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Zn_(0.8)Cd_(0.2)Se-ZnSe应变层超晶格的激子发光和受激发射
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作者 郑著宏 关郑平 范希武 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第1期28-32,共5页
本文用MOCVD技术在GaAs衬底上成功地制备了具有波导结构的Zn0.8Cd0.2Se-ZnSe应变层超晶格样品,在77K温度的光致发光光谱中观测到n=1的重空穴和轻空穴激子的辐射复合.在光泵浦下,在波导结构的F-P... 本文用MOCVD技术在GaAs衬底上成功地制备了具有波导结构的Zn0.8Cd0.2Se-ZnSe应变层超晶格样品,在77K温度的光致发光光谱中观测到n=1的重空穴和轻空穴激子的辐射复合.在光泵浦下,在波导结构的F-P腔中观测到具有多模结构的受激发射,受激发射谱中的不同模具有不同的阈值功率密度;时间延迟衰减曲线的半宽度越窄。 展开更多
关键词 超晶格 激子发光 受激发射 阈值 半导体
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ZnS0.8Se0.2 film for high resolution liquid crystal light valve
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作者 沈大可 韩高荣 +2 位作者 杜丕一 阙端麟 SOUI.K 《Journal of Zhejiang University Science》 EI CSCD 2004年第2期212-217,共6页
The structural characteristics and optical and electrical properties of molecular-beam-epitaxy (MBE) grown ZnS0.8Se0.2 thin films on indium-tin-oxide (ITO) glass substrates were investigated in this work. The X-ray di... The structural characteristics and optical and electrical properties of molecular-beam-epitaxy (MBE) grown ZnS0.8Se0.2 thin films on indium-tin-oxide (ITO) glass substrates were investigated in this work. The X-ray diffraction (XRD) results indicated that high quality polycrystalline ZnS0.8Se0.2 thin film grown at the optimized temperature had a preferred orientation along the (111) planes. The transmission electron microscopy (TEM) cross-sectional micrograph of the sample showed a well defined columnar structure with lateral crystal dimension in the order of a few hundred angstroms. Ultraviolet(UV) photoresponsivity as high as 0.01 A/W had been demonstrated and for wavelengths longer than 450 nm, the response was down from the peak response by more than 3 orders of magnitude. The thin ZnS0.8Se0,2 photosensor layer, with a wide energy gap and anisotropic electrical property, makes a transmission UV liquid crystal light valve (LCLV) with high resolution feasible. 展开更多
关键词 UV LCLV Transmission mode Polycrystalline zns0.8se0.2 thin film MBE
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溅射压强和退火气氛对Mg_(0.2)Zn_(0.8)O∶Al紫外透明导电薄膜结构与性能的影响 被引量:1
