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Performance of Electric Double Layer Capacitors using Active Carbons Prepared from Petroleum Coke by KOH and Vapor Re-Etching 被引量:3
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作者 Xiaofeng WANG, Dazhi WANG Ji LIANGDepartment of Mechanical Engineering, Tsinghua University, Beijing 100084, China 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2003年第3期265-269,共5页
The electrochemical storage of energy in a special kind of active carbon materials used as capacitor electrodes is considered. Petroleum coke was used for preparation of carbons with different porosities by KOH and va... The electrochemical storage of energy in a special kind of active carbon materials used as capacitor electrodes is considered. Petroleum coke was used for preparation of carbons with different porosities by KOH and vapor etching with catalysis of FeCI3 in turn. Carbon electrodes were fabricated and used as electrodes of double layer capacitors. Nitrogen adsorption was used to characterize the porous structure of the carbons. The electrochemical performance of the capacitors in 6 mol/L KOH was investigated with constant current charge and discharge experiments. A specific capacitance larger than 160 F/g was achieved with an electrode composed of 75% active carbon with a specific surface area of 1180 m2/g and 20% graphite as conductive agent. Evaluation of capacitor performance was conducted by different techniques, e.g. voltammetry and impedance spectroscopy. Characteristics of the capacitor were also discussed. A hybrid power source consisting of nickel- hydrogen and double layer capacitor was demonstrated by powering successfully a simulated power load encountered in communication equipment. 展开更多
关键词 activated carbon Re-etching Double layer capacitor SUPERCAPACITOR
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Boring holes in Au nanoplates by active surface etching
2
作者 Haiyang Hu Yuntao Wang +4 位作者 Qian Wang Xudong Peng An Su Hong Wang Hongyu Chen 《Nano Research》 SCIE EI CSCD 2024年第9期8610-8617,共8页
