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ZnSe宽带隙半导体光发射器件 被引量:1
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作者 何兴仁 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2000年第A03期19-24,共6页
ZnSe宽带隙半导体光发射器件是未来全色光显示和高密度光记录用的重要器件。在相继完成材料、掺杂技术 ,以及器件结构相关的研究工作后 ,目前正在攻克器件实用化的关键技术———寿命。介绍了ZnSe的 p型和n型导电材料的控制技术及其LD和... ZnSe宽带隙半导体光发射器件是未来全色光显示和高密度光记录用的重要器件。在相继完成材料、掺杂技术 ,以及器件结构相关的研究工作后 ,目前正在攻克器件实用化的关键技术———寿命。介绍了ZnSe的 p型和n型导电材料的控制技术及其LD和LED的开发进展。 展开更多
关键词 硒化锌 宽带隙 半导体光发射器件 发光二极管
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蓝色波段发光和激光二极管的新进展 被引量:1
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作者 宋登元 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1993年第4期311-318,共8页
文章在简要概述了几种适合制备短波长发光器件材料——SiC,GaN和ZnSe的晶体结构、掺杂性质及外延技术后,主要介绍了它们在制备蓝色波段发光和激光二极管的新进展。
关键词 SIC GAN 发光二极管 激光二极管
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电脉冲下ZnSeLD受激发射
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作者 杨宝均 申德振 +3 位作者 范希武 张吉英 吕有明 郑著宏 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 1999年第1期83-84,共2页
用光助,低压MOCVD方法获得p-ZnSe,p-ZnSSe受主浓度为3×1017cm-3和8×1016~2×1017cm-3的条件下,生长制备了n-ZnSSen-ZnSe/ZnCdSe/p-ZnSep-Z... 用光助,低压MOCVD方法获得p-ZnSe,p-ZnSSe受主浓度为3×1017cm-3和8×1016~2×1017cm-3的条件下,生长制备了n-ZnSSen-ZnSe/ZnCdSe/p-ZnSep-ZnSSe的ZnSeLD结构。在经解理约为1mm腔长样品上,在77K,观测到其蓝绿发光峰值半高宽随脉冲电压增加出现窄化现象,表明有激射产生。 展开更多
关键词 光助低压MOCVD 激光二极管 蓝绿激射
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