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双层结构对ZnO TFT稳定性的影响
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作者 张悦 高晓红 +2 位作者 王晗 王森 孙玉轩 《吉林建筑大学学报》 CAS 2024年第2期76-82,共7页
室温下采用射频磁控溅射方法在SiO_(2)/Si衬底上沉积了单层ZnO薄膜和高氧/低氧双层ZnO薄膜,采用电子束蒸发设备蒸镀Al电极,制备单沟道ZnO TFTs和双层沟道ZnO TFTs。比较两种结构ZnO TFTs的各种性能参数,分析双层结构对TFTs产生的影响。... 室温下采用射频磁控溅射方法在SiO_(2)/Si衬底上沉积了单层ZnO薄膜和高氧/低氧双层ZnO薄膜,采用电子束蒸发设备蒸镀Al电极,制备单沟道ZnO TFTs和双层沟道ZnO TFTs。比较两种结构ZnO TFTs的各种性能参数,分析双层结构对TFTs产生的影响。实验结果表明,底部高含氧量ZnO层和顶部低含氧量ZnO层构成了DAL同质结且高氧/低氧薄膜存在载流子浓度产差,利用载流子从高浓度向低浓度扩散的性质,可以填补栅介电层和沟道层之间的界面态缺陷,使器件界面类受主陷阱减少,有效降低TFTs的滞回现象。与单有源层TFTs相比,双沟道层TFTs还具有电学调制作用,其电学性能和稳定性均有明显的提高,得到最佳TFTs的开/关电流比达到3.44×10^(9),亚阈值摆幅为0.68 V/dec,阈值电压偏移为1.2 V。 展开更多
关键词 ZNO薄膜 ZnO tft 滞回稳定性 双层结构
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不同退火氛围下MgZnO-TFT的制备及其性能
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作者 王超 郝云鹏 +2 位作者 郭亮 杨帆 乔国光 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2024年第10期1295-1303,共9页
为探求退火氛围对镁锌氧化物薄膜晶体管性能的影响,本文采用射频磁控溅射法制备了MgZnO薄膜,并以其为沟道层构建了底栅顶接触结构的MgZnO-TFT器件。将所制备的MgZnO薄膜分别在空气、真空、氧气、氮气4种不同氛围下进行500℃、时长1 h的... 为探求退火氛围对镁锌氧化物薄膜晶体管性能的影响,本文采用射频磁控溅射法制备了MgZnO薄膜,并以其为沟道层构建了底栅顶接触结构的MgZnO-TFT器件。将所制备的MgZnO薄膜分别在空气、真空、氧气、氮气4种不同氛围下进行500℃、时长1 h的退火处理,通过原子力显微镜扫描(AFM)和X射线光电子能谱(XPS)技术对薄膜进行表征分析,结果表明,在真空氛围下退火处理后,MgZnO薄膜质量较好,器件性能最佳,场效应迁移率为0.29 cm^(2)·V^(-1)·s^(-1),阈值电压为2.28 V,亚阈值摆幅为3.6 V·dec^(-1),电流开关比为1.68×10^(6)。分析认为,这可能是由于在真空氛围下退火时可以在一定程度上隔绝外界干扰,有效避免了有源层薄膜缺陷的产生。同时我们研究测试了器件的正偏压应力(PBS)和负偏压应力(NBS)的稳定性。在不同栅偏压应力下,TFT均展现了良好的稳定性。在正偏置压力为10 V、应力时间为3000 s时,相比ZnO-TFT,真空氛围下进行退火优化的MgZnO-TFT阈值电压漂移从1.38 V降低至0.54 V。结果表明,在氧化锌中掺杂镁元素制备MgZnO薄膜作为TFT的有源层对TFT器件的电学稳定性有一定程度的改善。 展开更多
关键词 MgZnO-tft 退火氛围 XPS 稳定性
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原子层沉积法制备鸡蛋清栅介质ZnO-TFT及其性能研究
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作者 王聪 黄荷 +1 位作者 刘玉荣 彭强 《电子器件》 CAS 2024年第3期865-869,共5页
采用原子层沉积法(ALD),以天然鸡蛋清作为栅介质制备双电层氧化锌薄膜晶体管(ZnO-TFT),并对其电性能进行测试与分析,研究了该器件在栅偏压应力条件下和空气环境下电学性能的稳定性。结果表明,氧化锌薄膜晶体管电特性表现良好,阈值电压为... 采用原子层沉积法(ALD),以天然鸡蛋清作为栅介质制备双电层氧化锌薄膜晶体管(ZnO-TFT),并对其电性能进行测试与分析,研究了该器件在栅偏压应力条件下和空气环境下电学性能的稳定性。结果表明,氧化锌薄膜晶体管电特性表现良好,阈值电压为0.73 V,载流子饱和迁移率为9.95 cm^(2)/(V·s),开关电流比为1.8×10^(4),亚阈值摆幅为0.33 V/decade,工作电压可低至3.0 V。研究还发现,在正栅偏压应力作用下或在空气环境下器件的电性能皆呈现出不稳定性。栅偏压应力不稳定性主要与栅介质层界面处正电荷集聚及新缺陷态的产生有关;干燥空气环境下电性能的退化可解释为沟道有源层吸附空气中的氧气导致沟道层中载流子有所消耗,以及鸡蛋清电解质被氧化而引起双电层效应的退化。 展开更多
