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基于ITO的Co-ZnO电极的制备及对邻苯二酚的检测评价
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作者 马寅 杨意 +3 位作者 吴青华 缪楚宇 武莹 李宇春 《现代化工》 CAS CSCD 北大核心 2024年第3期206-211,217,共7页
采用分布电沉积法在ITO导电玻璃表面制备Co-ZnO电极传感器,并将其用于邻苯二酚的分析检测。利用SEM、EDS和XRD对制备的Co-ZnO电极进行表面形貌、元素组成和晶体结构分析,并利用循环伏安法和计时电流法对其进行电化学分析。结果表明,Co-... 采用分布电沉积法在ITO导电玻璃表面制备Co-ZnO电极传感器,并将其用于邻苯二酚的分析检测。利用SEM、EDS和XRD对制备的Co-ZnO电极进行表面形貌、元素组成和晶体结构分析,并利用循环伏安法和计时电流法对其进行电化学分析。结果表明,Co-ZnO电极对邻苯二酚具有非常明显的电催化活性,通过测试分析得到其线性范围为0.01~10 mmol/L、灵敏度为1429.67 mA/(mM·cm^(2))、检出限为0.87μmol/L。通过干扰试验可知,Co-ZnO电极对其有良好的选择性,且电极的重现性良好。 展开更多
关键词 邻苯二酚 ito导电玻璃 Co-zno电极 电沉积
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高阻ITO基板上电化学沉积ZnO薄膜的研究 被引量:5
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作者 侯旭峰 荆海 +1 位作者 谷长栋 张会平 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期15-20,共6页
利用电化学沉积法,以65±1℃的0.1mol/LZn(NO3)2水溶液作为电解质溶液,在方块电阻为118Ω/□的氧化铟锡(ITO)玻璃基板上制备了ZnO薄膜。利用扫描电镜观察了ZnO薄膜表面形貌,结果表明随着电极电势的降低或沉积时间的增加,ZnO薄膜表... 利用电化学沉积法,以65±1℃的0.1mol/LZn(NO3)2水溶液作为电解质溶液,在方块电阻为118Ω/□的氧化铟锡(ITO)玻璃基板上制备了ZnO薄膜。利用扫描电镜观察了ZnO薄膜表面形貌,结果表明随着电极电势的降低或沉积时间的增加,ZnO薄膜表面颗粒的六方形结构逐渐明显。利用X射线衍射技术分析了阴极电势和沉积时间对ZnO薄膜择优取向的影响,结果表明ZnO薄膜的(002)择优取向是随电极电势的下降而逐渐减弱的,而且随沉积时间的增加(002)择优取向也逐渐减弱。透射光谱测量表明,实验所获得的ZnO薄膜在可见光范围内是透光的,平均透过率高达80%~90%,不同阴极电势下的禁带宽度均为3.5eV左右,且在阴极电势为-2.5V时,禁带宽度随沉积时间的增加而逐渐减小。 展开更多
关键词 zno薄膜 电化学沉积 ito基板 禁带宽度
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Electrodeposition of aligned ZnO sheet array on ITO substrate and their field emission characteristics
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作者 王翀 王菲菲 +1 位作者 付星球 王太宏 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2007年第11期3545-3548,共4页
ZnO sheet array was fabricated by a simple electrodeposition method on the transparent ITO substrate at a temperature of about 60℃. The field emission properties of the ZnO sheet array were investigated. The fluctuat... ZnO sheet array was fabricated by a simple electrodeposition method on the transparent ITO substrate at a temperature of about 60℃. The field emission properties of the ZnO sheet array were investigated. The fluctuation of the field emission current is less than 5% over several hours. The Fowler Nordheim curves with a roughly linear characteristic were obtained by analysing the current density and the intensity of the electrical field. The results prove that such a simple electrochemical method can potentially meet the demands on the production of cold cathodes for field emission display. 展开更多
