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β-BBO基ZrO_2/SiO_2倍频增透膜的结构和成分对光学性能的影响
1
作者
陈长琦
鲁嘉
+3 位作者
方应翠
王君
李万福
周瑞
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第6期413-417,430,共6页
利用Macload软件对四层ZrO2/SiO2膜系进行优化设计,以β-偏硼酸钡晶体(-βBaB2O4)为基底,采用电子束蒸发方法、离子束辅助沉积技术和真空退火处理,制备出ZrO2/SiO2非规整倍频增透膜,其在波长532 nm和1064 nm处反射率小于0.35%和透射率高...
利用Macload软件对四层ZrO2/SiO2膜系进行优化设计,以β-偏硼酸钡晶体(-βBaB2O4)为基底,采用电子束蒸发方法、离子束辅助沉积技术和真空退火处理,制备出ZrO2/SiO2非规整倍频增透膜,其在波长532 nm和1064 nm处反射率小于0.35%和透射率高于90%,与软件设计膜系得到的理论值相一致。研究结果表明薄膜的填隙密度越高,致密度越好,其光学性能也越好。
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关键词
zro2/sio2非规整倍频增透膜
光学性能
电子束蒸发
离子束辅助沉积技术
真空退火
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职称材料
题名
β-BBO基ZrO_2/SiO_2倍频增透膜的结构和成分对光学性能的影响
1
作者
陈长琦
鲁嘉
方应翠
王君
李万福
周瑞
机构
合肥工业大学
合肥普乐光技术有限公司
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第6期413-417,430,共6页
文摘
利用Macload软件对四层ZrO2/SiO2膜系进行优化设计,以β-偏硼酸钡晶体(-βBaB2O4)为基底,采用电子束蒸发方法、离子束辅助沉积技术和真空退火处理,制备出ZrO2/SiO2非规整倍频增透膜,其在波长532 nm和1064 nm处反射率小于0.35%和透射率高于90%,与软件设计膜系得到的理论值相一致。研究结果表明薄膜的填隙密度越高,致密度越好,其光学性能也越好。
关键词
zro2/sio2非规整倍频增透膜
光学性能
电子束蒸发
离子束辅助沉积技术
真空退火
Keywords
zro
2
/sio
2
second harmonics anti-reflection films, Optical property, E-beam evaporation, Assistance ionbeam depisition technology, Vacuum anneal
分类号
TB321 [一般工业技术—材料科学与工程]
O484.41 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
β-BBO基ZrO_2/SiO_2倍频增透膜的结构和成分对光学性能的影响
陈长琦
鲁嘉
方应翠
王君
李万福
周瑞
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
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职称材料
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