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ZnO和Al_2O_3缓冲层对AZO透明导电膜薄膜性能的影响 被引量:3
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作者 田力 陈姗 +3 位作者 蒋马蹄 廉淑华 杨世江 唐世洪 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2012年第4期605-608,共4页
采用射频磁控溅射法,以纯度为99.9%,质量分数98%ZnO、2%Al2O3陶瓷靶为溅射靶材,在预先沉积了ZnO和Al2O3的玻璃衬底上制备了Al2O3掺杂的ZnO薄膜。研究并对比了两种不同的缓冲层对ZnO∶Al(AZO)薄膜的微观结构和光电性能的影响。并借助X线... 采用射频磁控溅射法,以纯度为99.9%,质量分数98%ZnO、2%Al2O3陶瓷靶为溅射靶材,在预先沉积了ZnO和Al2O3的玻璃衬底上制备了Al2O3掺杂的ZnO薄膜。研究并对比了两种不同的缓冲层对ZnO∶Al(AZO)薄膜的微观结构和光电性能的影响。并借助X线衍射(XRD)仪、扫描电子显微镜(SEM)、紫外可见光谱仪(UV-Vis)等方法测试和分析了不同缓冲层,对AZO薄膜的形貌结构、光电学性能的影响。结果表明:加入缓冲层后,在衬底温度为200℃时,溅射30min,负偏压为60V、在氮气气氛下经300℃退火处理后,制得薄膜的可见光透过率为83%~87%,AZO薄膜的最低电阻率,从9.2×10-4Ω.cm(玻璃)分别下降到8.0×10-4Ω.cm(ZnO)和5.4×10-4Ω.cm(Al2O3)。 展开更多
关键词 zno∶Al(azo) 磁控溅射法 zno缓冲层 Al2O3缓冲层 透明导电薄膜
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A comparison of transmittance properties between ZnO∶Al films for transparent conductors for solar cells deposited by sputtering of AZO and cosputtering of AZO/ZnO 被引量:8
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作者 LEE Chongmu YIM Keunbin +1 位作者 CHO Youngjoon Lee J.G. 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第z1期105-109,共5页
Aluminum-doped zinc oxide (AZO) thin films were deposited on sapphire (002) and glass substrates by two different sputtering techniques radio frequency magnetron cosputtering of AZO and ZnO targets and sputtering of a... Aluminum-doped zinc oxide (AZO) thin films were deposited on sapphire (002) and glass substrates by two different sputtering techniques radio frequency magnetron cosputtering of AZO and ZnO targets and sputtering of an AZO target. The dependence of the photoluminescence (PL) and transmittance properties of the AZO films deposited by cosputtering and sputtering on the AZO/ZnO target power ratio, R and the O2/Ar flow ratio, r were investigated, respectively. Only a deep level emission peak appears in the PL spectra of cosputtered AZO films whereas both UV emission and deep level emission peaks are observed in the PL spectra of sputtered AZO films. The