关键词 field emission eleetrodeposition zno ito
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退火温度对ITO/Cu/AZO透明导电薄膜结构及性能的影响
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作者 孙冰成 张健 +1 位作者 张贤旺 于尉 《微纳电子技术》 CAS 2024年第11期155-162,共8页
采用射频与直流磁控交替溅射法在石英玻璃载玻片上制备了氧化铟锡(ITO)/Cu/Al掺杂ZnO(AZO)(45 nm/10 nm/45 nm)组合结构的透明导电薄膜,并在不同退火温度下对薄膜进行真空热处理。利用X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见分光光度计、四探针电... 采用射频与直流磁控交替溅射法在石英玻璃载玻片上制备了氧化铟锡(ITO)/Cu/Al掺杂ZnO(AZO)(45 nm/10 nm/45 nm)组合结构的透明导电薄膜,并在不同退火温度下对薄膜进行真空热处理。利用X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见分光光度计、四探针电阻测试仪等表征手段,系统地研究了退火温度对ITO/Cu/AZO复合薄膜晶体结构和光电性能的影响。结果显示,经过不同温度的真空退火处理,薄膜的晶体结构和导电性能得到显著改善和提高,薄膜可见光平均透过率随着退火温度的升高先增加后降低。对比发现,在气压5×10^(-3)Pa、温度150℃下退火制备的ITO/Cu/AZO结构薄膜表现出最佳的综合性能,薄膜具有较强的(222)和(440)晶面衍射峰,在400~800 nm光波范围平均透过率约为80.5%,电导率约为1.76×10^(3) S/cm,综合品质因数达到约2.12×10^(-3)/Ω。 展开更多
关键词 磁控溅射 真空热处理 氧化铟锡(ito)薄膜 Al掺杂zno(AZO)薄膜 交替溅射法
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ZnO半导体薄膜的研究进展 被引量:2
5
作者 吕承瑞 王小平 +1 位作者 王丽军 雷通 《材料导报(纳米与新材料专辑)》 EI 2008年第3期216-218,229,共4页
介绍了制备氧化锌薄膜的几种主要方法,包括磁控溅射法、化学气相沉积法、溶胶-凝胶法、激光脉冲沉积法等;分析了氧化锌薄膜作为代替透明导电膜(ITO膜)的可行性及这方面的研究进展;阐述了氧化锌薄膜作为一种新的场发射阴极材料应用于平... 介绍了制备氧化锌薄膜的几种主要方法,包括磁控溅射法、化学气相沉积法、溶胶-凝胶法、激光脉冲沉积法等;分析了氧化锌薄膜作为代替透明导电膜(ITO膜)的可行性及这方面的研究进展;阐述了氧化锌薄膜作为一种新的场发射阴极材料应用于平板显示或作为场发射电子源的研究进展,同时综述了其作为发光器件的众多优势。 展开更多
关键词 zno半导体薄膜 ito 场发射阴极材料 LED
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纳米ZnO修饰电极检测食品中的亚硝酸盐 被引量:1
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作者 付明秋浩 万荣泰 +2 位作者 何章玉 林忠霞 杨海征 《曲靖师范学院学报》 2020年第3期47-51,121,共6页
利用电化学沉积法制得纳米氧化锌薄膜,再用该材料修饰ITO电极,并将该修饰电极应用于亚硝酸盐的检测研究.研究结果表明,在恒定电流9×10^-8 A、修饰时沉积时间为25min时,该修饰电极对亚硝酸盐的催化氧化效果最好.其峰电流与亚硝酸盐... 利用电化学沉积法制得纳米氧化锌薄膜,再用该材料修饰ITO电极,并将该修饰电极应用于亚硝酸盐的检测研究.研究结果表明,在恒定电流9×10^-8 A、修饰时沉积时间为25min时,该修饰电极对亚硝酸盐的催化氧化效果最好.其峰电流与亚硝酸盐浓度在3.33×10^-8 M至3.33×10^-6 M范围内有良好线性关系.检出限低至1.0×10^-7 M.利用该电极对0.1 M NaCl和0.01 M NaNO 2混合溶液进行了5次平行测定,相对标准偏差(RSD)为±10.2%,该修饰电极灵敏度高,重现性好. 展开更多
关键词 修饰电极 zno/ito 循环伏安法 亚硝酸盐
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ZnO纳米线的制备及其影响因素
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作者 杨文婷 沈晓明 《广西科学》 CAS 2018年第4期433-437,443,共6页
【目的】采用化学浴沉积法在ITO导电玻璃衬底上制备ZnO纳米线。【方法】研究种子层结晶性、PEI浓度对ZnO纳米线生长的影响,并用SEM、XRD、AFM对其形貌、晶体结构等进行表征。【结果】衬底温度为200℃时生长的ZnO纳米线垂直排列呈六角纤... 【目的】采用化学浴沉积法在ITO导电玻璃衬底上制备ZnO纳米线。【方法】研究种子层结晶性、PEI浓度对ZnO纳米线生长的影响,并用SEM、XRD、AFM对其形貌、晶体结构等进行表征。【结果】衬底温度为200℃时生长的ZnO纳米线垂直排列呈六角纤锌矿结构;PEI浓度为4.5 mmol/L时,ZnO纳米线的长径比最高,达20.56。【结论】制备的ZnO纳米线取向良好、结构尺寸均匀、长径比高。 展开更多