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作者 王华 燕红 +2 位作者 许积文 江民红 杨玲 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期1526-1530,共5页
以自制Mg0.2Zn0.8O∶Al陶瓷为靶材,采用室温溅射后续退火磁控溅射工艺制备了Mg0.2Zn0.8O∶Al紫外透明导电薄膜。研究了溅射压强和退火气氛对Mg0.2Zn0.8O∶Al薄膜结构和光电性能的影响。结果表明:溅射氩气压强不影响薄膜的相结构,但对薄... 以自制Mg0.2Zn0.8O∶Al陶瓷为靶材,采用室温溅射后续退火磁控溅射工艺制备了Mg0.2Zn0.8O∶Al紫外透明导电薄膜。研究了溅射压强和退火气氛对Mg0.2Zn0.8O∶Al薄膜结构和光电性能的影响。结果表明:溅射氩气压强不影响薄膜的相结构,但对薄膜的取向生长和结晶质量有一定影响;薄膜的方块电阻随溅射压强的增加先大幅减小后有所增大,溅射气压为2.0 Pa时,薄膜的方块电阻最低;不同溅射气压下制备薄膜的透光范围均已扩展到了紫外区域,而且具有85%以上的高透射率,但溅射气压对薄膜的带隙宽度和透光率没有明显影响;室温下溅射制备的薄膜经真空退火处理后其导电性能显著提高,但在空气中退火处理后其导电性能反而有所下降。 展开更多
关键词 Mg0.2zn0.8O∶Al 紫外透明导电薄膜 磁控溅射 溅射压强 退火气氛 光电性能
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溶胶-凝胶法制备Li_xMg_(0.2)Zn_(0.8-x)O四元合金薄膜及其性能表征 被引量:1
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作者 刘凤琼 刘肃 +3 位作者 锁雅芹 尹小丽 常鹏 温燕 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第9期1623-1626,共4页
采用sol-gel法在载玻片上制备了ZnO薄膜和LixMg0.2Zn0.8-xO四元合金薄膜。利用XRD、SEM、PL、范德堡法以及热探针等测试手段对LixMg0.2Zn0.8-xO四元合金薄膜的结构性能、表面形貌、光学特性和电学特性进行了表征。研究发现LixMg0.2Zn0.8... 采用sol-gel法在载玻片上制备了ZnO薄膜和LixMg0.2Zn0.8-xO四元合金薄膜。利用XRD、SEM、PL、范德堡法以及热探针等测试手段对LixMg0.2Zn0.8-xO四元合金薄膜的结构性能、表面形貌、光学特性和电学特性进行了表征。研究发现LixMg0.2Zn0.8-xO四元合金薄膜具有ZnO薄膜的结构特性,相对于ZnO薄膜LixMg0.2Zn0.8-xO四元合金薄膜的结晶性和晶粒尺寸显著提高,并且光致发光强度大大增强。在LixMg0.2Zn0.8-xO四元合金薄膜的光致发光谱中出现了紫外发光峰和可见发光峰,紫外发光峰随着Mg/Zn的值的增加向短波长方向移动,可见光的发光强度较紫光峰的强度更强。LixMg0.2Zn0.8-xO四元合金薄膜的电阻率约为103~104Ω.cm,并随着Li组分的增加而降低。 展开更多
关键词 LixMg0.2zn0.8-xO四元合金薄膜 结晶性 光致发光 电阻率
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退火温度对CuGa_(0.8)Ge_(0.2)Se_2薄膜结构及光学特性的影响 被引量:1
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作者 肖玲玲 丁铁柱 +2 位作者 郑平平 范悦 薄青瑞 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第1期23-26,共4页
采用脉冲激光沉积法在SiO2衬底上制备了CuGa0.8Ge0.2Se2薄膜。采用X射线衍射和X射线能谱仪研究了退火温度对薄膜晶体结构和成分的影响,利用扫描电子显微镜表征了薄膜的表面形貌,采用紫外—可见分光光度计分析了薄膜的光学特性。结果表明... 采用脉冲激光沉积法在SiO2衬底上制备了CuGa0.8Ge0.2Se2薄膜。采用X射线衍射和X射线能谱仪研究了退火温度对薄膜晶体结构和成分的影响,利用扫描电子显微镜表征了薄膜的表面形貌,采用紫外—可见分光光度计分析了薄膜的光学特性。结果表明,在CuGaSe2中掺杂Ⅳ族元素Ge,光子吸收能量分别为0.65和0.92 e V,禁带宽度为1.57 e V,能够形成中间带。并随着退火温度的升高,CuGa0.8Ge0.2Se2薄膜的光学带隙逐渐减小。 展开更多
关键词 退火温度 中间带 脉冲激光沉积法 CuGa0.8Ge0.2se2薄膜