absorption edges in the transmittance spectra of the AZO films shift to the lower wavelength region as R and r increase. Effects of crystallinity, surface roughness, PL on the transmittance of the AZO films were also explained using the X-ray diffraction (XRD), atomic force microscopy (AFM), and PL analysis results. 展开更多
关键词 Al-doped zno (azo) R.F. magnetron sputtering R.F. power transparent conducting oxide (TCO) TRANSMITTANCE
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AZO晶种层对ZnO纳米线生长及紫外光电导性能的影响
3
作者 曹东 蒋向东 +1 位作者 李大伟 孙继伟 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第20期81-85,共5页
采用溶液化学法实现了在Zn(NO3)2/C6H12N4混合溶液中ZnO纳米线在AZO薄膜修饰过衬底上生长。AZO薄膜由射频磁控溅射法制备,通过溅射时间和基底温度的变化改变薄膜形态,重点研究了不同薄膜形态对ZnO纳米线形貌和结构的影响,最终在溅射2h... 采用溶液化学法实现了在Zn(NO3)2/C6H12N4混合溶液中ZnO纳米线在AZO薄膜修饰过衬底上生长。AZO薄膜由射频磁控溅射法制备,通过溅射时间和基底温度的变化改变薄膜形态,重点研究了不同薄膜形态对ZnO纳米线形貌和结构的影响,最终在溅射2h、基底温度250℃晶种上得到垂直于衬底、高度平行取向的ZnO纳米线阵列。在此基础上研究了不同形貌ZnO纳米线阵列的紫外光电导性能差异。结果表明,垂直生长的纳米线较倒伏纳米线紫外响应迅速,分析认为是紫外光照下曝光面积不同造成的。 展开更多
关键词 azo zno纳米线 溶液化学法 紫外光电导性能
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不同厚度和退火温度下AZO/ZnO结构的薄膜稳定性
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作者 杜忠明 刘向鑫 《电源技术》 CAS CSCD 北大核心 2018年第10期1563-1566,共4页
利用射频磁控溅射法在7059玻璃上生长不同厚度的AZO薄膜,并在不同厚度的薄膜上再利用射频磁控溅射沉积一层55 nm的本征ZnO薄膜。利用退火CdTe电池的退火条件退火各种厚度的薄膜时,所有AZO/ZnO结构的薄膜电阻率均只有微小的变化,表现出... 利用射频磁控溅射法在7059玻璃上生长不同厚度的AZO薄膜,并在不同厚度的薄膜上再利用射频磁控溅射沉积一层55 nm的本征ZnO薄膜。利用退火CdTe电池的退火条件退火各种厚度的薄膜时,所有AZO/ZnO结构的薄膜电阻率均只有微小的变化,表现出比单层结构的AZO薄膜更强的电学稳定性。在干空气气氛中400~550℃退火时,710 nm AZO/50 nm ZnO结构的薄膜仍然具有更好的稳定性,退火后电阻率仍然保持得更好。结果表明在制备CdTe电池时采用AZO/ZnO结构方式的透明电极比AZO更有利于电池的光电性能。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 azo/zno 电阻率 退火
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磁控溅射镀膜生产ZnO∶Al(AZO)薄膜的工艺探讨 被引量:2
5
作者 陈英 郭卫 《玻璃》 2018年第6期42-45,共4页
讨论了采用磁控溅射镀膜工艺在玻璃衬底上制作AZO透明导电薄膜的工艺方法。分析了AZO透明导电膜产品的质量指标,介绍了磁控溅射镀膜工艺及设备、靶材的选择、玻璃基板加热温度的选择、溅射气体的压力的选择等。
关键词 磁控溅射镀膜 zno:Al(azo)薄膜 工艺
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退火温度对ITO/Cu/AZO透明导电薄膜结构及性能的影响
6
作者 孙冰成 张健 +1 位作者 张贤旺 于尉 《微纳电子技术》 CAS 2024年第11期155-162,共8页