关键词 zno 纳米线 ito 导电玻璃 种子层结晶性 PEI
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石墨烯导电柔性衬底上生长硼掺杂ZnO纳米球及其光电性能的研究 被引量:1
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作者 任帅 容萍 +2 位作者 姜立运 李亚鹏 于琦 《中国陶瓷》 CAS CSCD 北大核心 2019年第2期12-17,共6页
以石墨烯柔性衬底(GPET)为基底,硼酸、六次甲基四胺和六水硝酸锌为掺杂剂,采用低温(95℃)水热法合成硼掺杂石墨烯/氧化锌薄膜复合材料(B-ZnO/GPET)。通过X射线衍射仪(XRD),扫描电子显微镜(SEM),光致发光光谱(PL),伏安特征曲线(I-V)等进... 以石墨烯柔性衬底(GPET)为基底,硼酸、六次甲基四胺和六水硝酸锌为掺杂剂,采用低温(95℃)水热法合成硼掺杂石墨烯/氧化锌薄膜复合材料(B-ZnO/GPET)。通过X射线衍射仪(XRD),扫描电子显微镜(SEM),光致发光光谱(PL),伏安特征曲线(I-V)等进行表征,分析B-ZnO/GPET的生长机理,通过改变硼酸的掺杂浓度,研究B-ZnO/GPET的形貌差异。实验结果显示,水热法能够成功的将B元素掺入B-ZnO/GPET的晶格中。硼酸的掺杂浓度决定了B-ZnO/GPET的结晶质量。随着硼酸浓度的增加,ZnO的结晶质量明显改善,并呈现ZnO纳米球状,比表面积增加到了26.4 m^2/g高于纯ZnO的10.32 m^2/g,晶粒尺寸也相应增大。B-ZnO/GPET显著提高了良好循环下的光电性能,在光电器件领域拥有良好的前景。 展开更多
关键词 石墨烯 zno PET-ito 硼掺杂 光电器件
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氧化锌在ITO导电玻璃上电沉积生长过程研究 被引量:2
9
作者 周晓平 马琳 +1 位作者 冯宗财 谢木标 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期1091-1094,1107,共5页
采用恒电流电解法,以0.1mol/LNH4NO3、0.01mol/LZn(CH3COO)2水溶液为电解液,成功将ZnO电沉积于ITO导电玻璃的表面。利用扫描电子显微镜(SEM)研究了ZnO晶核在ITO导电玻璃表面上的生长过程,对其生长取向、排列方式及微观形貌等方面发生的... 采用恒电流电解法,以0.1mol/LNH4NO3、0.01mol/LZn(CH3COO)2水溶液为电解液,成功将ZnO电沉积于ITO导电玻璃的表面。利用扫描电子显微镜(SEM)研究了ZnO晶核在ITO导电玻璃表面上的生长过程,对其生长取向、排列方式及微观形貌等方面发生的一系列变化的规律进行了研究和讨论。利用X射线衍射分析(XRD)研究了电沉积时间对ZnO结晶性的影响。结果表明:ZnO在ITO导电玻璃上的电沉积过程,经历了晶核生成、增长成片、片状组合、定向排列、团聚成花、团聚成块等连续过程;随着沉积时间的增长,沉积厚度增加,使得ZnO晶体的结晶性变差。 展开更多
关键词 恒电流电解法 氧化锌 电沉积 ito导电玻璃 生长过程
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ZnO/TiO_2复合涂层电极的制备及其光电性能 被引量:3
10
作者 文新宇 黄紫洋 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2011年第6期1128-1132,共5页
以氧化铟锡导电玻璃为基材,采用电泳沉积法制备负载型ZnO/TiO2复合涂层,经450℃后续烧结处理后,采用XRD、SEM、EDX和UV-Vis DRS对ZnO/TiO2复合涂层进行表征;在pH=7.00的磷酸盐缓冲溶液中,分别测试ZnO/TiO2复合涂层电极在紫外灯和100 W... 以氧化铟锡导电玻璃为基材,采用电泳沉积法制备负载型ZnO/TiO2复合涂层,经450℃后续烧结处理后,采用XRD、SEM、EDX和UV-Vis DRS对ZnO/TiO2复合涂层进行表征;在pH=7.00的磷酸盐缓冲溶液中,分别测试ZnO/TiO2复合涂层电极在紫外灯和100 W白炽灯辐照下的电化学阻抗谱、Tafel极化曲线和循环伏安等电化学性质。结果表明:ZnO以200-300 nm晶粒分散于复合涂层中,质量百分比为0.74%;ZnO/TiO2复合涂层在可见光区有一定的吸收;在可见光辐照下ZnO/TiO2复合涂层电极具有较好的光电活性,并对水的分解具有较强的光电催化活性。 展开更多
关键词 电泳沉积 zno/TiO2复合涂层电极 光电性能 ito导电玻璃
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Al掺杂ZnO纳米棒在柔性衬底上的生长及其性能研究
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作者 容萍 任帅 于琦 《中国陶瓷》 CAS CSCD 北大核心 2018年第12期20-24,共5页