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NaxMg0.2Zn0.8-xO纳米薄膜的光学性能
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作者 张舒婷 端木庆铎 王浚宇 《微纳电子技术》 北大核心 2019年第8期612-616,共5页
采用溶胶-凝胶法在玻璃衬底上以二水乙酸锌(C4H6O4Zn·2H2O)、乙酸镁(C4H14-MgO8)、氯化钠(NaCl)为前驱体制备NaxMg0.2Zn0.8-xO纳米薄膜,借助扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、喇曼光谱及光致发光谱(PL)等手段,对NaxMg0.2Zn0... 采用溶胶-凝胶法在玻璃衬底上以二水乙酸锌(C4H6O4Zn·2H2O)、乙酸镁(C4H14-MgO8)、氯化钠(NaCl)为前驱体制备NaxMg0.2Zn0.8-xO纳米薄膜,借助扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、喇曼光谱及光致发光谱(PL)等手段,对NaxMg0.2Zn0.8-xO薄膜的晶格结构、表面形貌及光学性能进行表征及分析,研究了Na+不同掺杂浓度对NaxMg0.2-Zn0.8-xO薄膜的结构及光学性能的影响。研究结果表明,所有样品均为六方纤锌矿结构;Na+的掺入弥补了MgZnO薄膜本身存在的晶格缺陷,颗粒分布均匀且紧密,晶粒尺寸增大;当x在0~0.04内,x为0.02时,Na0.02Mg0.2Zn0.78O薄膜的结晶性能更加优秀,且缺陷减少,光致发光性能达到最佳。 展开更多
关键词 NaxMg0.2zn0.8-xO 纳米薄膜 光学性能 溶胶-凝胶法 微观结构
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LMBE法生长Mg_(0.2)Zn_(0.8)O及MSM型紫外探测器的制备
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作者 毕臻 张景文 +3 位作者 边旭明 王东 张新安 侯洵 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期1242-1247,共6页
采用激光分子束外延(LMBE)方法在蓝宝石(0001)面生长了高质量的Mg0.2Zn0.8O薄膜,并对薄膜在空气中900℃进行了1h的退火处理,然后采用剥离方法在薄膜表面制作了Al叉指电极,制备出MSM型Mg0.2Zn0.8O光电导紫外探测器.对响应时间的测试表明... 采用激光分子束外延(LMBE)方法在蓝宝石(0001)面生长了高质量的Mg0.2Zn0.8O薄膜,并对薄膜在空气中900℃进行了1h的退火处理,然后采用剥离方法在薄膜表面制作了Al叉指电极,制备出MSM型Mg0.2Zn0.8O光电导紫外探测器.对响应时间的测试表明,探测器的上升时间仅为14.3ns,下降时间为6.5μs. 展开更多
关键词 Mg0.2zn0.8O薄膜 紫外探测器 响应时间
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Mn、Co掺杂ZnO薄膜结构及发光特性研究 被引量:3
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作者 温晓莉 陈长乐 +3 位作者 陈钊 张利学 牛利伟 高国棉 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第4期559-561,共3页
利用脉冲激光沉积(PLD)方法在Si(100)衬底上制备了ZnO、Zn_(0.8)Mn_(0.2)O、Zn_(0.8)Co_(0.2)O薄膜。薄膜的晶体结构和表面形貌采用X射线衍射仪和原子力显微镜测试。表明薄膜具有明显的c轴择优生长取向,薄膜表面较为平整,颗粒尺寸在纳... 利用脉冲激光沉积(PLD)方法在Si(100)衬底上制备了ZnO、Zn_(0.8)Mn_(0.2)O、Zn_(0.8)Co_(0.2)O薄膜。薄膜的晶体结构和表面形貌采用X射线衍射仪和原子力显微镜测试。表明薄膜具有明显的c轴择优生长取向,薄膜表面较为平整,颗粒尺寸在纳米量级,薄膜中晶粒的生长模式为“柱状”模式。此外,Mn、Co掺入后,薄膜的X射线衍射峰有小角度偏移,这与Mn^(2+)、Co^(2+)离子半径有关。PL谱显示Mn、Co掺杂ZnO薄膜的蓝、绿发光峰的位置相对纯的ZnO薄膜没有改变,还出现了紫外发光峰,其中Mn掺杂的蓝、绿光峰的强度减弱,Co掺杂的蓝光峰强度减弱,绿光峰强度增强。这是因为Mn、Co掺入改变了ZnO本征缺陷的浓度,发光峰的强度也随之而改变。 展开更多
关键词 PLD zn0.2 Mn0.80薄膜 zn0.8 Co0.20薄膜 光致发光
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