In contrast to the conventional etching that makes nanoparticles rounder and our previous sharpening etching mode that causes serrated edges,here,we developed a new boring etching mode that targets the faces of Au nan... In contrast to the conventional etching that makes nanoparticles rounder and our previous sharpening etching mode that causes serrated edges,here,we developed a new boring etching mode that targets the faces of Au nanoplates to make holes.The critical factors are the pre-incubation step with the ligand 2-mercapto-5-benzimidazolecarboxylic acid(MBIA)and the subsequent removal of excess ligands in the solution.Thus,etching is focused onto the few sites with initial loss of ligands,which cannot be quickly replaced.The choice of ligand MBIA is also of importance,as it carries negative charge and repels each other.Its inability of forming a dense layer probably plays a critical role in the site-selectivity for faces,because ligands at the higher curvature edges and corners are expected to have less repulsion.The etching results from the comproportionation reaction between Au3+and Au0 in the nanoplates,where Br-coordination to Au and the extra stabilization from cetyltrimethylammonium bromide(CTAB)are essential.We believe that the ability of boring holes is an important tool for future synthetic designs. 展开更多
关键词 Au nanoplates active surface etching boring etching mode cetyltrimethylammonium bromide(CTAB)passivation HOLES
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Etching and Micro-Topographical Studies of Barium Oxalate Crystals Grown in Agar Gel
3
作者 Paresh V. Dalal Kishor B. Saraf 《Journal of Crystallization Process and Technology》 2011年第1期8-12,共5页
In the present study, the selection of an etchant for a particular crystal was purely made on empirical basis. The gel grown barium oxalate crystals were etched by HCl, HNO3, BaCl2, NH4Cl, and NH4Cl-HCl solutions. Mic... In the present study, the selection of an etchant for a particular crystal was purely made on empirical basis. The gel grown barium oxalate crystals were etched by HCl, HNO3, BaCl2, NH4Cl, and NH4Cl-HCl solutions. Micro-topographical studies have been made and it was found that elongated triangular etch pits and pits within pits were formed. Rectangular growth layers in the form of staircase and leaf like dendrite pattern were seen. Kinetics of etching was studied. Quantitative estimation of dissolved crystals in etchants was used for the determination of activation energy of reaction and pre-exponential factor with the help of Arrhenius equation. 展开更多
关键词 etching BARIUM OXALATE Micro-Topographical STUDIES activation ENERGIES
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研磨型AlN基板表面腐蚀对AlN-AMB覆铜板剥离强度的影响 被引量:1
