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Y_2O_3:Eu电致发光膜的制备与结构表征
被引量:
1
1
作者
黄蕙芬
周新宇
+3 位作者
张浩康
张修太
王震
钟锐
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期529-534,共6页
采用电子束蒸发和射频磁控溅射技术沉积了Y2 O3 :Eu电致发光薄膜 ,对膜进行了不同温度的大气热处理。用原子力显微镜 (AFM)观察了Y2 O3 :Eu膜的表面形貌 ,用X射线 (XRD)分析了Y2 O3 :Eu膜的结构 ,并对两种Y2 O3 :Eu膜的微结构和表面形...
采用电子束蒸发和射频磁控溅射技术沉积了Y2 O3 :Eu电致发光薄膜 ,对膜进行了不同温度的大气热处理。用原子力显微镜 (AFM)观察了Y2 O3 :Eu膜的表面形貌 ,用X射线 (XRD)分析了Y2 O3 :Eu膜的结构 ,并对两种Y2 O3 :Eu膜的微结构和表面形貌进行了比较。结果表明 ,射频磁控溅射Y2 O3 :Eu膜与电子束蒸发Y2 O3 :Eu膜相比 ,结构更致密 ,表面更平滑 ,而且 ,在 90 0°C高温热处理后 ,溅射膜呈现单斜晶系结构 ,具有该结构的Y2 O3 :Eu膜适宜于作电致发光膜。
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关键词
y
2
o
3:
eu
膜
电致发光
射频磁控溅射
电子束蒸发
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职称材料
题名
Y_2O_3:Eu电致发光膜的制备与结构表征
被引量:
1
1
作者
黄蕙芬
周新宇
张浩康
张修太
王震
钟锐
机构
东南大学电子工程系
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2004年第4期529-534,共6页
基金
江苏省自然科学基金资助项目 (编号 :BK2 0 0 10 12 )
文摘
采用电子束蒸发和射频磁控溅射技术沉积了Y2 O3 :Eu电致发光薄膜 ,对膜进行了不同温度的大气热处理。用原子力显微镜 (AFM)观察了Y2 O3 :Eu膜的表面形貌 ,用X射线 (XRD)分析了Y2 O3 :Eu膜的结构 ,并对两种Y2 O3 :Eu膜的微结构和表面形貌进行了比较。结果表明 ,射频磁控溅射Y2 O3 :Eu膜与电子束蒸发Y2 O3 :Eu膜相比 ,结构更致密 ,表面更平滑 ,而且 ,在 90 0°C高温热处理后 ,溅射膜呈现单斜晶系结构 ,具有该结构的Y2 O3 :Eu膜适宜于作电致发光膜。
关键词
y
2
o
3:
eu
膜
电致发光
射频磁控溅射
电子束蒸发
Keywords
y
2
o
3:
eu
films
electr
o
luminescent ph
o
sph
o
r
rf-magnetr
o
n sputtering
electr
o
n beam evap
o
rati
o
n
分类号
TN305.8 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
Y_2O_3:Eu电致发光膜的制备与结构表征
黄蕙芬
周新宇
张浩康
张修太
王震
钟锐
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
2004
1
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