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工艺参数对a-CN_x膜沉积的影响
被引量:
1
1
作者
肖兴成
江伟辉
+2 位作者
宋力昕
田静芬
胡行方
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第1期183-187,共5页
研究了基本工艺参数对磁控溅射制备无定形氮化碳(a-CNx)薄膜沉积的影响.实验结果表明:N2流量的增加提高了膜的沉积速率,同时提高了膜中氮含量.溅射功率的提高增加了沉积速率.偏压对硬质膜的制备是一关键的工艺参数,它不...
研究了基本工艺参数对磁控溅射制备无定形氮化碳(a-CNx)薄膜沉积的影响.实验结果表明:N2流量的增加提高了膜的沉积速率,同时提高了膜中氮含量.溅射功率的提高增加了沉积速率.偏压对硬质膜的制备是一关键的工艺参数,它不仅使薄膜致密、表面光滑,而且还可以提高膜中的N含量.
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关键词
a-cnx膜
工艺参数
沉积
薄
膜
磁控溅射
氮化碳
下载PDF
职称材料
题名
工艺参数对a-CN_x膜沉积的影响
被引量:
1
1
作者
肖兴成
江伟辉
宋力昕
田静芬
胡行方
机构
中国科学院上海硅酸盐研究所
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第1期183-187,共5页
基金
国家攀登计划!07-01
国家自然科学基金!59782006
中国科学院上海硅酸盐研究所所长择优基金!SZ97-4
文摘
研究了基本工艺参数对磁控溅射制备无定形氮化碳(a-CNx)薄膜沉积的影响.实验结果表明:N2流量的增加提高了膜的沉积速率,同时提高了膜中氮含量.溅射功率的提高增加了沉积速率.偏压对硬质膜的制备是一关键的工艺参数,它不仅使薄膜致密、表面光滑,而且还可以提高膜中的N含量.
关键词
a-cnx膜
工艺参数
沉积
薄
膜
磁控溅射
氮化碳
Keywords
a-CN_x films
processing parameters
deposition.
分类号
TQ127.12 [化学工程—无机化工]
O484 [理学—固体物理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
工艺参数对a-CN_x膜沉积的影响
肖兴成
江伟辉
宋力昕
田静芬
胡行方
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000
1
下载PDF
职称材料
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