4
作者 许海仙 曾祥勇 +2 位作者 王吕华 朱家旭 汤文明 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第3期246-251,共6页
为了解决研磨型氮化铝(AlN)基板制备的氮化铝活性金属钎焊(AlN-AMB)覆铜板剥离强度低的问题,采用浓度为0.25 mol/L的NaOH水溶液,在50℃条件下,对研磨型AlN基板表面进行腐蚀,开展腐蚀前后AlN基板表面微观形貌及AlN-AMB覆铜板界面剥离强... 为了解决研磨型氮化铝(AlN)基板制备的氮化铝活性金属钎焊(AlN-AMB)覆铜板剥离强度低的问题,采用浓度为0.25 mol/L的NaOH水溶液,在50℃条件下,对研磨型AlN基板表面进行腐蚀,开展腐蚀前后AlN基板表面微观形貌及AlN-AMB覆铜板界面剥离强度等的对比探究。结果表明,研磨型AlN基板表面存在大量破碎晶粒和微裂纹,所制备的AlN-AMB覆铜板气孔率较高,界面剥离强度只有5.787 N/mm。腐蚀可有效去除其表面破碎晶粒和微裂纹,提升AlN基板表面致密度和一致性。采用35 min腐蚀AlN基板制备的AlN-AMB覆铜板气孔率大幅降低,剥离强度提升至10.632 N/mm,相比处理前提升了83.7%。 展开更多
关键词 氮化铝基板 活性金属钎焊(AMB) 腐蚀 显微组织结构 剥离强度
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重掺杂P型SiC的熔融KOH刻蚀行为研究
5
作者 程佳辉 杨磊 +3 位作者 王劲楠 龚春生 张泽盛 简基康 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2024年第5期773-780,791,共9页
本文采用熔融KOH刻蚀方法详细研究了液相法生长的重掺杂P型6H-SiC晶体中的位错情况,探究了时间、温度变化对液相法生长的重掺杂P型6H-SiC晶片表面刻蚀的影响。当提高腐蚀时间或腐蚀温度时,晶片表面的腐蚀坑尺寸均表现出不同程度的增加,... 本文采用熔融KOH刻蚀方法详细研究了液相法生长的重掺杂P型6H-SiC晶体中的位错情况,探究了时间、温度变化对液相法生长的重掺杂P型6H-SiC晶片表面刻蚀的影响。当提高腐蚀时间或腐蚀温度时,晶片表面的腐蚀坑尺寸均表现出不同程度的增加,过高的温度及长时间刻蚀均导致过腐蚀现象的发生。根据不同腐蚀条件下腐蚀坑的形貌与分布,确定出刻蚀重掺杂P型6H-SiC晶片的最佳工艺参数。利用晶片在不同温度下的腐蚀速率变化关系及阿伦尼乌斯公式计算出晶体的反应活化能为10.59 kcal/mol。最后,对穿透型螺位错(TSD)和穿透型刃位错(TED)的形貌、尺寸和内部结构进行了详细的表征和分析,结果表明P型6H-SiC晶体中腐蚀坑的倾角与腐蚀时间无关。 展开更多
关键词 P型碳化硅 腐蚀 位错 重掺杂 腐蚀速率 活化能
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氢氧化钾碱蚀法制备多孔MgAl氢氧化物及其二氧化碳吸附性能
6
作者 高婉 骞蒙 +1 位作者 冯艳艳 李彦杰 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第11期386-393,共8页
目的 类水滑石化合物用于CO_(2)吸附时存在分散性差和有效比表面积低的问题。方法 以硝酸镁和硝酸铝为金属盐前驱体,以尿素为沉淀剂,采用水热法合成具有层状结构的MgAl水滑石,之后利用铝物种的两性性质,通过氢氧化钾碱蚀处理MgAl水滑石... 目的 类水滑石化合物用于CO_(2)吸附时存在分散性差和有效比表面积低的问题。方法 以硝酸镁和硝酸铝为金属盐前驱体,以尿素为沉淀剂,采用水热法合成具有层状结构的MgAl水滑石,之后利用铝物种的两性性质,通过氢氧化钾碱蚀处理MgAl水滑石脱除部分铝物种以形成孔道,从而获得多孔MgAl氢氧化物并用于二氧化碳的吸附。借助X射线衍射、扫描电镜、低温氮气吸附/脱附、红外分析等研究碱蚀时间对所得MgAl氢氧化物结构形貌的影响。之后,采用热重分析仪测试样品的二氧化碳吸附性能,并且分别采用一阶动力学模型、伪二阶动力学模型对吸附数据进行拟合。结果 与未碱蚀样品比较,当碱蚀时间为12 h时,样品LDH-12的比表面积和孔体积都有所增加,其中比表面积由8.8 m^(2)/g变为16.6 m^(2)/g,这有利于吸附活性位点的暴露;样品LDH-12对二氧化碳有着较优的吸附性能,其吸附容量为19.6 mg/g。结论 碱蚀处理对样品的形貌结构及吸附性能有着很大的影响。适宜的碱蚀时间有利于样品孔结构的进一步发育,使得更多的吸附活性位暴露,从而较大程度地提高其对二氧化碳的吸附能力。 展开更多
关键词 MgAl氢氧化物 二氧化碳吸附 碱蚀 比表面积 活性位 吸附动力学模型
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硅在KOH中各向异性腐蚀的物理模型 被引量:11
7
作者 姜岩峰 黄庆安 +2 位作者 吴文刚 郝一龙 杨振川 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期434-439,共6页