关键词 氧化锌薄膜晶体管 偏压应力 稳定性 双电层 原子层沉积
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湿法刻蚀条件对TFT中Cu电极坡度角和均一性的影响及工艺参数优化
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作者 刘丹 陈国良 +5 位作者 黄中浩 方亮 李晨雨 陈启超 吴芳 张淑芳 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第2期213-220,共8页
目的 在高世代薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)产线的栅极刻蚀制程,明确大气压等离子体(Atmosphere Pressure Plasma,APP)清洗功率、清洗时间及刻蚀时间对刻蚀性能(关键尺寸偏差、均一性、坡度角)的影响规律,并获得最佳工艺条件,... 目的 在高世代薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)产线的栅极刻蚀制程,明确大气压等离子体(Atmosphere Pressure Plasma,APP)清洗功率、清洗时间及刻蚀时间对刻蚀性能(关键尺寸偏差、均一性、坡度角)的影响规律,并获得最佳工艺条件,进而提升良率。方法 以APP清洗功率、清洗时间和刻蚀时间为影响因素,以关键尺寸偏差(CD Bias)、均一性、坡度角作为因变量,开展正交试验,明确因素影响重要性顺序;然后,对Cu电极坡度角的形成和刻蚀均一性变化进行分析;最后,采用回归分析获得刻蚀性能与刻蚀时间的函数关系式。结果 结果表明:刻蚀时间对刻蚀性能的影响最大,对APP清洁时间和功率的影响较小。刻蚀时间延长,关键尺寸偏差(CD Bias)增加、均一性变差、坡度角变大。为改善均一性和平缓坡度角,应缩短刻蚀时间。最佳工艺组合为:刻蚀时间85 s,APP电压9 kV,APP传输速度5 400 r/min。结论 刻蚀时间延长,未被光刻胶覆盖的Cu膜层被完全刻蚀,形成台阶,该台阶使刻蚀液形成回流路径。沿着回流路径,刻蚀液浓度、温度逐渐下降,刻蚀均一性由此恶化,坡度角因此增加。采用回归分析得到的刻蚀性能与刻蚀时间的函数关系式,为预测刻蚀效果和优选刻蚀时间提供了依据。 展开更多
关键词 薄膜晶体管 湿法刻蚀 CU电极 刻蚀均一性 坡度角 正交试验
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调整彩色滤光膜的致密性和疏水性以减少TFT-LCD制造中的气体释放
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作者 李吉 张霞 +4 位作者 冯翊 廖昌 张杰 尹勇明 孟鸿 《中国光学(中英文)》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第3期704-713,共10页
TFT-LCD产业正朝着高效率、低成本的方向发展。在TFT-LCD制造过程中,发现不同的光刻胶需要不同的真空干燥时间。为了减少制造时间,提高面板成品率,有必要明确影响真空时间的因素。本文探讨了抽运时间与光刻胶材料性能的关系。发现光刻... TFT-LCD产业正朝着高效率、低成本的方向发展。在TFT-LCD制造过程中,发现不同的光刻胶需要不同的真空干燥时间。为了减少制造时间,提高面板成品率,有必要明确影响真空时间的因素。本文探讨了抽运时间与光刻胶材料性能的关系。发现光刻胶的热稳定性与抽运时间的关系可以忽略不计。光刻胶的致密性和疏水性与真空干燥时间密切相关。致密性和高疏水性可以有效避免水蒸气在制造过程中侵入和储存在光刻胶中,减少泵送次数。总的来说,这项工作可以为未来TFT-LCD工业新型光刻胶的开发提供一定的参考。 展开更多
关键词 液晶显示器 彩色滤光膜 气体释放 致密性 疏水性
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TFT-LCD表面Mura缺陷的AOI检测研究进展
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作者 陈泽康 沈奕 +2 位作者 翟晨阳 董晨瑶 王双喜 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2024年第11期1463-1476,共14页
液晶显示屏幕的表面缺陷检测是保证TFT-LCD等液晶显示屏质量稳定性的关键。得益于在检测表面缺陷方面高效率、低成本的优势,机器视觉技术目前已经成为TFT-LCD质量检测的主要手段。本文首先概述了液晶屏的发展历程,列举了常见Mura缺陷的... 液晶显示屏幕的表面缺陷检测是保证TFT-LCD等液晶显示屏质量稳定性的关键。得益于在检测表面缺陷方面高效率、低成本的优势,机器视觉技术目前已经成为TFT-LCD质量检测的主要手段。本文首先概述了液晶屏的发展历程,列举了常见Mura缺陷的类型,分别介绍了基于传统图像处理和基于深度学习的Mura缺陷检测方法,概述了图像滤波和图像亮度校正等图像预处理技术的研究动态。本文重点阐述了监督学习、无监督学习和迁移学习等人工智能技术在TFT-LCD表面Mura缺陷检测领域的应用,并对基于机器视觉的TFT-LCD表面Mura缺陷检测的技术发展趋势进行了展望。 展开更多
