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a-Si:O:H对硅平面三极管的表面钝化
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作者 邹永庆 华厚玉 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1995年第3期41-43,共3页
采用a-Si:O:H对硅平面三极管表面进行二次钝化,可以使器件正向特性曲线明显变平,饱和区、截止区变窄,反向击穿特性显著变硬,击穿电压有所提高,漏电流有了较大的减小,而且具有较强的Na ̄+阻挡能力。
关键词 平面 三极管 表面钝化 器件 a-硅∶氧∶氢
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