针对硅在 KOH中的各向异性腐蚀提出了一个新的物理模型 .此模型从微观角度出发 ,根据实际的腐蚀化学反应过程确定了若干微观状态 ,提出了反映腐蚀特性的若干微观参数 .将腐蚀温度、浓度等对腐蚀速率的影响也反映了进去 .计算结果与实验... 针对硅在 KOH中的各向异性腐蚀提出了一个新的物理模型 .此模型从微观角度出发 ,根据实际的腐蚀化学反应过程确定了若干微观状态 ,提出了反映腐蚀特性的若干微观参数 .将腐蚀温度、浓度等对腐蚀速率的影响也反映了进去 .计算结果与实验结果进行了对比 ,表明此模型在解释硅在 KOH中各向异性腐蚀特性等方面具有一定的合理性 . 展开更多
关键词 KOH 物理模型 各向异性腐蚀
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两性表面活性剂酸液体系在基质酸化及酸压中的应用 被引量:21
8
作者 郑云川 赵立强 +2 位作者 刘平礼 青春 佘军 《天然气工业》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第12期71-73,共3页
自1997年Schlumberger Dowell公司推出基于阳离子粘弹性表面活性剂(VES)的清洁压裂液以来,粘弹性表面活性剂技术已在油气田增产措施中得到广泛的应用。根据VES使用的经验,近两年来,国外已研究出了性能优越的基于两性表面活性剂的粘弹性... 自1997年Schlumberger Dowell公司推出基于阳离子粘弹性表面活性剂(VES)的清洁压裂液以来,粘弹性表面活性剂技术已在油气田增产措施中得到广泛的应用。根据VES使用的经验,近两年来,国外已研究出了性能优越的基于两性表面活性剂的粘弹性酸。文章分析了国外将这种酸液体系应用于基质酸化和酸压时相对于其他酸液体系所具有的独特优点和作用机理,介绍了其粘弹性行为和流变性,以及各种酸液添加剂对其流变性的影响。用岩心流动实验结果分析了这种酸液体系应用于基质酸化时的自主分流特性以及应用于酸压时的滤失、返排和酸蚀裂缝导流特性。 展开更多
关键词 两性表面活性剂 粘弹性酸液 胶束溶液 胶束凝胶 酸液添加剂 流变性 基质酸化
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大晶粒钛硅沸石TS-1晶貌的离子蚀刻改性 被引量:3
9
作者 郭洪臣 刘娜 +4 位作者 周军成 郭明星 王祥生 陈黎行 邹龙江 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期977-979,共3页
A post-synthesis modification method, named ion etching, is proposed to adjust the morphology of titanium silicalite TS-1 for a better catalytic activity. The new method mainly involves treating titanium silicalite TS... A post-synthesis modification method, named ion etching, is proposed to adjust the morphology of titanium silicalite TS-1 for a better catalytic activity. The new method mainly involves treating titanium silicalite TS-1 with an ammonia-containing aqueous solution in autoclave under the conditions of ca. ammonia aqueous solution concentration 0.5-14 mol/L NH 3, volume ratio of liquid/solid 20-100, hydrothermal temperature 100-180 ℃ and contact time 24-500 h. According to the characterizations by SEM, XRF, XRD, FTIR and UV-Vis, the modification can transform a well-defined large crystal TS-1[1 μm×2 μm×6 μm, n(Si)/n(Ti)=53.62] into fine grains which can avoid falling off from the matrix if the conditions of the treatment are properly controlled. The effect of ion etching upon TS-1 morphology is attributed to the OH - ion(derives from NH 3·H 2O) catalyzed hydrolysis of the T-O-T bridge bond of the silicic zeolitic framework. Its main advantages over mechanical ball-millingthe conventional zeolitic morphology modification method, include actually fully retained crystallinity and almost intact coordination state of the active Ti sites of the remained framework, as confirmed by