采用射频与直流磁控交替溅射法在石英玻璃载玻片上制备了氧化铟锡(ITO)/Cu/Al掺杂ZnO(AZO)(45 nm/10 nm/45 nm)组合结构的透明导电薄膜,并在不同退火温度下对薄膜进行真空热处理。利用X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见分光光度计、四探针电... 采用射频与直流磁控交替溅射法在石英玻璃载玻片上制备了氧化铟锡(ITO)/Cu/Al掺杂ZnO(AZO)(45 nm/10 nm/45 nm)组合结构的透明导电薄膜,并在不同退火温度下对薄膜进行真空热处理。利用X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测试仪等表征手段,系统地研究了退火温度对ITO/Cu/AZO复合薄膜晶体结构和光电性能的影响。结果显示,经过不同温度的真空退火处理,薄膜的晶体结构和导电性能得到显著改善和提高,薄膜可见光平均透过率随着退火温度的升高先增加后降低。对比发现,在气压5×10^(-3)Pa、温度150℃下退火制备的ITO/Cu/AZO结构薄膜表现出最佳的综合性能,薄膜具有较强的(222)和(440)晶面衍射峰,在400~800 nm光波范围平均透过率约为80.5%,电导率约为1.76×10^(3) S/cm,综合品质因数达到约2.12×10^(-3)/Ω。 展开更多
关键词 磁控溅射 真空热处理 氧化铟锡(ITO)薄膜 Al掺杂zno(azo)薄膜 交替溅射法
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Seed Free Growth of Aligned ZnO Nanowire Arrays on AZO Substrate 被引量:1
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作者 LIU Liqing CAO Guangxia HONG Kunquan 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2018年第6期1372-1375,共4页
In the absence of commonly used seed layer, we can still successfully synthesized aligned ZnO nanowire arrays by the hydrothermal method. By using aluminum-doped zinc oxide(AZO) glass as a substrate, high-density and ... In the absence of commonly used seed layer, we can still successfully synthesized aligned ZnO nanowire arrays by the hydrothermal method. By using aluminum-doped zinc oxide(AZO) glass as a substrate, high-density and vertically aligned ZnO nanowires were synthesized directly on the substrate in the absence of the ZnO seed layer. The current-voltage curve indicated that the sample grown on AZO glass substrate in the absence of seed layer possesses better conductivity than that synthesized on FTO glass substrate with ZnO seed layer. Thus, a simplified, seed-free and low-cost experimental protocol was reported here for large-scale production of high quality ZnO nanowire arrays with promoted conductivity. 展开更多
关键词 zno nanowire arrays seed layer free azo substrate CONDUCTIVITY
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溶胶-凝胶法制备的ZnO:Al薄膜的微观结构及光学、电学性能 被引量:18
8
作者 周宏明 易丹青 +3 位作者 余志明 肖来荣 李荐 王斌 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期505-510,共6页