利用水热法在PET-ITO柔性衬底上制备铝(Al)掺杂的ZnO纳米棒(ZnO∶Al)。通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、I-V特性测试等分析了合成纳米材料的微观形貌、晶体结构、电学性能。结果表明,掺杂Al时对ZnO纳... 利用水热法在PET-ITO柔性衬底上制备铝(Al)掺杂的ZnO纳米棒(ZnO∶Al)。通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、I-V特性测试等分析了合成纳米材料的微观形貌、晶体结构、电学性能。结果表明,掺杂Al时对ZnO纳米棒生长有直接的影响。构建了添加Alq3为绝缘层的PET-ITO/ZnO纳米棒/Alq3/AgMIS(金属M-绝缘体I-半导体S)器件,并对其电学性能深入研究,实验表明该器件对整流特性有良好反应。 展开更多
关键词 zno 水热法 PET-ito 铝掺杂 MIS器件
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Rup_2P表面敏化TiO_2基复合薄膜光致界面电荷转移 被引量:2
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作者 翟晓辉 赵俊岩 +1 位作者 巢晖 曹亚安 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2010年第6期1617-1622,共6页
采用离子束溅射技术制备出TiO2/ITO、Zn2+掺杂的TiO2(TiO2-Zn)/ITO和TiO2/ZnO/ITO薄膜,采用表面敏化技术和旋转涂膜法,制备出(1,10-邻菲咯啉)2-2-(2-吡啶基)苯咪唑钌混配配合物(Rup2P)表面敏化的TiO2基复合薄膜Rup2P/TiO2/ITO、Rup2P/Ti... 采用离子束溅射技术制备出TiO2/ITO、Zn2+掺杂的TiO2(TiO2-Zn)/ITO和TiO2/ZnO/ITO薄膜,采用表面敏化技术和旋转涂膜法,制备出(1,10-邻菲咯啉)2-2-(2-吡啶基)苯咪唑钌混配配合物(Rup2P)表面敏化的TiO2基复合薄膜Rup2P/TiO2/ITO、Rup2P/TiO2-Zn/ITO和Rup2P/TiO2/ZnO/ITO.表面光电压谱(SPS)结果发现:敏化后的TiO2基薄膜在可见区(400-600nm)产生SPS响应;TiO2基薄膜的能带结构不同,其在400-600nm和350nm处的SPS响应的峰高比不同.利用电场诱导表面光电压谱(EFISPS),测定TiO2基薄膜和表面敏化TiO2基复合薄膜各种物理参数,并确定其能带结构.分析可知,表面敏化TiO2基复合薄膜在400-600nm的SPS响应峰主要源于Rup2P分子的中心离子Ru4d能级到配体1,10-邻菲咯啉π*1和2-(2-吡啶基)苯咪唑π*2能级的跃迁;TiO2中Zn2+掺杂能级有利于Ru4d能级到配体π*1和π*2跃迁的光生电子向TiO2-Zn导带的注入;TiO2/ZnO异质结构有利于光生电子向ITO表面的转移,从而导致可见光(400-600nm)SPS响应增强以及光电转换效率的提高. 展开更多
关键词 Rup2P 表面敏化 TiO2-Zn/ito TiO2/zno/ito 光致界面电荷转移
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柔性透明导电薄膜的制备及其发展前景 被引量:14
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作者 何维凤 赵玉涛 +1 位作者 李素敏 李长生 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期32-36,共5页
随着电子器件向小型化和轻便化方向发展,柔性衬底的透明导电薄膜将成为硬质衬底透明导电薄膜的更新换代产品,因此其研究备受关注。综述了柔性透明导电膜的主要制备技术及其优缺点,阐述了当前该领域的最新研究成果及应用,并讨论了工业应... 随着电子器件向小型化和轻便化方向发展,柔性衬底的透明导电薄膜将成为硬质衬底透明导电薄膜的更新换代产品,因此其研究备受关注。综述了柔性透明导电膜的主要制备技术及其优缺点,阐述了当前该领域的最新研究成果及应用,并讨论了工业应用对柔性透明导电膜的性能要求及其未来发展趋势。 展开更多
关键词 透明导电膜 透明导电薄膜 柔性衬底 电子器件 小型化 更新换代 未来发展 硬质 制备 工业应用
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水热法制备不同形貌的氧化锌纳米结构 被引量:8
14
作者 李琛 周明 沈坚 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第7期1327-1331,共5页
采用水热法,用甲酰胺水溶液和锌片建立反应体系,在不同种晶层上制备出不同形貌的ZnO纳米结构,所用基底有Si片、镀有ZnO薄膜的Si片、镀有ITO薄膜的Si片、涂有ZnO粉末的Si片等,研究了不同的种晶层对ZnO纳米结构的形貌的影响。在不同温度下... 采用水热法,用甲酰胺水溶液和锌片建立反应体系,在不同种晶层上制备出不同形貌的ZnO纳米结构,所用基底有Si片、镀有ZnO薄膜的Si片、镀有ITO薄膜的Si片、涂有ZnO粉末的Si片等,研究了不同的种晶层对ZnO纳米结构的形貌的影响。在不同温度下,分别在镀有ZnO薄膜和ITO薄膜的医用载玻片衬底上生长ZnO纳米结构,研究了温度在水热法中的作用及种晶层对纳米杆长度的影响。实验中用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对纳米聚集体进行了表征。SEM表征结果表明不同种晶层上获得的ZnO纳米结构形貌差异很大;反应时间、甲酰胺水溶液浓度以及反应温度对ZnO纳米阵列形貌都有着一定的影响;在ZnO薄膜上生长的纳米杆较在ITO薄膜上生长的纳米杆长。SEM图像同时表明氧化锌纳米杆随着温度的增大,纳米杆的长度和杆径增大。X射线衍射峰在34.6℃有很强的(002)纤锌矿衍射峰,该峰表明衬底上有高度c轴取向的大面积纳米杆阵列和较好的结晶质量。 展开更多