关键词 tft-LCD Mura缺陷 机器视觉 图像处理 深度学习
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不同宽长比的柔性LTPS TFT的电应力可靠性
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作者 张之壤 朱慧 +3 位作者 刘行 张轶群 徐朝 郑文轩 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第6期589-595,共7页
为了研究不同宽长比的柔性低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS TFT)的电应力可靠性,测试了器件的I-V特性,以表征器件在强电场直流应力下由于自热效应和热载流子效应带来的电学性能退化。通过瞬态电流法表征了器件在强电场直流应力下的时间常数谱... 为了研究不同宽长比的柔性低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS TFT)的电应力可靠性,测试了器件的I-V特性,以表征器件在强电场直流应力下由于自热效应和热载流子效应带来的电学性能退化。通过瞬态电流法表征了器件在强电场直流应力下的时间常数谱,并对其产生的新陷阱进行定位,分析了产生陷阱的内在机理。结果表明,在相同的强电场直流应力下宽长比为3/2.5的器件,其电学参数变化最大,自热效应以及热载流子效应带来的影响也最大。自热效应导致器件性能退化的主要原因是较大的栅源电压导致Si/SiO2界面处和栅氧化层中的陷阱增多,而热载流子效应导致器件性能退化的主要原因则是由于较大的漏源电压使得漏极晶界陷阱态密度急剧升高。 展开更多
关键词 柔性低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS tft) 自热效应 热载流子效应 瞬态电流 强电场直流应力
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TFT-LCD产品缺陷与用户破膜数相关性研究
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作者 李鑫瑞 庞西荣 +1 位作者 华珍 张建武 《中国建材科技》 CAS 2024年第S01期37-42,共6页
通过对TFT-LCD玻璃产品缺陷与用户在使用同批次产品中破膜数据的相关性研究,提前预测产品在用户端发生破膜问题的比例。以便更合理地优化产品质量控制。
关键词 玻璃基板 破膜 缺陷
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不同退火条件下溶液法制备TZO-TFT器件电学性能分析
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作者 张轶强 闫兴振 +1 位作者 刘国祥 纪雷阳 《吉林建筑大学学报》 CAS 2024年第3期83-88,共6页
近年来,随着电子产品的大量更新迭代,人们对产品性能要求越来越高,半导体材料与薄膜制备技术成为信息时代发展的重要支柱。传统的磁控溅射法制备薄膜晶体管,存在需要真空制备条件、光刻工艺制备复杂、制备成本高等问题。本文采用溶液法... 近年来,随着电子产品的大量更新迭代,人们对产品性能要求越来越高,半导体材料与薄膜制备技术成为信息时代发展的重要支柱。传统的磁控溅射法制备薄膜晶体管,存在需要真空制备条件、光刻工艺制备复杂、制备成本高等问题。本文采用溶液法制备TZO溶液,旋涂法制备有源层薄膜,并用掩膜版直接生长圆形源漏电极制备薄膜晶体管,研究在不同的退火温度(350℃,550℃,750℃)和不同的退火氛围(真空退火、空气退火)条件下对所制备器件性能的影响。通过实验得出:溶液法制备的TZO-TFT薄膜晶体管,升高热处理温度可以改善器件的电学性能,在550℃的真空条件下对其进行退火,获得了较好的性能,其开关比达到8.04×10^(4),迁移率达到1.04 cm^(2)·(V·s)^(-1),器件的性能稳定。 展开更多
关键词 溶液法 TZO-tft 退火温度 退火氛围
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水解酸化+两级AO/MBR+臭氧催化氧化+BAF+气浮处理TFT-LCD废水
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作者 关永年 《工业水处理》 CAS CSCD 北大核心 2024年第10期207-214,共8页
