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工艺参数对a-CN_x膜沉积的影响 被引量:1
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作者 肖兴成 江伟辉 +2 位作者 宋力昕 田静芬 胡行方 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第1期183-187,共5页
研究了基本工艺参数对磁控溅射制备无定形氮化碳(a-CNx)薄膜沉积的影响.实验结果表明:N2流量的增加提高了膜的沉积速率,同时提高了膜中氮含量.溅射功率的提高增加了沉积速率.偏压对硬质膜的制备是一关键的工艺参数,它不... 研究了基本工艺参数对磁控溅射制备无定形氮化碳(a-CNx)薄膜沉积的影响.实验结果表明:N2流量的增加提高了膜的沉积速率,同时提高了膜中氮含量.溅射功率的提高增加了沉积速率.偏压对硬质膜的制备是一关键的工艺参数,它不仅使薄膜致密、表面光滑,而且还可以提高膜中的N含量. 展开更多
关键词 a-cnx膜 工艺参数 沉积 磁控溅射 氮化碳
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