采用溶胶-凝胶法制备了ZnO:Al(AZO)透明导电薄膜.通过X射线衍射(XRD)、紫外-可见分光光度计 (UV-Vis)、扫描电镜(SEM)和电阻测量装置,考察了Al掺杂量、退火温度及镀膜层数等工艺参数对薄膜的微观结构和光电性能的影响.结果表明,退火... 采用溶胶-凝胶法制备了ZnO:Al(AZO)透明导电薄膜.通过X射线衍射(XRD)、紫外-可见分光光度计 (UV-Vis)、扫描电镜(SEM)和电阻测量装置,考察了Al掺杂量、退火温度及镀膜层数等工艺参数对薄膜的微观结构和光电性能的影响.结果表明,退火温度越高,多晶AZO薄膜的(001)晶面择优取向生长的趋势越强,并且随退火温度升高,薄膜的晶粒尺寸增大,透光率增加.薄膜晶体结构为纯ZnO的六角纤锌矿结构.在掺杂浓度1%(摩尔分数)、退火温度500℃及镀膜层数10的条件下,得到了电阻率为3.2×10-3Ω·cm、可见光区的平均透射率超过90%的AZO薄膜. 展开更多
关键词 zno:Al(azo)薄膜 溶胶-凝胶法 微观结构 光学 电学性能
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沉积温度和退火处理对脉冲激光沉积的ZnO∶Al膜性能的影响 被引量:19
9
作者 陈欣 方斌 +4 位作者 官文杰 吴天书 郭明森 方国家 赵兴中 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第10期1511-1513,共3页
利用脉冲激光沉积法制备了ZnO∶Al透明导电薄膜.通过对膜的霍尔系数测量及 AFM、XRD分析,详细研究了温度和退火处理对薄膜结构、表面形貌及光电性能的影响.结果表明沉积温度影响膜的电学、光学性能和膜的结晶状况.制备的薄膜均具有ZnO(0... 利用脉冲激光沉积法制备了ZnO∶Al透明导电薄膜.通过对膜的霍尔系数测量及 AFM、XRD分析,详细研究了温度和退火处理对薄膜结构、表面形貌及光电性能的影响.结果表明沉积温度影响膜的电学、光学性能和膜的结晶状况.制备的薄膜均具有ZnO(002)择优取向的多晶膜.在240~310℃沉积的薄膜具有最低的电阻率,其值为6.1×10-4Ω·cm,在240℃沉积的薄膜在氩气中退火薄膜的电阻率下降为4. 7×10-4Ω·cm.所有薄膜在可见光区的平均透过率均达到了90%以上. 展开更多
关键词 沉积温度 zno:Al(azo)膜 退火
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AZO薄膜的光学性质研究 被引量:8
10
作者 李丽 刘素芳 +1 位作者 江莎 刘子贻 《重庆邮电大学学报(自然科学版)》 北大核心 2009年第6期781-784,共4页
采用直流反应磁控溅射法,用Zn(99.99%)掺Al(1.5%)靶制备出高质量的Al掺杂的ZnO(AZO)薄膜,用紫外可见、红外分光光度计等测试手段对沉积的薄膜进行了表征和分析,并对AZO薄膜的折射率和厚度进行了理论分析。薄膜的光谱分析结果表明:薄膜... 采用直流反应磁控溅射法,用Zn(99.99%)掺Al(1.5%)靶制备出高质量的Al掺杂的ZnO(AZO)薄膜,用紫外可见、红外分光光度计等测试手段对沉积的薄膜进行了表征和分析,并对AZO薄膜的折射率和厚度进行了理论分析。薄膜的光谱分析结果表明:薄膜样品的可见光透射率平均值均在80%以上。AZO薄膜在紫外有很强的吸收峰,在红外区域,其反射率可达70%。通过理论计算得出了AZO薄膜样品的厚度为101 nm,与台阶仪测量的结果基本相符。 展开更多
关键词 azo薄膜 光学性质 透射光谱
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额定压强下O_2/Ar比对ZnO:Al薄膜导电性能的影响 被引量:2
11
作者 邓雪然 邓宏 +1 位作者 韦敏 陈金菊 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第2期227-229,共3页
采用射频磁控溅射法在石英玻璃基片上制备出ZnO:Al薄膜,并对薄膜在不同O2/Ar比状态下的沉积厚度、结晶性能和导电性能之间的关系进行了探讨。测试结果表明:在0.2Pa的额定压强下,Ar流量越大,薄膜的厚度越大,XRD峰越强,薄膜的电阻率(ρ)... 采用射频磁控溅射法在石英玻璃基片上制备出ZnO:Al薄膜,并对薄膜在不同O2/Ar比状态下的沉积厚度、结晶性能和导电性能之间的关系进行了探讨。测试结果表明:在0.2Pa的额定压强下,Ar流量越大,薄膜的厚度越大,XRD峰越强,薄膜的电阻率(ρ)值越低。在纯氩气状态下溅射时,制得的薄膜具有最大的厚度值,约为2.06μm,并具有最强的XRD峰,ρ同时也达到最小值,阻值为2.66×10-4Ω.cm。研究表明:结晶性能的提高对薄膜ρ的降低起到了关键作用,而厚度的增加也会使电阻率下降。 展开更多