以某薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)企业的废水处理厂为例,对其接纳的废水进行分析。针对废水成分复杂、水质变化大、污染物浓度高、可生化性差以及排放要求高的特点,将废水分为有机废水、酸碱废水和含氟废水进行分类收集、分质预处理,... 以某薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)企业的废水处理厂为例,对其接纳的废水进行分析。针对废水成分复杂、水质变化大、污染物浓度高、可生化性差以及排放要求高的特点,将废水分为有机废水、酸碱废水和含氟废水进行分类收集、分质预处理,经预处理后的3种废水混合后再进行进一步处理。根据混合废水的水质特性,设计开发了水解酸化+两级AO/MBR+臭氧催化氧化+BAF(DN型)+气浮+次氯酸钠消毒的组合处理工艺。运行结果表明,该组合工艺运行稳定,试运行期间平均出水COD、BOD_(5)、NH_(3)-N、TP、TN、SS、F^(-)、总铜分别为15、2.1、0.16、0.13、3.8、2、0.81、0.19 mg/L,出水水质能够稳定达到设计要求,直接运行成本约5.17元/m^(3)。 展开更多
关键词 tft-LCD废水 水解酸化 两级AO/MBR 臭氧催化氧化 曝气生物滤池 气浮
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基于化学清洗技术的TFT设备表面污染物去除与界面优化研究
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作者 戎家亮 《新潮电子》 2024年第10期160-162,共3页
本研究聚焦于TFT设备表面污染问题,旨在通过化学清洗技术有效去除表面污染物,并对界面进行优化。我们系统地归纳了TFT设备表面的污染种类,并探究了其产生的原因与影响因素,发现油污、灰尘等都会严重影响设备性能。为此,我们研究了化学... 本研究聚焦于TFT设备表面污染问题,旨在通过化学清洗技术有效去除表面污染物,并对界面进行优化。我们系统地归纳了TFT设备表面的污染种类,并探究了其产生的原因与影响因素,发现油污、灰尘等都会严重影响设备性能。为此,我们研究了化学清洗技术,详尽阐述了清洗的原理、清洗剂的选择及工艺流程,对于提升TFT设备生产过程的质量控制与性能提升具有重要意义。 展开更多
关键词 tft设备表面污染 化学清洗技术 界面优化 性能提升
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TFT-LCD液晶玻璃断面分析装置的设计与仿真
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作者 施瑞 侯宏荣 +1 位作者 付丽丽 徐阳 《玻璃搪瓷与眼镜》 CAS 2024年第2期46-51,共6页
薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)液晶玻璃的大尺寸裁切断面无法使用显微镜采集图片,针对这个问题,设计了相应的玻璃断面分析装置,并应用Adams软件对该装置中的滑动螺旋机构进行仿真分析和结构优化。所设计的玻璃断面分析装置操作简单,可... 薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)液晶玻璃的大尺寸裁切断面无法使用显微镜采集图片,针对这个问题,设计了相应的玻璃断面分析装置,并应用Adams软件对该装置中的滑动螺旋机构进行仿真分析和结构优化。所设计的玻璃断面分析装置操作简单,可快速获取大尺寸玻璃边料断面缺陷图片,经优化改进后的滑动螺旋机构需添加的扭矩值比未优化前减小1倍。 展开更多
关键词 tft-LCD液晶玻璃 断面分析装置 滑动螺旋机构 ADAMS仿真 结构优化
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基于改进TFT的用户网络障碍预测方法
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作者 卢瑾 王欣刚 陈于锋 《江苏通信》 2024年第5期82-86,共5页
随着互联网的发展,网络已渗透到生活各方面,网络故障对生产和生活的影响日益严重。尽管用户网络故障难以完全避免,但通过预测故障可帮助运营商快速修复,减少对生活的干扰。本文提出改进的TFT深度学习模型,通过多种技术提高预测性能。首... 随着互联网的发展,网络已渗透到生活各方面,网络故障对生产和生活的影响日益严重。尽管用户网络故障难以完全避免,但通过预测故障可帮助运营商快速修复,减少对生活的干扰。本文提出改进的TFT深度学习模型,通过多种技术提高预测性能。首先,采用基于皮尔逊系数和特征不确定性的暂退算法,将对故障影响小的特征置零,避免模型过拟合。其次,引入时间卷积神经网络与带门控单元的循环神经网络编码器,加强模型对时间序列局部特征的提取。最后,使用Huber损失函数以减弱群体故障带来的异常数据影响。实验结果显示,改进的TFT算法在预测性能上优于传统算法,并通过案例展示了其在网络群障发现中的应用价值,提供了解决网络故障的新思路。 展开更多
