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离子束辅助真空电弧沉积Zr—Ni—N薄膜的研究 被引量:1
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作者 吴健 胡社军 +2 位作者 曾鹏 李宇恒 谢光荣 《工具技术》 北大核心 2006年第12期15-17,共3页
采用多弧离子镀技术在高速钢和单晶硅基体上制备Zr-Ni-N复合薄膜,研究了低能氮离子束对Zr-Ni-N涂层结构、表面形貌和硬度的影响。研究表明:用低能氮离子束辅助真空电弧沉积Zr-Ni-N膜,ZrN结构在(111)晶面出现一定的择优取向,并对Zr-Ni-N... 采用多弧离子镀技术在高速钢和单晶硅基体上制备Zr-Ni-N复合薄膜,研究了低能氮离子束对Zr-Ni-N涂层结构、表面形貌和硬度的影响。研究表明:用低能氮离子束辅助真空电弧沉积Zr-Ni-N膜,ZrN结构在(111)晶面出现一定的择优取向,并对Zr-Ni-N膜层有一定的强化作用,膜层表现出较高的显微硬度。 展开更多
关键词 离子束 真空多弧离子镀 zr-ni-n薄膜
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