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Electrical and Structural Properties of Radio Frequency (RF) Sputtered ZnO Thin Film at Low Substrate Temperature
1
作者
Sanusi Abdullahi
Musa Momoh
Kasim Uthman Isah
《Journal of Electrical Engineering》
2014年第1期12-19,共8页
关键词
电气控制
控制理论
电气测量
集中参数
下载PDF
职称材料
H_2流量对直流磁控溅射低温沉积ZnO:Al薄膜结构与性能的影响
2
作者
赵联波
赖延清
+4 位作者
刘芳洋
张坤
邹忠
李劼
刘业翔
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第1期28-33,共6页
在Ar和H2的混合气氛下采用直流磁控溅射在玻璃衬底上低温沉积Al掺杂ZnO,即ZnO∶Al透明导电薄膜,研究H2流量(0~10sccm)对薄膜结构、形貌、光学和电学性能的影响。结果表明:不同H2流量下制备的ZnO∶Al薄膜均为高度C轴取向的六角纤锌矿结...
在Ar和H2的混合气氛下采用直流磁控溅射在玻璃衬底上低温沉积Al掺杂ZnO,即ZnO∶Al透明导电薄膜,研究H2流量(0~10sccm)对薄膜结构、形貌、光学和电学性能的影响。结果表明:不同H2流量下制备的ZnO∶Al薄膜均为高度C轴取向的六角纤锌矿结构,溅射过程中通入适量的H2能改善ZnO∶Al薄膜的结晶质量和表面形貌;所有薄膜在400~900nm范围内的平均透过率均高于85%;随着H2流量的增大,薄膜的载流子浓度升高,电阻率减小,达到10-4Ω.cm数量级。
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关键词
zno
Al薄膜
磁控溅射
H2流量
电阻率
透过率
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职称材料
射频功率和工作压强对Ga、Al共掺杂ZnO薄膜性能的影响
被引量:
1
3
作者
罗国平
张漫虹
+4 位作者
梁铨斌
陈冬
陈星源
李天乐
朱伟玲
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第12期12020-12024,共5页
室温下采用射频(RF)磁控溅射在玻璃衬底上制备镓铝共掺杂氧化锌(GAZO)薄膜。采用X射线衍射仪、紫外-可见-近红外分光光度计、四探针测试仪和紫外光电子能谱等表征方法研究射频功率和工作压强与薄膜结构、光学和电学性能之间的关联。结...
室温下采用射频(RF)磁控溅射在玻璃衬底上制备镓铝共掺杂氧化锌(GAZO)薄膜。采用X射线衍射仪、紫外-可见-近红外分光光度计、四探针测试仪和紫外光电子能谱等表征方法研究射频功率和工作压强与薄膜结构、光学和电学性能之间的关联。结果表明:不同条件下制备的GAZO薄膜均具有六方纤锌矿晶体结构,沿垂直衬底的(002)方向择优取向,在可见光波段(400~700 nm)的平均透射率均高于90%;在射频功率和工作压强分别为200 W和0.20 Pa条件下制备的GAZO薄膜具有最低的电阻率(1.40×10^-3Ω·cm)和最高的品质因子(8.10×10^-3Ω^-1)。GAZO薄膜优良的光电性能使其有很大潜力作为透明电极应用于光电器件。
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关键词
射频功率
透明电极
zno
薄膜
溅射沉积
透射率
电阻率
下载PDF
职称材料
题名
Electrical and Structural Properties of Radio Frequency (RF) Sputtered ZnO Thin Film at Low Substrate Temperature
1
作者
Sanusi Abdullahi
Musa Momoh
Kasim Uthman Isah
机构
Department of Physics
Department of physics
出处
《Journal of Electrical Engineering》
2014年第1期12-19,共8页
关键词
电气控制
控制理论
电气测量
集中参数
Keywords
zno
,
electrical resistance
,
rf-magnetron sputtering
,
xrd
分类号
TM93 [电气工程—电力电子与电力传动]
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职称材料
题名
H_2流量对直流磁控溅射低温沉积ZnO:Al薄膜结构与性能的影响
2
作者
赵联波
赖延清
刘芳洋
张坤
邹忠
李劼
刘业翔
机构
中南大学冶金科学与工程学院
出处
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第1期28-33,共6页
文摘
在Ar和H2的混合气氛下采用直流磁控溅射在玻璃衬底上低温沉积Al掺杂ZnO,即ZnO∶Al透明导电薄膜,研究H2流量(0~10sccm)对薄膜结构、形貌、光学和电学性能的影响。结果表明:不同H2流量下制备的ZnO∶Al薄膜均为高度C轴取向的六角纤锌矿结构,溅射过程中通入适量的H2能改善ZnO∶Al薄膜的结晶质量和表面形貌;所有薄膜在400~900nm范围内的平均透过率均高于85%;随着H2流量的增大,薄膜的载流子浓度升高,电阻率减小,达到10-4Ω.cm数量级。
关键词
zno
Al薄膜
磁控溅射
H2流量
电阻率
透过率
Keywords
zno
: Al thin films
magnetron
sputtering
H2 flux
electrical
resist
ivity
optical transmittance
分类号
O782 [理学—晶体学]
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职称材料
题名
射频功率和工作压强对Ga、Al共掺杂ZnO薄膜性能的影响
被引量:
1
3
作者
罗国平
张漫虹
梁铨斌
陈冬
陈星源
李天乐
朱伟玲
机构
广东石油化工学院理学院
华南理工大学发光材料与器件国家重点实验室
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第12期12020-12024,共5页
基金
广东省教育厅青年创新人才(680067)
茂名市科技计划(mm2017000007,2017309)
广东石油化工学院科研基金(2017rc20)。
文摘
室温下采用射频(RF)磁控溅射在玻璃衬底上制备镓铝共掺杂氧化锌(GAZO)薄膜。采用X射线衍射仪、紫外-可见-近红外分光光度计、四探针测试仪和紫外光电子能谱等表征方法研究射频功率和工作压强与薄膜结构、光学和电学性能之间的关联。结果表明:不同条件下制备的GAZO薄膜均具有六方纤锌矿晶体结构,沿垂直衬底的(002)方向择优取向,在可见光波段(400~700 nm)的平均透射率均高于90%;在射频功率和工作压强分别为200 W和0.20 Pa条件下制备的GAZO薄膜具有最低的电阻率(1.40×10^-3Ω·cm)和最高的品质因子(8.10×10^-3Ω^-1)。GAZO薄膜优良的光电性能使其有很大潜力作为透明电极应用于光电器件。
关键词
射频功率
透明电极
zno
薄膜
溅射沉积
透射率
电阻率
Keywords
radio frequency power
transparent
electr
odes
zno
thin films
sputtering
deposition
transparency
electr
ic
resist
ivity
分类号
TB304 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Electrical and Structural Properties of Radio Frequency (RF) Sputtered ZnO Thin Film at Low Substrate Temperature
Sanusi Abdullahi
Musa Momoh
Kasim Uthman Isah
《Journal of Electrical Engineering》
2014
0
下载PDF
职称材料
2
H_2流量对直流磁控溅射低温沉积ZnO:Al薄膜结构与性能的影响
赵联波
赖延清
刘芳洋
张坤
邹忠
李劼
刘业翔
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013
0
下载PDF
职称材料
3
射频功率和工作压强对Ga、Al共掺杂ZnO薄膜性能的影响
罗国平
张漫虹
梁铨斌
陈冬
陈星源
李天乐
朱伟玲
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020
1
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职称材料
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