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微波功率对a-C:F薄膜结构和光学性质的影响
1
作者
黄峰
程珊华
+3 位作者
宁兆元
杨慎东
叶超
甘肇强
《材料科学与工程》
CSCD
北大核心
2001年第4期32-36,共5页
用苯 (C6H6)和四氟甲烷 (CF4 )混合气体作源气体 ,用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积技术制备了含氟非晶碳膜 (a C :F)。着重讨论了输入的微波功率对成膜结构和性质的影响。我们对沉积的膜作了膜厚、扫描电子显微表面形貌 (SEM)...
用苯 (C6H6)和四氟甲烷 (CF4 )混合气体作源气体 ,用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积技术制备了含氟非晶碳膜 (a C :F)。着重讨论了输入的微波功率对成膜结构和性质的影响。我们对沉积的膜作了膜厚、扫描电子显微表面形貌 (SEM)、紫外 -可见光透射谱 (UV -VIS)、傅立叶红外变换 (FTIR)等的测量。结果表明随着微波功率的增加沉积速率一直在上升 ;同时膜中缺陷增多 ;从FTIR的结果我们发现膜中主要以C -F、CF2 和F -芳基成键 ;通过UV -VIS吸收谱的测量的结果我们求出了折射率和光学带隙 ;并且将光学带隙和膜中的sp2
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关键词
a-c
:
f
膜
微波功率
结构
光学性质
含氟非晶碳
膜
微波电子回旋光振等离子化学气相沉积
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职称材料
题名
微波功率对a-C:F薄膜结构和光学性质的影响
1
作者
黄峰
程珊华
宁兆元
杨慎东
叶超
甘肇强
机构
苏州大学物理系
出处
《材料科学与工程》
CSCD
北大核心
2001年第4期32-36,共5页
文摘
用苯 (C6H6)和四氟甲烷 (CF4 )混合气体作源气体 ,用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积技术制备了含氟非晶碳膜 (a C :F)。着重讨论了输入的微波功率对成膜结构和性质的影响。我们对沉积的膜作了膜厚、扫描电子显微表面形貌 (SEM)、紫外 -可见光透射谱 (UV -VIS)、傅立叶红外变换 (FTIR)等的测量。结果表明随着微波功率的增加沉积速率一直在上升 ;同时膜中缺陷增多 ;从FTIR的结果我们发现膜中主要以C -F、CF2 和F -芳基成键 ;通过UV -VIS吸收谱的测量的结果我们求出了折射率和光学带隙 ;并且将光学带隙和膜中的sp2
关键词
a-c
:
f
膜
微波功率
结构
光学性质
含氟非晶碳
膜
微波电子回旋光振等离子化学气相沉积
Keywords
microwave ECR CVD
a C:
f
thin
f
ilm
microwave power
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
微波功率对a-C:F薄膜结构和光学性质的影响
黄峰
程珊华
宁兆元
杨慎东
叶超
甘肇强
《材料科学与工程》
CSCD
北大核心
2001
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职称材料
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