_2O_3/YSZ/CeO_2 Buffer Layers for Coated Conductors
15
作者 Xia Yudong, Zhang Fei, Zhang Ning, Zhang Junfei, Chai Gang, Guo Pei, Jing Tongguo, Xiong Jie, Zhao Xiaohui, Tao Bowan, Li Yanrong State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Integrated Devices, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu 610054, China 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第S3期311-314,共4页
In this paper, we report a continuous deposition method for double-sided CeO2/YSZ/Y2O3 buffer layers by reel-to-reel in a D.C. magnetron reactive sputtering system. X-ray diffraction exhibited all the samples were hig... In this paper, we report a continuous deposition method for double-sided CeO2/YSZ/Y2O3 buffer layers by reel-to-reel in a D.C. magnetron reactive sputtering system. X-ray diffraction exhibited all the samples were highly c-axis oriented and atomic force microscope observations revealed a smooth, dense and crack-free surface morphology. Out-of-plane, in-plane texture, and surface roughness of multi-buffer layers were improved under optimized deposition conditions. Full width at half maximum (FWHM) values of out-of-plane and in-plane were about 4° and 5.5° in 50 cm double-sided buffed template. YBa2Cu3O7-δ films with thickness of 1.2 μm were deposited on both sides of the buffed tape. Both sides showed similar critical current density, Jc (77 K, self field) as 0.8 MA/cm2 and 0.7 MA/cm2, respectively. 展开更多
关键词 CONTINUOUS DEPOSITION double-sided y2o3/YSZ/CeO2 BUFFER layers
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化学溶液沉积(CSD)法制备YBCO/Y_2O_3/YBCO薄膜 被引量:1
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作者 张黄莉 田秀劳 徐兰珍 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第S2期842-844,共3页
以Y2O3纳米颗粒伪层作中间层,用CSD法制备夹层结构的YBCO/Y2O3/YBCO薄膜。薄膜表面光滑致密,没有裂纹和空洞。XRD分析表明,YBCO/Y2O3/YBCO薄膜具有较强的c轴取向,其超导转变温度为92K,在60K零场下其临界电流密度达到6.9MA/cm2,表明YBCO/... 以Y2O3纳米颗粒伪层作中间层,用CSD法制备夹层结构的YBCO/Y2O3/YBCO薄膜。薄膜表面光滑致密,没有裂纹和空洞。XRD分析表明,YBCO/Y2O3/YBCO薄膜具有较强的c轴取向,其超导转变温度为92K,在60K零场下其临界电流密度达到6.9MA/cm2,表明YBCO/Y2O3/YBCO薄膜具有优良的超导性能。 展开更多
关键词 化学溶液沉积(CSD)法 y2o3伪层 YBCO/y2o3/YBCO薄膜
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