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The effects of radiation damage on power VDMOS devices with composite SiO_2-Si_3N_4 films 被引量:1
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作者 高博 刘刚 +5 位作者 王立新 韩郑生 宋李梅 张彦飞 腾瑞 吴海舟 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第3期393-398,共6页
Total dose effects and single event effects on radiation-hardened power vertical double-diffusion metal oxide semiconductor(VDMOS) devices with composite SiO2-Si3N4 film gates are investigated.The relationships amon... Total dose effects and single event effects on radiation-hardened power vertical double-diffusion metal oxide semiconductor(VDMOS) devices with composite SiO2-Si3N4 film gates are investigated.The relationships among the important electrical parameters of the samples with different thickness SiO2-Si3N4 films,such as threshold voltage,breakdown voltage,and on-state resistance in accumulated dose,are discussed.The total dose experiment results show that the breakdown voltage and the on-state resistance barely change with the accumulated dose.However,the relationships between the threshold voltages of the samples and the accumulated dose are more complex,and not only positively drift,but also negatively drift.At the end of the total dose experiment,we select the group of samples which have the smaller threshold voltage shift to carry out the single event effect studies.We find that the samples with appropriate thickness ratio SiO2-Si3N4 films have a good radiation-hardening ability.This method may be useful in solving both the SEGR and the total dose problems with the composite SiO2-Si3N4 films. 展开更多
关键词 power VDMOS device total dose effects single event effects composite sio2-Si3N4 films
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Grain Size and Wettability of TiO_2/SiO_2 Photocatalytic Composite Thin Filing 被引量:11
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作者 Jiaguo Yu, Xiujian Zhao, Jimmy C Yu, Jun Lin (State Key Laboratory of Advanced Technology for Materials Synthesis and Processing, Wuhan University of Technology, Wuhan 430070, China Deportment of Chemised The Chinese University of Hong Kong, Hong Kong, 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2001年第2期81-86,共6页
The uniform transparent TiO2/SiO2 photocatalytic composite thin films are prepared by sol-gel method on the soda lime glass substrates, and characterized by UV-visible spectroscopy, X-ray diffraction (XRD), transmissi... The uniform transparent TiO2/SiO2 photocatalytic composite thin films are prepared by sol-gel method on the soda lime glass substrates, and characterized by UV-visible spectroscopy, X-ray diffraction (XRD), transmission electron microscopy (TEM), BET surface area, FTIR spectroscopy