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题名Al含量对真空电弧沉积ZrAlN薄膜性能的影响
被引量:3
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作者
秦聪祥
胡社军
汝强
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机构
山东理工大学机械工程学院
华南师范大学物理与电信工程学院
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出处
《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第3期1-3,23,共4页
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基金
国家自然科学基金资助项目(50271019)
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文摘
利用等离子体辅助电弧沉积技术在高速钢片和单晶硅片P(100)上沉积ZrAlN多元薄膜,利用扫描电镜、能谱分析、X射线衍射对薄膜进行了结构和形貌表征,利用显微硬度计、摩擦磨损试验仪对薄膜的性能进行了检测,并研究了铝含量对薄膜组织结构、形貌、显微硬度及耐磨性能等的影响。结果表明:ZrAlN多元薄膜有(111)面的择优取向,随Al含量的增加,(111)衍射峰的位置向小角度偏移,当Al原子分数大于3%时,薄膜中出现AlN相;随着Al含量的增加,薄膜的硬度和耐磨损性能先增加后降低,在Al原子分数为3%时,获最高硬度1570HV0.5N和最小磨痕宽度93μm,这是薄膜中Al含量不同引起晶体结构变化造成的。
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关键词
ZrAlN涂层
离子束辅助沉积
电弧离子镀
高速钢片
单晶硅片
性能
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Keywords
zrain film
ion beam assisted deposition
electric-arc ion-plating
high-speed steel
single crystal Si wafer
properties
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分类号
TG174.444
[金属学及工艺—金属表面处理]
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