关键词 纳米杆 zno ito 水热法
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透明导电氧化物薄膜材料及其制备技术研究进展 被引量:11
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作者 徐慢 夏冬林 赵修建 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第F11期312-314,322,共4页
综述了透明导电氧化物(TCO)薄膜的结构、光电性能以及TCO薄膜制备技术的研究进展。ITO薄膜性能优异,是重要的平面显示器件用材料。掺铝ZnO薄膜价格低廉,是极具开发前景的ITO薄膜的替代材料。柔性衬底氧化物半导体透明导电薄膜的开发和... 综述了透明导电氧化物(TCO)薄膜的结构、光电性能以及TCO薄膜制备技术的研究进展。ITO薄膜性能优异,是重要的平面显示器件用材料。掺铝ZnO薄膜价格低廉,是极具开发前景的ITO薄膜的替代材料。柔性衬底氧化物半导体透明导电薄膜的开发和应用将扩大TCO薄膜的应用领域。 展开更多
关键词 TCO ito SNO2 zno 光电性能 制备技术
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退火温度对ZnO掺杂ITO薄膜性能的影响 被引量:4
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作者 闫其昂 石培培 +2 位作者 严启荣 牛巧利 章勇 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第3期512-517,共6页
利用电子束蒸镀方法,在K8玻璃衬底上沉积ZnO掺杂ITO(ZnO-ITO)与ITO薄膜。研究不同退火温度对ZnO-ITO薄膜的微观结构的影响;对比分析了在不同退火温度条件下,ZnO-ITO和无掺杂ITO薄膜的光电性能。结果发现,ZnO-ITO薄膜具有较大的晶粒尺寸... 利用电子束蒸镀方法,在K8玻璃衬底上沉积ZnO掺杂ITO(ZnO-ITO)与ITO薄膜。研究不同退火温度对ZnO-ITO薄膜的微观结构的影响;对比分析了在不同退火温度条件下,ZnO-ITO和无掺杂ITO薄膜的光电性能。结果发现,ZnO-ITO薄膜具有较大的晶粒尺寸,随着退火温度的上升,晶体结构得到改善,表面粗糙度减小,薄膜的光电性能显著提高。ZnO-ITO薄膜经过500℃退火后得到最佳的综合性能,其表面均方根粗糙度(RMS)为32.52nm,电阻率为1.43×10-4Ω.cm;对442nm波长的光,透射率可达98.37%;与ITO薄膜相比,ZnO-ITO薄膜具有显著的抗PEDOT:PSS溶液腐蚀的能力。 展开更多
关键词 zno掺杂ito(zno-ito)薄膜 电子束蒸发 退火温度
原文传递
Analysis of Wide-Bandgap Material OPFET UV Detectors for High Dynamic Range Imaging and Communication Applications
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作者 Jaya V. Gaitonde Rajesh B. Lohani 《Communications and Network》 2019年第4期83-117,共35页
The ultraviolet (UV) photoresponses of Wurtzite GaN, ZnO, and 6H-SiC-based Optical Field Effect Transistor (OPFET) detectors are estimated with an in-depth analysis of the same considering the generalized model and th... The ultraviolet (UV) photoresponses of Wurtzite GaN, ZnO, and 6H-SiC-based Optical Field Effect Transistor (OPFET) detectors are estimated with an in-depth analysis of the same considering the generalized model and the front-illuminated model for high resolution imaging and UV communication applications. The gate materials considered for the proposed study are gold (Au) and Indium-Tin-Oxide (ITO) for GaN, Au for SiC, and Au and silver dioxide (AgO2) for ZnO. The results