关键词 tft 用户网络障碍预测 皮尔逊系数 特征不确定系数 Huber损失函数
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TFT-LCD及触摸屏玻璃基板激光断切现象研究
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作者 代冬生 《现代制造技术与装备》 2024年第6期22-24,共3页
激光切割技术已经成为玻璃生产及加工领域中的一种成熟的工业加工技术,具备高精度、高速度、高质量、高效率的优点。断切现象是薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistorLiquid CrystalDisplay,TFT-LCD)及触摸屏玻璃基板激光切割的质量... 激光切割技术已经成为玻璃生产及加工领域中的一种成熟的工业加工技术,具备高精度、高速度、高质量、高效率的优点。断切现象是薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistorLiquid CrystalDisplay,TFT-LCD)及触摸屏玻璃基板激光切割的质量问题之一。文章从设备接地、激光器出光功率稳定性、光路和软体系统信号对接4个方面分析短切现象产生的原因,并给出相应的处理方法,以期为常见激光切割质量问题的处理提供参考。 展开更多
关键词 薄膜晶体管液晶显示器(tft-LCD) 触摸屏 玻璃基板 激光切割 断切
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TFT基板低功耗显示驱动方法研究
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作者 苗宗成 张瑞寅 +1 位作者 贺泽民 梁蓬霞 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2023年第10期1372-1388,共17页
TFT的低功耗特性能够减少电子设备的能量消耗,从而达到节省能源、延长电池寿命、降低使用设备温度、提高显示质量的目的。因此,低功耗TFT在电子设备的设计和制造中具有十分重要的作用。TFT基板的结构有很多种类,通常可分为一般型、高温... TFT的低功耗特性能够减少电子设备的能量消耗,从而达到节省能源、延长电池寿命、降低使用设备温度、提高显示质量的目的。因此,低功耗TFT在电子设备的设计和制造中具有十分重要的作用。TFT基板的结构有很多种类,通常可分为一般型、高温多晶硅型、低温多晶硅型、金属氧化物半导体型和柔性材料基板型。本文对现有的TFT基板显示器件的低功耗研究进行总结分析,主要包括两大方面:对TFT基板本身驱动进行优化;对TFT基板外设驱动进行优化。本文对两大方面的低功耗研究进行了综述,并对近年来国内外TFT低功耗方法研究进行详细介绍。根据所介绍的方法的特点与其尚未攻克的困境,对TFT基板显示设备低功耗驱动的未来发展进行了展望。 展开更多
关键词 tft 显示 低功耗 驱动
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退火温度对溶液法制备IGZO-TFT器件性能影响 被引量:1
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作者 李博 杨小天 +2 位作者 宋凯安 张轶强 闫兴振 《吉林建筑大学学报》 CAS 2023年第1期81-84,共4页
随着人们进入信息时代,半导体技术快速发展,对薄膜晶体管(Thin film transistor,简称TFT)的性能要求逐渐提高.IGZO由于具有较高的载流子迁移率、相对良好的均匀性等优势而受到广泛关注;而传统的真空技术制备薄膜晶体管,因制备工艺复杂... 随着人们进入信息时代,半导体技术快速发展,对薄膜晶体管(Thin film transistor,简称TFT)的性能要求逐渐提高.IGZO由于具有较高的载流子迁移率、相对良好的均匀性等优势而受到广泛关注;而传统的真空技术制备薄膜晶体管,因制备工艺复杂、制备成本高等问题,在快速发展的信息时代逐渐显露出局限性,本文采用制备工艺更为简单的溶液法在Si/SiO_(2)基底上制备IGZO有源层薄膜,并测试不同退火温度(450℃,550℃,650℃)条件下对薄膜性能的影响.结果表明,适当提高退火温度可以有效改善IGZO-TFT器件的电学性能,本实验测试得出:当溶液法制备薄膜在550℃退火温度下退火器件性能最优,溶液法制备的器件电流开关闭达到105,器件性能相对比较稳定. 展开更多
关键词 薄膜晶体管(tft) IGZO 溶液法 退火温度
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Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7栅绝缘层的SiO2修饰对ZnO-TFTs性能的影响