and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). It was found that the addition of SiO2 to TiO2 thin films can suppress the grain growth of TiO2 crystal, increase the hydroxyl content on the surface of TiO2 films, lower the contact angle for water on TiO, films and enhance the hydrophilic property of TiO2 films. The super-hydrophilic TiO2/SiO2 photocatalytic composite thin films with the contact angle of 0((o) under bar) are obtained by the addition of 10%-20% SiO2 in mole fraction. 展开更多
关键词 sol-gel method TiO2/sio2 photocatalytic composite thin films grain size WETTABILITY
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A flexible CNT@nickel silicate composite film for high-performance sodium storage 被引量:2
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作者 Ziyue Zhou Wenping Si +5 位作者 Pengyi Lu Wenlei Guo Lei Wang Tao Zhang Feng Hou Ji Liang 《Journal of Energy Chemistry》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第8期29-37,I0002,共10页
Due to the sufficient ion diffusion channels provided by the large interlayer spacing, layered silicates are widely considered as potential anode materials for lithium ion and sodium ion batteries. However, due to the... Due to the sufficient ion diffusion channels provided by the large interlayer spacing, layered silicates are widely considered as potential anode materials for lithium ion and sodium ion batteries. However, due to the poor electronic conductivity, the application of layered silicates for electrochemical energy storage has been greatly limited. Carbon nanotube(CNT) film has excellent electrical conductivity and a unique interconnected network, making it an ideal matrix for composite electrochemical material. We herein report a CNT@nickel silicate composite film(CNT@NiSiO) fabricated by a SiO2-mediated hydrothermal conversion process, for sodium storage with excellent electrochemical properties. The obtained composite possesses a cladding structure with homogeneous nanosheets as the outermost and CNT film as the inner network matrix, providing abundant ion diffusion channels, high electronic conductivity, and good mechanical flexibility. Due to these merits, this material possesses an excellent electrochemical performance for sodium storage, including a high specific capacity up to 390 mAh g-1 at 50 mA g-1, good rate performance up to 205 mAh g-1 at 500 mA g-1, and excellent cycling stability. On this basis, this work would bring a promising material for various energy storage devices and other emerging applications. 展开更多
关键词 Sodium ion storage Nickel silicate Carbon nanotubes composite film sio2-mediated hydrothermal conversion
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钛金属有机物热解制备TiO_2-SiO_2复合膜及其光催化活性研究 被引量:11
