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题名耗尽型a-IZO TFT的模拟研究
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作者
彭小毛
向超
李俊杰
钟传杰
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机构
江南大学物联网工程学院
机械工业第六设计研究院有限公司
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出处
《微电子学》
CAS
北大核心
2019年第6期873-877,共5页
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基金
国家自然科学基金资助项目(51702127)
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文摘
采用Silvaco软件的Atlas对耗尽型单栅、双栅非晶铟锌氧化物薄膜晶体管SG a-IZO TFT、DG a-IZO TFT进行二维器件模拟。讨论了a-IZO层的厚度、态密度模型参数对耗尽型SG a-IZO TFT的电特性影响。研究发现,当a-IZO层厚度达到60 nm及以上时,器件的关断电流急剧上升。分析了态密度模型参数对单栅器件的电特性影响。对耗尽型SG a-IZO TFT与DG a-IZO TFT的电特性进行了比较。结果表明,DG器件在开启电压、亚阈值摆幅、开态电流等方面表现更佳。
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关键词
耗尽型
a-izo
器件模拟
双栅
态密度
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Keywords
depleted mode
amorphous InZnO
device simulation
dual-gate
density of state
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分类号
TN386
[电子电信—物理电子学]
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题名a-IGZO/IZO厚度比对TFT特性的影响研究
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作者
潘东
向超
殷波
李勇男
汤猛
钟传杰
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机构
江南大学物联网工程学院
机械工业第六设计研究院有限公司
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出处
《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
2018年第4期533-536,547,共5页
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基金
国家自然科学基金资助项目(60776056)
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文摘
利用Silvaco TCAD软件中的Atlas模块,对底栅结构的双有源层a-IGZO/IZO薄膜晶体管(TFT)进行了仿真与模拟,研究了双有源层厚度比对TFT特性的影响。结果表明,该TFT的特性与有源层的厚度比密切相关。在给定参数条件下,当有源层的厚度比为20∶20时,该TFT的电学性能最优。阈值电压、亚阈值摆幅分别为-2.05 V、91 mV/decade,最大开关电流比为4.12×1014。双有源层a-IGZO/IZO TFT的场效应迁移率可达20.2cm2/V·s,优于单有源层a-IGZO TFT。
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关键词
a-IGZO
a-izo
双有源层
异质结
态密度
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Keywords
a-IGZO
a-izo
double active layers
heterojunction
density of state
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分类号
TN321.5
[电子电信—物理电子学]
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