关键词 射频磁控溅射 zno:Al(azo)薄膜 O2/Ar比 导电性能
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Cu基Al掺杂ZnO多层薄膜的生长及其性能 被引量:3
12
作者 王钰萍 吕建国 叶志镇 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期869-873,905,共6页
本文采用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了AZO/Cu、Cu/AZO和AZO/Cu/AZO三种复合结构多层膜,研究了生长温度对多层膜特性的影响,发现AZO/Cu双层薄膜具有最优的光电性能,其最佳生长温度为100~150℃。文中进一步考察了生长温度对AZO/Cu... 本文采用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了AZO/Cu、Cu/AZO和AZO/Cu/AZO三种复合结构多层膜,研究了生长温度对多层膜特性的影响,发现AZO/Cu双层薄膜具有最优的光电性能,其最佳生长温度为100~150℃。文中进一步考察了生长温度对AZO/Cu双层薄膜结构性能和表面形貌的影响,结果表明:合适的生长温度有利于改善AZO/Cu双层薄膜的晶体质量,进而提高其光电性能;150℃下沉积的薄膜具有最佳品质因子1.11×10-2Ω-1,此时方块电阻为8.99Ω/sq,可见光透过率为80%,近红外反射率约70%。本文在较低温度下制备的AZO/Cu双层膜具有较优的透明导电性和良好的近红外反射性,可以广泛应用于镀膜玻璃、太阳能电池、平板显示器等光电领域。 展开更多
关键词 azo 多层结构薄膜 光电性能 生长温度
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ZnO缓冲层厚度对Al掺杂ZnO薄膜性能的影响 被引量:3
13
作者 马书懿 马李刚 +1 位作者 艾小倩 黄新丽 《西北师范大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2011年第6期20-24,共5页
采用射频磁控溅射法在不同厚度的ZnO缓冲层上制备了Al掺杂ZnO(AZO)薄膜.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-VIS)和荧光分光光度计(PL)等表征技术,研究了AZO薄膜的微观结构、表面形貌和发光特性.XRD分析... 采用射频磁控溅射法在不同厚度的ZnO缓冲层上制备了Al掺杂ZnO(AZO)薄膜.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-VIS)和荧光分光光度计(PL)等表征技术,研究了AZO薄膜的微观结构、表面形貌和发光特性.XRD分析结果表明,加入适当厚度的ZnO缓冲层后可有效地降低晶格失配和因热膨胀系数不同引起的晶格畸变.薄膜在可见光范围内的透射率随着缓冲层厚度的增加先增大后降低,平均透过率超过80%.通过对样品光致发光(PL)谱的研究发现ZnO缓冲层样品在室温下的光致发光峰有了明显增高.这说明利用低温缓冲层生长的AZO薄膜的结晶质量和光学性质都得到了明显改善. 展开更多
关键词 磁控溅射法 zno缓冲层 azo薄膜 XRD 光致发光
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Al掺杂的ZnO薄膜的XPS谱和光学特性研究 被引量:4
14
作者 李丽 常仁杰 +3 位作者 方亮 李秋俊 陈希明 冯世娟 《微细加工技术》 2007年第5期39-43,47,共6页
采用直流反应磁控溅射法在玻璃基底上用Zn(99.99%)掺Al(1.5%)靶制备出高质量的Al掺杂的ZnO(AZO)薄膜。利用X射线光电子能谱仪和紫外-可见光分光光度计分别对制备的AZO薄膜进行成分、元素的价态分析和光学性质的研究。其实验结果表明,Zn... 采用直流反应磁控溅射法在玻璃基底上用Zn(99.99%)掺Al(1.5%)靶制备出高质量的Al掺杂的ZnO(AZO)薄膜。利用X射线光电子能谱仪和紫外-可见光分光光度计分别对制备的AZO薄膜进行成分、元素的价态分析和光学性质的研究。其实验结果表明,Zn元素以氧化态的形式存在,Al元素以氧化态和单质的形式存在,O元素主要以晶格氧和吸附氧的形式存在。AZO薄膜的光学参数受退火温度的影响较大。AZO薄膜在可见光区域内透射率的平均值为85%,并且随着退火温度的升高,AZO薄膜在可见光区域内的透射率稍微增大;薄膜的紫外吸收边向短波方向移动;薄膜的光学带隙从3.83 eV增大到3.88 eV;并且消光系数在紫外区域随着波长的增大而急剧下降。 展开更多