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作者 陈小泉 古国榜 刘焕彬 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2003年第11期1714-1719,共6页
混有一定量SiO2 溶胶的钛金属有机化合物膜液通过旋液成膜法制备前驱物膜 ,经热解得到TiO2 SiO2 复合膜 .于 610℃焙烧 15min所得复合膜 (Ti∶Si =9∶1)经SEM ,XRD ,UV vis和XPS研究表明 ,膜面由 3 0nm× 2 0 0nm大小的晶体粒子组... 混有一定量SiO2 溶胶的钛金属有机化合物膜液通过旋液成膜法制备前驱物膜 ,经热解得到TiO2 SiO2 复合膜 .于 610℃焙烧 15min所得复合膜 (Ti∶Si =9∶1)经SEM ,XRD ,UV vis和XPS研究表明 ,膜面由 3 0nm× 2 0 0nm大小的晶体粒子组成 ,结构致密 ,膜厚约 2 0 0nm ,其可见光透过率为玻璃基质的 80 %,膜表面Ti3 + /OH-的比值为 1 0 6.对不同SiO2 含量的膜液凝胶进行DSC分析显示 ,少量的SiO2 就能显著提高TiO2 锐钛矿型晶相的形成温度 .膜的光催化活性研究表明一定量的Fe3 + 有利于提高膜的光催化活性 ,但是如果以氯化物的形式加入则对光催化反应不利 ,铬的氯化物同样如此 .另外 ,在钛金属有机物热解制备TiO2 SiO2 复合膜中 ,溶胶SiO2 不利于光催化反应 。 展开更多
关键词 钛金属有机物 热解 制备 TIO2-sio2 复合膜 光催化活性 二氧化钛 二氧化硅 催化剂
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射频磁控共溅射制备超亲水TiO_2/SiO_2复合薄膜 被引量:3
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作者 沈杰 沃松涛 +3 位作者 蔡臻炜 崔晓莉 杨锡良 章壮健 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期415-419,共5页
采用射频磁控共溅射法制备了SiO2 /TiO2 复合薄膜 ,通过控制SiO2 靶与TiO2 靶的溅射时间可调节SiO2 与TiO2 的比例。所制备的SiO2 /TiO2 薄膜为锐钛矿结构。实验结果表明 :SiO2 的掺入降低了SiO2 /TiO2 复合薄膜的光催化能力 ,但却提高... 采用射频磁控共溅射法制备了SiO2 /TiO2 复合薄膜 ,通过控制SiO2 靶与TiO2 靶的溅射时间可调节SiO2 与TiO2 的比例。所制备的SiO2 /TiO2 薄膜为锐钛矿结构。实验结果表明 :SiO2 的掺入降低了SiO2 /TiO2 复合薄膜的光催化能力 ,但却提高了薄膜的亲水性的维持时间。其中 ,掺入 6 %~ 13%SiO2 的SiO2 /TiO2 复合薄膜 ,在紫外光照射 30min ,接触角降到 2° ;停止照射后 ,在 5天内接触角小于 6°。 展开更多
关键词 sio2 共溅射法 TIO2薄膜 复合薄膜 接触角 内接 锐钛矿结构 射频 实验结果 照射
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掺铂WO_3-SiO_2复合薄膜结构表征和气致变色性能研究 被引量:2
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作者 徐雪青 沈辉 胡芸菲 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第12期1726-1728,共3页
采用溶胶 凝胶法制备WO3 SiO2 复合薄膜 ,对不同温度热处理的复合薄膜及单一组分薄膜的结构和气致变色性能进行了对比分析 .XRD分析结果表明 ,复合薄膜的晶化温度提高、晶化程度降低 ,存在一定的晶格畸变 ;IR分析结果表明 ,在热处理过... 采用溶胶 凝胶法制备WO3 SiO2 复合薄膜 ,对不同温度热处理的复合薄膜及单一组分薄膜的结构和气致变色性能进行了对比分析 .XRD分析结果表明 ,复合薄膜的晶化温度提高、晶化程度降低 ,存在一定的晶格畸变 ;IR分析结果表明 ,在热处理过程中复合薄膜氧化钨分子间不易缩合 ,分子结构对称性低、变形多 .性能测试结果表明 ,在复合薄膜中 ,WO3 与SiO2 之间的相界等结构缺陷为氢气提供扩散通道 。 展开更多
关键词 复合薄膜 结构 气致变色 氧化钨 二氧化硅
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溅射共沉积GaAs-SiO_2复合薄膜的XPS研究 被引量:1
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作者 石旺舟 林揆训 林璇英 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第4期366-367,共2页
采用X射线光电子能谱(XPS)研究了由GaAs和SiO2组成的复合靶共溅射沉积的GaAs-SiO2复合薄膜的Ga、As和Si的化学结合状态及其沉积时的基片温度对其影响。结果表明:Ga、As和Si分别主要是以GaAs和... 采用X射线光电子能谱(XPS)研究了由GaAs和SiO2组成的复合靶共溅射沉积的GaAs-SiO2复合薄膜的Ga、As和Si的化学结合状态及其沉积时的基片温度对其影响。结果表明:Ga、As和Si分别主要是以GaAs和SiO2的化学组态存在于复合薄膜之中,但当沉积时基片温度上升到一定值后(我们实验中为400℃),有部分的Ga和As被氧化,其氧化量随着基片温度的进一步升高而上升。沉积的SiO2中存在着少量的缺氧缺位。 展开更多
关键词 纳米 复合薄膜 砷化镓 XPS 二氧化硅 半导体
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花蕾状ZnO层/SiO_2多孔网络复合薄膜的制备及其发光特性
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作者 石礼伟 李玉国 +3 位作者 薛成山 庄惠照 王书运 王瑞华 《纳米技术与精密工程》 CAS CSCD 2004年第2期89-92,共4页
