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分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn_(1-x)Mg_xO薄膜折射率及厚度的测试 被引量：5
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作者 延凤平 郑凯 +8 位作者 王琳 李一凡 龚桃荣 简水生 尾形健一 小池一步 佐佐诚彦 井上正崇 矢野满明 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第7期4127-4131,共5页
利用偏振光椭圆率测量仪对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜的薄膜折射率和厚度进行了测试.结合ICP法测得的薄膜中的Mg组成量,经数值拟合,导出表征薄膜厚度与薄膜生长条件、薄膜折射率与薄膜中的Mg组成量之间关系... 利用偏振光椭圆率测量仪对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜的薄膜折射率和厚度进行了测试.结合ICP法测得的薄膜中的Mg组成量,经数值拟合,导出表征薄膜厚度与薄膜生长条件、薄膜折射率与薄膜中的Mg组成量之间关系的曲线,为MBE法在Sapphire衬底上生长Zn1-xMgxO薄膜时控制薄膜厚度以及在制作Zn1-xMgxO薄膜的波导时控制薄膜的折射率提供了理论依据. 展开更多
关键词 znmgo薄膜 偏振光椭圆率测量仪 折射率 分子束外延(mbe)
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