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β-BBO基ZrO_2/SiO_2倍频增透膜的结构和成分对光学性能的影响
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作者 陈长琦 鲁嘉 +3 位作者 方应翠 王君 李万福 周瑞 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期413-417,430,共6页
利用Macload软件对四层ZrO2/SiO2膜系进行优化设计,以β-偏硼酸钡晶体(-βBaB2O4)为基底,采用电子束蒸发方法、离子束辅助沉积技术和真空退火处理,制备出ZrO2/SiO2非规整倍频增透膜,其在波长532 nm和1064 nm处反射率小于0.35%和透射率高... 利用Macload软件对四层ZrO2/SiO2膜系进行优化设计,以β-偏硼酸钡晶体(-βBaB2O4)为基底,采用电子束蒸发方法、离子束辅助沉积技术和真空退火处理,制备出ZrO2/SiO2非规整倍频增透膜,其在波长532 nm和1064 nm处反射率小于0.35%和透射率高于90%,与软件设计膜系得到的理论值相一致。研究结果表明薄膜的填隙密度越高,致密度越好,其光学性能也越好。 展开更多
关键词 zro2/sio2非规整倍频增透膜 光学性能 电子束蒸发 离子束辅助沉积技术 真空退火
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