XRD, FTIR and UV-Vis. Probe reaction shows that, the large crystal TS-1 modified by the present method at 170 ℃ for 129 h, when used as the catalyst for epoxidation of propylene, could be operated at propylene weight hourly space velocity of 0.5 h -1, and 97.85% hydrogen peroxide conversion and 96.87% propylene oxide selectivity were obtained. However, to reach comparative hydrogen peroxide conversion, the intact zeolite could only be operated under propylene weight hourly space velocity of 0.2 h -1. The remarkable increase of the catalytic activity of the modified TS-1 may be attributed to the improved intra-crystal diffusivity and the excellent preservation of the crystallinity and active Ti sites by the present modification. 展开更多
关键词 钛硅沸石 TS-1 离子蚀刻 结晶度 活性位 改性 晶貌 催化剂 催化活性
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草酸浸蚀对氧化物阳极形貌及电催化性能的影响 被引量:18
10
作者 初立英 许立坤 +3 位作者 吴连波 王廷勇 王均涛 陈光章 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第7期763-768,共6页
钛基体涂覆铱钽氧化物阳极制备过程中对基体喷砂并进行不同时间的草酸浸蚀.环境扫描电镜、析氧极化曲线、电化学阻抗谱测试表明,草酸对钛基体的腐蚀速度及涂层载量(Ir含量)随腐蚀时间的延长先增大后减小.经过适当时间酸蚀处理后的基体... 钛基体涂覆铱钽氧化物阳极制备过程中对基体喷砂并进行不同时间的草酸浸蚀.环境扫描电镜、析氧极化曲线、电化学阻抗谱测试表明,草酸对钛基体的腐蚀速度及涂层载量(Ir含量)随腐蚀时间的延长先增大后减小.经过适当时间酸蚀处理后的基体上制备的氧化物阳极均匀致密,其电化学活性表面积大,析氧电催化活性提高,并具有较长的使用寿命. 展开更多
关键词 氧化物阳极 浸蚀 草酸 电催化活性
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有源层刻蚀工艺优化对TFT-LCD品质的影响 被引量:3
11
作者 李田生 谢振宇 +4 位作者 李婧 阎长江 徐少颖 陈旭 闵泰烨 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2013年第5期720-725,共6页
TFT-LCD产品为现代显示的主流,如何提高其显示品质成为大家普遍关注的问题,尤其近期发现的 过孔发黑(黑点)问题尤为突出,严重影响了产品的良率,降低了产品的品质,文章通过研究发现产生黑点不良的罪魁祸首不是过孔刻蚀的问题,而是有源... TFT-LCD产品为现代显示的主流,如何提高其显示品质成为大家普遍关注的问题,尤其近期发现的 过孔发黑(黑点)问题尤为突出,严重影响了产品的良率,降低了产品的品质,文章通过研究发现产生黑点不良的罪魁祸首不是过孔刻蚀的问题,而是有源层刻蚀工艺所导致的,并有针对性地进行了试验设计,分别考察了有源层刻蚀条件、附加一步刻蚀方式对黑点不良的解决效果,根据实验效果附加一步刻蚀方式完美地解决了黑点不良问题,从而将产品的良率提升了3%~4%,而电学性能评价(Ion:开态电流、Ioff:关态电流、Vth:阈值电压、迁移率)和正常条件相比没有异常,从而获得了最终完美的解决该不良的方案,提高了产品品质。 展开更多
关键词 有源层 刻蚀 黑点
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BBO 晶体的化学腐蚀研究 被引量:1
12
作者 洪慧聪 路治平 +2 位作者 赵天德 华素坤 仲维卓 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 1993年第1期42-46,共5页
本文报道了 BBO 晶体在有机溶剂、水和酸碱等腐蚀液中的腐蚀实验结果。测量了晶体在不同腐蚀液和温度下的腐蚀速率、并根据 Arrhenius 公式计算了各腐蚀活化能。BBO 晶体抗有机溶剂腐蚀能力最强,碱和水次之,而酸的腐蚀最为强烈。在同一... 本文报道了 BBO 晶体在有机溶剂、水和酸碱等腐蚀液中的腐蚀实验结果。测量了晶体在不同腐蚀液和温度下的腐蚀速率、并根据 Arrhenius 公式计算了各腐蚀活化能。BBO 晶体抗有机溶剂腐蚀能力最强,碱和水次之,而酸的腐蚀最为强烈。在同一腐蚀剂中,晶体以 Z 面的腐蚀速率最高,而以垂直于 Z 面的柱面腐蚀速率最低。对 BBO 晶体几个主要晶面的腐蚀形貌进行了观察和分析,探讨了晶体的腐蚀机理。 展开更多