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作者 叶伟 崔立堃 常红梅 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第6期1344-1351,共8页
具有高介电常数的栅绝缘层材料存在某种极化及耦合作用,使得ZnO-TFTs具有高的界面费米能级钉扎效应、大的电容耦合效应和低的载流子迁移率.为了解决这些问题,本文提出了一种使用SiO 2 修饰的Bi 1.5 Zn 1.0 Nb 1.5 O 7 作为栅绝缘层的ZnO... 具有高介电常数的栅绝缘层材料存在某种极化及耦合作用,使得ZnO-TFTs具有高的界面费米能级钉扎效应、大的电容耦合效应和低的载流子迁移率.为了解决这些问题,本文提出了一种使用SiO 2 修饰的Bi 1.5 Zn 1.0 Nb 1.5 O 7 作为栅绝缘层的ZnO-TFTs结构,分析了SiO 2 修饰对栅绝缘层和ZnO-TFTs性能的影响.结果表明,使用SiO 2 修饰后,栅绝缘层和ZnO-TFTs的性能得到显著提高,使得ZnO-TFTs在下一代显示领域中具有非常广泛的应用前景.栅绝缘层的漏电流密度从4.5×10^-5 A/cm^2 降低到7.7×10^-7 A/cm^2 ,粗糙度从4.52nm降低到3.74nm,ZnO-TFTs的亚阈值摆幅从10V/dec降低到2.81V/dec,界面态密度从8×10^13 cm^-2 降低到9×10 12 cm^-2 ,迁移率从0.001cm^2 /(V·s)升高到0.159cm^2 /(V·s). 展开更多
关键词 SIO2薄膜 氧化锌薄膜晶体管 修饰层 Bi1.5Zn1.0Nb1.5O7薄膜 射频磁控溅射
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基于SOI材料α-Si:H TFTs的制作和特性研究(英文) 被引量:2
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作者 李蕾 温殿忠 +1 位作者 李刚 赵晓锋 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第2期181-185,共5页
采用RF-PECVD系统在SOI材料上制作α-Si:H TFT,纳米非晶硅薄膜厚度为98nm,沟道长宽比为10μm/40μm。用扫描电子显微镜、X射线衍射和拉曼光谱等检测方法对不同退火温度下的氢化非晶硅薄膜形貌进行了表征。采用CMOS工艺、各向异性腐蚀溶... 采用RF-PECVD系统在SOI材料上制作α-Si:H TFT,纳米非晶硅薄膜厚度为98nm,沟道长宽比为10μm/40μm。用扫描电子显微镜、X射线衍射和拉曼光谱等检测方法对不同退火温度下的氢化非晶硅薄膜形貌进行了表征。采用CMOS工艺、各向异性腐蚀溶液EPW、射频溅射技术和等离子体刻蚀等工艺实现α-Si:H TFT的制作。在给出一般α-Si:H TFT特性分析和实验结果的基础上,又采用建模方式对α-Si:H TFT出现的负阻特性进行研究。提取纳米氢化非晶硅薄膜与栅氧化层界面处能带图的结果表明,在靠近漏端0.5μm范围内,漏压由6V增加到30V时,随漏压的增加,价带能量逐渐下降。研究结果表明,距离漏端0.5μm范围内的压降导致负阻特性产生。 展开更多
关键词 α-Si:H tft 纳米非晶硅薄膜 SOI材料 腐蚀自停止技术 负阻特性
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退火温度对基于Bi_(1.5)Zn_(1.05)Nb_(1.5)O_(7)栅绝缘层的ZnO-TFTs性能的影响
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作者 张琦 叶伟 +2 位作者 孙芳莉 萧生 杜鹏飞 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第2期455-460,共6页
具有高介电常数的Bi_(1.5)Zn_(1.05)Nb_(1.5)O_(7)薄膜存在氧空位和陷阱缺陷,因此,使用Bi_(1.5)Zn_(1.05)Nb_(1.5)O_(7)作为栅绝缘层的ZnO-TFTs具有高的界面费米能级钉扎效应和低的电学性能.为了解决这些问题,提高器件性能,本文采用射... 具有高介电常数的Bi_(1.5)Zn_(1.05)Nb_(1.5)O_(7)薄膜存在氧空位和陷阱缺陷,因此,使用Bi_(1.5)Zn_(1.05)Nb_(1.5)O_(7)作为栅绝缘层的ZnO-TFTs具有高的界面费米能级钉扎效应和低的电学性能.为了解决这些问题,提高器件性能,本文采用射频磁控溅射制备了以Bi_(1.5)Zn_(1.05)Nb_(1.5)O_(7)为栅绝缘层的ZnO-TFTs,同时,详细研究了300℃、400℃、500℃和600℃等退火温度对ZnO-TFTs性能的影响,研究结果表明,随着退火温度的升高,Bi_(1.5)Zn_(1.05)Nb_(1.5)O_(7)栅绝缘层和ZnO-TFTs的性能先升高后降低,在退火温度为500℃时,Bi_(1.5)Zn_(1.05)Nb_(1.5)O_(7)栅绝缘层和ZnO-TFTs的性能都得到了显著提高,电容密度从165 nF/cm^(2)升高到222 nF/cm^(2),开关比从103升高到105. 展开更多