indicate significant improvement in the Linear Dynamic Range (LDR) over the previously investigated GaN OPFET (buried-gate, front-illuminated and generalized) models with Au gate. The generalized model has superior dynamic range than the front-illuminated model. In terms of responsivity, all the models including buried-gate OPFET exhibit high and comparable photoresponses. Buried-gate devices on the whole, exhibit faster response than the surface gate models except in the AgO2-ZnO generalized OPFET model wherein the switching time is the lowest. The generalized model enables faster switching than the front-illuminated model. The switching times in all the cases are of the order of nanoseconds to picoseconds. The SiC generalized OPFET model shows the highest 3-dB bandwidths of 11.88 GHz, 36.2 GHz, and 364 GHz, and modest unity-gain cut-off frequencies of 4.62 GHz, 8.71 GHz, and 5.71 GHz at the optical power densities of 0.575 μW/cm2, 0.575 mW/cm2, and 0.575 W/cm2 respectively. These are in overall, the highest detection-cum-amplifi-cation bandwidths among all the investigated devices. The same device exhibits the highest LDR of 73.3 dB. The device performance is superior to most of the other existing detectors along with comparable LDR, thus, emerging as a high performance photodetector for imaging and communication applications. All the detectors show considerably high detectivities owing to the high responsivity values. The results have been analyzed by the photovoltaic and the photoconductive effects, and the series resistance effects and will aid in conducting further research. The results are in line with the experiments and the commercially available software simulations. The devices will greatly contribute towards single photon counting, high resolution imaging, and UV communication applications. 展开更多
关键词 UV OPFET GaN SiC zno Au ito AgO2 High Dynamic Range Imaging PHOTON COUNTING COMMUNICATION
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In2O3:Sn中间层改善B掺杂ZnO薄膜的性能及其应用研究 被引量:1
18
作者 赵慧旭 陈新亮 +5 位作者 杨旭 杜建 白立沙 陈泽 赵颖 张晓丹 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期310-317,共8页
金属有机化学气相沉积(MOCVD)法生长的掺硼氧化锌(BZO)薄膜,具有天然的"类金字塔"绒面结构,作为硅基薄膜太阳电池的前电极具有良好的陷光效果.但直接获得的BZO薄膜表面形貌过于尖锐,影响后续硅基薄膜材料生长质量及太阳电池... 金属有机化学气相沉积(MOCVD)法生长的掺硼氧化锌(BZO)薄膜,具有天然的"类金字塔"绒面结构,作为硅基薄膜太阳电池的前电极具有良好的陷光效果.但直接获得的BZO薄膜表面形貌过于尖锐,影响后续硅基薄膜材料生长质量及太阳电池的光电转换效率.本文设计了以一层超薄In2O3:Sn(ITO)薄膜(~4 nm厚度)作为中间层的多层膜,并通过对顶层BZO薄膜的厚度调制,改善BZO薄膜的表面特性,薄膜结构为:glass/底层BZO/ITO/顶层BZO.合适厚度的顶层BZO薄膜有助于获得类似"菜花状"形貌特征,尖锐的表面趋于"柔和",而较厚的顶层BZO薄膜仍然保持"类金字塔状"结构."柔和"的BZO薄膜表面结构有助于提高后续生长薄膜电池的结晶质量.将获得的新型"三明治"结构多层膜应用于p-i-n型氢化微晶硅(μc-Si:H)薄膜太阳电池,相比传统的BZO薄膜,电池的量子效率QE在500—800 nm波长范围提高了~10%,并且电池的Jsc和Voc均有所提高. 展开更多