关键词 azo薄膜 XPS谱 光学性质
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Al掺杂ZnO薄膜的XPS谱及电学性质研究 被引量:2
15
作者 李丽 方亮 +3 位作者 李秋俊 陈希明 董建新 冯世娟 《微细加工技术》 EI 2008年第1期26-30,共5页
采用直流反应磁控溅射法在玻璃基底上用Zn(99.99%)掺杂Al(1.5%)靶制备出高质量的Al掺杂的ZnO(AZO)薄膜。用X射线光电子能谱仪对退火处理后的薄膜进行了成分和元素的价态分析,并用Van der Pauw方法对样品的电学特性进行了测量。实验结果... 采用直流反应磁控溅射法在玻璃基底上用Zn(99.99%)掺杂Al(1.5%)靶制备出高质量的Al掺杂的ZnO(AZO)薄膜。用X射线光电子能谱仪对退火处理后的薄膜进行了成分和元素的价态分析,并用Van der Pauw方法对样品的电学特性进行了测量。实验结果表明,Zn和Al元素都以氧化态的形式存在,O元素主要是以晶格氧和吸附氧的形式存在。AZO薄膜的电学性质受退火温度和氧氩比的影响较大。随着退火温度的升高,电阻率减小,载流子浓度和迁移率增大。随着氧氩比的增大,电阻率增大,迁移率减小。因此可得到用直流反应磁控溅射法制备AZO薄膜的最佳氧氩比和退火温度分别为0.3/27和400℃,在此条件下制备出的薄膜电阻率可低至10-4Ω.cm,载流子浓度可达1020cm-3。 展开更多
关键词 azo薄膜 XPS谱 电学性质
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改善玻璃衬底上ZnO薄膜特性的方法 被引量:2
16
作者 张彩珍 陈永刚 周庆华 《半导体技术》 CAS 北大核心 2019年第6期454-458,共5页
利用磁控溅射法在玻璃衬底上淀积铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜作为缓冲层,在其上制备了ZnO薄膜。重点研究了AZO薄膜作为缓冲层对玻璃衬底上ZnO薄膜特性的影响。扫描电子显微镜(SEM)图像和X射线衍射(XRD)图谱分析结果表明,玻璃衬底上加入厚度为... 利用磁控溅射法在玻璃衬底上淀积铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜作为缓冲层,在其上制备了ZnO薄膜。重点研究了AZO薄膜作为缓冲层对玻璃衬底上ZnO薄膜特性的影响。扫描电子显微镜(SEM)图像和X射线衍射(XRD)图谱分析结果表明,玻璃衬底上加入厚度为1μm的AZO缓冲层后,提高了衬底材料和ZnO薄膜之间的晶格匹配程度,有助于增大ZnO薄膜晶粒尺寸,提高其(002)取向择优生长特性、薄膜结晶特性及晶格结构完整性。室温下的透射光谱结果表明玻璃/AZO和玻璃衬底上ZnO薄膜的透光特性没有显著不同。光致发光(PL)谱研究结果表明AZO缓冲层可以有效阻止衬底表面硅原子从ZnO薄膜中"俘获"氧原子,减少ZnO薄膜中的缺陷,改善ZnO薄膜的结晶质量。 展开更多
关键词 铝掺杂氧化锌(azo) zno薄膜 磁控溅射 扫描电子显微镜(SEM) X射线衍射(XRD)
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表面具有微纳结构的AZO薄膜制备及性能研究
17
作者 姚婷婷 仲召进 +7 位作者 李刚 汤永康 杨勇 金克武 王天齐 沈鸿烈 甘治平 马立云 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 2018年第5期802-806,共5页
采用磁控溅射法及线棒刮涂法在玻璃衬底上室温生长微纳结构铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜,使底层AZO薄膜工作压强从1.5Pa调整到0.1Pa。通过扫描电子显微镜(SEM)、X线衍射(XRD)仪、霍尔效应测试系统、分光光度计及光电雾度仪研究了AZO薄膜的表... 采用磁控溅射法及线棒刮涂法在玻璃衬底上室温生长微纳结构铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜,使底层AZO薄膜工作压强从1.5Pa调整到0.1Pa。通过扫描电子显微镜(SEM)、X线衍射(XRD)仪、霍尔效应测试系统、分光光度计及光电雾度仪研究了AZO薄膜的表面形貌、晶体结构、电学性能和光学性能。研究结果表明,降低底层AZO薄膜工作压强对微纳结构AZO薄膜光电性能有显著的影响。底层AZO薄膜工作压强0.2Pa时,薄膜表现最低电阻率为6.17×10-4Ω·cm,可见光波段平均光学透光率为82.3%。随着底层AZO薄膜工作压强的降低,薄膜表面形貌、生长形态和晶粒大小发生较大变化,并得到具有陷光作用、优良光电性能的微纳结构AZO薄膜。 展开更多
