气相法制备ZnS薄膜材料研究进展

综述了近几年ZnS薄膜材料的气相沉积制备方法及其应用,主要讨论了真空蒸发、磁控溅射、脉冲激光沉积、分子束外延、金属有机物化学气相沉积、原子层沉积等制备方法的最新研究进展,指出了ZnS薄膜的各种气相沉积方法的优点和不足以及今后的发展趋势。

贵金属化学气相沉积的研究进展

简要介绍了贵金属薄膜和涂层材料化学气相沉积(CVD)技术的研究进展,包括贵金属的CVD制备方法、沉积贵金属的各种前驱体化合物以及CVD制备的贵金属薄膜和涂层的应用状况等。

化学气相沉积金刚石膜的工程应用

文章是一篇关于化学气相沉积金刚石膜在工程应用方面的简要闸述。由文中引用的应用实例可见,从机械加工用的刀具到地质勘探用的钻头,从拉抜模具到口腔修复等工程技术领域都有它的用武之地。实际应用结果显示,采用化学沉积金刚石膜不仅成本低廉,而且易于实现批量生产,市场前景极佳,工件表面的金刚石涂层可增强工具的耐磨损能力,使其使用寿命大幅度提高;而且其最大的难能可贵的技术优势是可实现在形状复杂的工具上直接沉积金刚石膜。因此,受到各工程技术领域企业的广泛关注。

化学气相沉积法制备金刚石薄膜的工业应用

评述了金刚石薄膜的化学气相沉积方法。介绍了金刚石薄膜在工业中的应用前景,并分析了大规模应用所面临的技术困难。

金刚石膜的功能应用

金刚石是世界上物理和化学性能最优异的材料之一,它的全方位的优良特性显示它具有广阔的应用前景和很大的潜力市场,它被材料学家誉为21世纪材料。面对今天新材料高速发展的挑战,在金刚石薄膜研究和应用领域,需要不断开发和完善CVD金刚石生长技术,开拓CVD金刚石膜在更高层次的声学、热学、光学、电学应用。

物理气相沉积（PVD）硬质薄膜及在工模具上的应用

材料的磨损、腐蚀及其它环境损伤是机械工业面临的基本问题之一，近年来，由离子参与和等离子体增强的各种气相沉积技术为解决这一问题提供了有效的途径。物理气相沉积（PVD）是制备硬质薄膜的主要方法之一，许多技术已实现工业化生产。本文综述了物理气相沉积技术制备的各种机械功能薄膜的性能及在工模具上的应用情况。

半导体用钨硅薄膜的制备技术及应用研究进展

钨硅薄膜具有电阻率低、热稳定性强及抗化学腐蚀性能优异等特点,是半导体集成电路重要的构成部分,主要作为栅极接触层、扩散阻挡层或者黏附层等来进行使用。本文归纳了半导体用钨硅薄膜的制备技术及应用方面的研究进展,首先分别对物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)制备钨硅薄膜的方法进行介绍,并分析了各种制备工艺的优缺点,并进一步对钨硅薄膜在半导体中的主要应用场景进行了介绍。最后分析了钨硅薄膜的未来发展前景,认为随着半导体产业的不断发展及钨硅薄膜应用的持续拓宽,钨硅薄膜的重要性将会进一步显现,钨硅薄膜的制备技术必将获得进一步的提升。

化学气相沉积二硫化钼薄膜的研究进展

总结了二硫化钼薄膜的特性及其在力学、光电、润滑和催化性能方面的广泛应用。归纳了目前化学气相沉积(CVD)技术制备二硫化钼薄膜的主要方法,包括钼(或钼化合物)的硫化,钼前驱体与硫前驱体的直接反应和硫化物的热分解。讨论了化学气相沉积制备二硫化钼薄膜工艺中成核剂、基板和前驱体对薄膜生长过程的影响,分析了二硫化钼和其他硫族化合物生成合金,与其它单层二维材料形成异质结构方面的研究现状,并对该领域今后的研究方向进行了展望。