关键词 掺硼氧化锌(BZO)薄膜 In2O3Sn(ito)中间层 表面形貌 太阳电池
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Photoanode Activity of ZnO Nanotube Based Dye-Sensitized Solar Cells 被引量:4
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作者 R. Ranjusha P. Lekha +2 位作者 K.R.V. Subramanian V. Nair Shantikumar A. Balakrishnan 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第11期961-966,共6页
Vertical ZnO nanotube (ZNT) arrays were synthesized onto an indium doped tin oxide (ITO) glass substrate by a simple electrochemical deposition technique followed by a selective etching process. Scanning electron ... Vertical ZnO nanotube (ZNT) arrays were synthesized onto an indium doped tin oxide (ITO) glass substrate by a simple electrochemical deposition technique followed by a selective etching process. Scanning electron microscopy (SEM) showed formation of well-faceted hexagonal ZNT arrays spreading uniformly over a large area. X-ray diffraction (XRD) of ZNT layer showed substantially higher intensity for the (0002) diffraction peak, indicating that the ZnO crystallites were well aligned with their c-axis. Profilometer measurements of the ZNT layer showed an average thickness of -7 μm. Diameter size distribution (DSD) analysis showed that ZNTs exhibited a narrow diameter size distribution in the range of 65-120 nm and centered at -75 nm. The photoluminescence (PL) spectrum measurement showed violet and blue luminescence peaks that were centered at 410 and 480 nm, respectively, indicating the presence of internal defects. Ultra-violet (UV) spectroscopy showed major absorbance peak at ,-348 nm, exhibiting an increase in energy gap value of 3.4 eV. By employing the formed ZNTs as the photo-anode for a dye-sensitized solar cell (DSSC), a full-sun conversion efficiency of 1.01% was achieved with a fill factor of 54%. Quantum efficiency studies showed the maximum of incident photon-to-electron conversion efficiency in a visible region located at 590-550 nm range. 展开更多
关键词 zno nanotubes Indium doped tin oxide ito glass Photoluminescence spectra Electrochemical deposition Quantum efficiency
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