关键词 Bi_(1.5)Zn_(1.05)Nb_(1.5)O_(7)薄膜 氧化锌薄膜晶体管 射频磁控溅射 退火温度 电容密度 高介电常数
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Mobility impact on compensation performance of AMOLED pixel circuit using IGZO TFTs 被引量:1
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作者 Congwei Liao 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2019年第2期33-38,共6页
The suitability of indium gallium zinc oxide(IGZO) thin-film transistors(TFT) for implementation of active matrix display of organic light emitting diodes(AMOLED) compensation pixel circuits is addressed in this paper... The suitability of indium gallium zinc oxide(IGZO) thin-film transistors(TFT) for implementation of active matrix display of organic light emitting diodes(AMOLED) compensation pixel circuits is addressed in this paper. In particular, the impact of mobility on compensating performance for the implementation in AMOLED pixel circuits is investigated. Details of the effective mobility modeling using the power law of gate-to-source voltage are provided, and parameters are extracted according to the measured current-to-voltage data of IGZO TFT samples. The investigated AMOLED pixel circuit consists of 4 switching TFTs, 1 driving TFT, and 1 capacitor. A "source-follower" structure is used for the threshold voltage extraction of the driving transistor. A new timing diagram is proposed; thus the current error of the pixel circuit is almost independent of the effective mobility. But, to improve the precision of the threshold voltage extraction of the driving transistor, the mobility is required to be greater than5 cm^2 V^(-1) s^(-1). On the other hand, the optimized storage capacitance is reversely proportional to the effective mobility. Thus, the layout area of the pixel circuit can be decreased from 100 × 100 to 100 × 68 μm2, with the effective mobility increased from 10 to50 cm^2 V^(-1) s^(-1). Therefore, IGZO TFT is a good alternative backplane technology for AMOLED displays, and a higher effective mobility is preferred for high compensation performance and compact layout. 展开更多
关键词 IGZO tft PIXEL circuit MOBILITY
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