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a-Si:O:H对硅平面三极管的表面钝化
1
作者
邹永庆
华厚玉
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995年第3期41-43,共3页
采用a-Si:O:H对硅平面三极管表面进行二次钝化,可以使器件正向特性曲线明显变平,饱和区、截止区变窄,反向击穿特性显著变硬,击穿电压有所提高,漏电流有了较大的减小,而且具有较强的Na ̄+阻挡能力。
关键词
硅
平面
三极管
表面钝化
硅
器件
a-硅∶氧∶氢
下载PDF
职称材料
题名
a-Si:O:H对硅平面三极管的表面钝化
1
作者
邹永庆
华厚玉
机构
淮北煤炭师院物理系
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995年第3期41-43,共3页
文摘
采用a-Si:O:H对硅平面三极管表面进行二次钝化,可以使器件正向特性曲线明显变平,饱和区、截止区变窄,反向击穿特性显著变硬,击穿电压有所提高,漏电流有了较大的减小,而且具有较强的Na ̄+阻挡能力。
关键词
硅
平面
三极管
表面钝化
硅
器件
a-硅∶氧∶氢
分类号
TN325.2 [电子电信—物理电子学]
TN305.2 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
a-Si:O:H对硅平面三极管的表面钝化
邹永庆
华厚玉
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1995
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