关键词 铝掺杂氧化锌(azo)薄膜 表面形貌 微纳结构 亲水性 电学性能 雾度
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ZnO/α-Fe_(2)O_(3)复合材料对偶氮染料的降解 被引量:2
18
作者 高芳 别祉睿 +2 位作者 谭赛娅 丁粤雨 贺语典 《化工环保》 CAS CSCD 北大核心 2023年第1期113-118,共6页
采用水热法制备了ZnO/α-Fe_(2)O_(3)复合光催化剂,并用XRD、SEM、UV-Vis和FTIR等多种手段进行了表征,考察了该催化剂对溶液中橙Ⅱ和甲基橙的光催化降解性能。表征结果显示,负载ZnO后,ZnO/α-Fe_(2)O_(3)催化剂的吸光范围变宽,禁带宽度... 采用水热法制备了ZnO/α-Fe_(2)O_(3)复合光催化剂,并用XRD、SEM、UV-Vis和FTIR等多种手段进行了表征,考察了该催化剂对溶液中橙Ⅱ和甲基橙的光催化降解性能。表征结果显示,负载ZnO后,ZnO/α-Fe_(2)O_(3)催化剂的吸光范围变宽,禁带宽度变窄,催化活性增强。实验结果表明:在ZnO/α-Fe_(2)O_(3)中ZnO的质量分数为30%、ZnO/α-Fe_(2)O_(3)催化剂加入量为1.0 g/L、甲基橙或橙Ⅱ质量浓度为5 mg/L、暗反应时间为30 min、光反应时间为120 min的条件下,该催化剂对甲基橙和橙Ⅱ的催化降解效果最好,甲基橙和橙Ⅱ的去除率分别为62.2%和64.7%;该催化剂连续使用5次后,对甲基橙的去除率从62.2%缓慢下降到54.9%,表现出较好的稳定性和重复使用性能。 展开更多
关键词 α-Fe_(2)O_(3) zno 复合材料 光催化 偶氮类染料
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衬底温度对共溅射制备AZO薄膜光电性能影响 被引量:5
19
作者 何双赐 钟志成 +1 位作者 汪竞阳 魏彦锋 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 2018年第5期784-788,共5页
以Al金属和ZnO陶瓷作为溅射靶材,采用直流和射频双靶磁控共溅射的方法在玻璃衬底上制备Al掺杂ZnO(AZO)透明导电薄膜,采用X线光电子能谱仪、X线衍射(XRD)仪、扫描电子显微镜、原子力显微镜、紫外-可见分光光度计和霍耳效应测试仪对薄膜... 以Al金属和ZnO陶瓷作为溅射靶材,采用直流和射频双靶磁控共溅射的方法在玻璃衬底上制备Al掺杂ZnO(AZO)透明导电薄膜,采用X线光电子能谱仪、X线衍射(XRD)仪、扫描电子显微镜、原子力显微镜、紫外-可见分光光度计和霍耳效应测试仪对薄膜的微观形貌结构及光电性能进行了表征和分析,探究了不同衬底温度对薄膜光电性能的影响。结果表明,所制备的AZO薄膜均具有c轴取向生长的六角纤锌矿结构,在衬底温度为300℃时AZO薄膜结晶质量最好,电阻率最低(为1.43×10-3Ω·cm)。所有样品薄膜在380~780nm区间平均透过率大于90%,随着衬底温度的升高,AZO薄膜的吸收边出现了蓝移。 展开更多
关键词 Al掺杂zno(azo)薄膜 共溅射 衬底温度 光电性能 蓝移
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不同退火工艺对AZO膜性能的影响 被引量:1
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作者 闫都伦 姜翠宁 +1 位作者 王克斌 王珏 《真空》 CAS 北大核心 2011年第1期37-39,共3页
掺铝氧化锌(AZO)薄膜由于其独特的光学和电学性能而倍受人们的青睐。本文采用射频磁控溅射技术,制备了综合性能优良的AZO薄膜,通过不同退火工艺处理,研究了其对AZO薄膜的组织结构、电学性能及光学性能的影响。氮气环境下的退火使得AZO... 掺铝氧化锌(AZO)薄膜由于其独特的光学和电学性能而倍受人们的青睐。本文采用射频磁控溅射技术,制备了综合性能优良的AZO薄膜,通过不同退火工艺处理,研究了其对AZO薄膜的组织结构、电学性能及光学性能的影响。氮气环境下的退火使得AZO膜出现了更为明显的"蓝移"现象,氢气环境下的退火提高了薄膜的导电性。 展开更多
关键词 掺铝氧化锌(azo)薄膜 磁控溅射 退火工艺 电学性能 光学性能
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