采用Zn/SiO2 复合靶 ,用射频磁控共溅射技术在Si( 111)衬底上沉积金属锌 (Zn) /二氧化硅 (SiO2 )基质复合薄膜 ,在空气气氛中 70 0℃条件下进行退火热处理 1h ,Zn从SiO2 基质中析出并在薄膜表面被空气中的O2 氧化 ,合成了花蕾状ZnO层 /S... 采用Zn/SiO2 复合靶 ,用射频磁控共溅射技术在Si( 111)衬底上沉积金属锌 (Zn) /二氧化硅 (SiO2 )基质复合薄膜 ,在空气气氛中 70 0℃条件下进行退火热处理 1h ,Zn从SiO2 基质中析出并在薄膜表面被空气中的O2 氧化 ,合成了花蕾状ZnO层 /SiO2 多孔网络复合薄膜材料 .用X射线衍射 (XRD)、扫描电镜 (SEM )、透射电镜 (TEM )和光致发光谱 (PL)分析了复合薄膜的微结构、组成。 展开更多
关键词 花蕾状氧化锌层 二氧化硅多孔网络 复合薄膜 射频磁控共溅射技术 热氧化 X射线衍射分析
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Si/Ti原子比对TiO_2-SiO_2复合薄膜亲水性能与摩擦磨损性能的影响
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作者 王晓宏 赵青南 +3 位作者 常潇 陆文涛 董玉红 赵杰 《人工晶体学报》 EI CAS 北大核心 2019年第4期579-586,共8页
采用直流(DC)反应磁控溅射法在玻璃上制备了不同Si/Ti原子比的TiO_2-SiO_2复合薄膜。使用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、紫外可见分光光度计、CA-XP150型接触角仪、UMT-2型多功能微摩擦仪,研... 采用直流(DC)反应磁控溅射法在玻璃上制备了不同Si/Ti原子比的TiO_2-SiO_2复合薄膜。使用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱仪(XPS)、紫外可见分光光度计、CA-XP150型接触角仪、UMT-2型多功能微摩擦仪,研究了不同Si/Ti原子比的TiO_2-SiO_2复合薄膜微观结构、表面形貌、亲水性能和摩擦磨损性能。结果表明,所制备的纯TiO_2薄膜具有锐钛矿结构,其平均晶粒尺寸为11 nm,TiO_2-SiO_2复合薄膜呈现非晶结构,其粒子尺寸相对减小;随着Si/Ti原子比的增大,薄膜在可见光区的平均透过率从76. 6%增加到84. 3%。当复合薄膜中Si/Ti原子比为1∶2时,薄膜的摩擦系数为0. 11,薄膜具有最佳的亲水性能;在紫外光照射2 h后水接触角降到3. 0°;在黑暗中放置30 h后水接触角略增加到7. 7°。 展开更多
关键词 TiO2-sio2复合薄膜 Si/Ti比 亲水性能 摩擦性能 直流磁控溅射
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齐聚苯撑乙烯-二氧化硅复合膜的制备及其光电性质研究 被引量:11
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作者 汤钧 曹亚安 +3 位作者 王莹 谢腾峰 王德军 杨柏 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期698-699,共2页
The oligo phenylene vinylene(oligo PV)/SiO 2 composite film was prepared by the sol gel process. The surface photovoltage spectroscopy(SPS) and electric field induced surface photovoltage spectroscopy(EFISPS) had been... The oligo phenylene vinylene(oligo PV)/SiO 2 composite film was prepared by the sol gel process. The surface photovoltage spectroscopy(SPS) and electric field induced surface photovoltage spectroscopy(EFISPS) had been used to investigate the charge transport process in olige PV/SiO 2 heterostructured composite. The results show that the oligo PV / SiO 2 composite film not only can improve the stability of oligo PV, but also have some photoelectric activity. 展开更多
关键词 齐聚苯撑乙烯-二氧化硅复合膜 光电性质 溶胶-凝胶法 制备 光电器件 聚合物材料
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纳米GaSb-SiO_2复合薄膜的非线性光学特性 被引量:12
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作者 刘发民 王天民 张立德 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第1期183-186,共4页
利用射频磁控共溅射的方法制备出纳米GaSb SiO2 镶嵌复合薄膜 .用Cary 5E分光光度计分析研究了复合薄膜的室温透射光吸收特性 .用Z扫描方法测量了复合薄膜在 63 2 8nm处大的双光子吸收系数 β≈ 0 0 82m W ,非线性折射率γ≈ 3 76... 利用射频磁控共溅射的方法制备出纳米GaSb SiO2 镶嵌复合薄膜 .用Cary 5E分光光度计分析研究了复合薄膜的室温透射光吸收特性 .用Z扫描方法测量了复合薄膜在 63 2 8nm处大的双光子吸收系数 β≈ 0 0 82m W ,非线性折射率γ≈ 3 76× 10 - 9m2 W及非线性系数 χ( 3) ≈ 7 84× 10 - 9esu . 展开更多
关键词 纳米GaSb 双光子吸收 光学非线性 纳米半导体 复合薄膜 锑化镓
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