关键词 BBO 晶体 腐蚀活化能 硼酸钡
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硅在KOH溶液中各向异性腐蚀机理的研究 被引量:4
13
作者 温殿忠 庄玉光 邱成军 《黑龙江大学自然科学学报》 CAS 1996年第3期55-58,54,共5页
本文应用碰撞理论研究了硅在KOH溶液中各向异性腐蚀的机理。结果表明,硅在KOH溶液中的各向异性腐蚀速率不但与硅材料晶面原子密度差异有关,而且还与活化离子OH-数有关,活化粒子数与成正比。应用本文给出的腐蚀机理能满意解... 本文应用碰撞理论研究了硅在KOH溶液中各向异性腐蚀的机理。结果表明,硅在KOH溶液中的各向异性腐蚀速率不但与硅材料晶面原子密度差异有关,而且还与活化离子OH-数有关,活化粒子数与成正比。应用本文给出的腐蚀机理能满意解释硅在KOH溶液中各向异性腐蚀的实验结果。 展开更多
关键词 各向异性 腐蚀 碰撞 氢氧化钾溶液
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碱炭比对活性炭孔结构及电容特性的影响 被引量:6
14
作者 张琳 刘洪波 +2 位作者 李步广 何月德 张红波 《湖南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期23-27,共5页
以酚醛树脂为原料、KOH为活化剂制备双电层电容器用高比表面积活性炭.考察KOH与酚醛树脂炭的质量比对所制得的活性炭的吸附性能、孔径分布和比电容的影响.实验结果表明,随着碱炭比的增大,所得活性炭的BET比表面积、总孔容积和中孔容积... 以酚醛树脂为原料、KOH为活化剂制备双电层电容器用高比表面积活性炭.考察KOH与酚醛树脂炭的质量比对所制得的活性炭的吸附性能、孔径分布和比电容的影响.实验结果表明,随着碱炭比的增大,所得活性炭的BET比表面积、总孔容积和中孔容积不断增大,碘吸附值和亚甲基蓝吸附值也不断增大,比电容则先增大后减小并在碱炭比为4时达到最大值74.2F/g.以这种高比表面积活性炭组装成的电容器具有良好的充放电性能和循环性能,既能在大电流下快速充放电也能在小电流下缓慢充放电. 展开更多
关键词 酚醛树脂 KOH活化 高比表面积活性炭 比电容 双电层电容器
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利用无机抗菌剂研制抗菌自酸蚀处理剂的初步研究 被引量:6
15
作者 方明 Christel Neut +3 位作者 陈吉华 刘奕 赵三军 Hartmut F Hildebrand 《北京口腔医学》 CAS 2007年第1期5-8,共4页
目的评价利用无机抗菌剂研制抗菌自酸蚀处理剂的初步可行性。方法将6种无机抗菌剂以0.5% w/v和2.5% w/v的浓度分别加入自行研制的实验自酸蚀处理剂ESP中,进行变形链球菌体外药敏试验。并应用添加了抗菌剂的ESP制备黏结样本,测试无机抗... 目的评价利用无机抗菌剂研制抗菌自酸蚀处理剂的初步可行性。方法将6种无机抗菌剂以0.5% w/v和2.5% w/v的浓度分别加入自行研制的实验自酸蚀处理剂ESP中,进行变形链球菌体外药敏试验。并应用添加了抗菌剂的ESP制备黏结样本,测试无机抗菌剂的添加对材料固化后抗菌活性的影响。结果 ESP本身就具有一定的抗菌作用,在其中添加龙贝无机抗菌粉体或氧化锌晶须复合抗菌剂AT-83可使液体状态下ESP的最小抑菌浓度和最小杀菌浓度显著降低;加入受试的无机抗菌剂使材料固化后的抗菌活性显著增强,其中添加氧化锌晶须复合抗菌剂AT-83的效果最为显著。结论从抗菌性能方面证实了利用受试的无机抗菌剂研制抗菌自酸蚀处理剂的初步可行性。 展开更多
关键词 抗菌活性 无机抗菌剂 自酸蚀处理剂 变形链球菌
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碳纤维表面化学镀预处理工艺研究 被引量:3
16
作者 王丽雪 王春艳 +1 位作者 于久灏 郭丽丽 《黑龙江工程学院学报》 CAS 2017年第2期49-52,共4页
为增加碳纤维的表面反应活性、增强与表面镀层的界面结合强度,对碳纤维进行化学镀前的预处理工艺研究。通过对处理后的碳纤维表面显微形貌的对比分析,对碳纤维预处理工艺中的粗化液成分、粗化处理时间、敏化液成分及活化液成分进行优化... 为增加碳纤维的表面反应活性、增强与表面镀层的界面结合强度,对碳纤维进行化学镀前的预处理工艺研究。通过对处理后的碳纤维表面显微形貌的对比分析,对碳纤维预处理工艺中的粗化液成分、粗化处理时间、敏化液成分及活化液成分进行优化。结果表明:当粗化液选用过硫酸铵、粗化时间为40min、敏化液中氯化亚锡的含量为5g/L、活化液中硝酸银的含量为200g/L时,碳纤维表面可形成一层光亮、致密、与基体结合良好的镀层。 展开更多
关键词 碳纤维 粗化 敏化 活化 镀层形貌
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刻蚀条件对石英各向异性刻蚀特征的作用机理及KMC数值模拟 被引量:1
17
作者 张辉 满青珊 +3 位作者 贲伟 鲁士仿 秦晅 幸研 《江苏大学学报(自然科学版)》 EI CAS 北大核心 2020年第2期221-229,共9页
针对石英晶体各向异性湿法刻蚀复杂的各向异性刻蚀特性,致使刻蚀演化过程和结果难以预测和控制,利用刻蚀半球法得到了石英在多种体积比刻蚀溶液中和不同温度条件下的全晶面刻蚀速率,分析了刻蚀条件的改变对于石英刻蚀各向异性特征的影... 针对石英晶体各向异性湿法刻蚀复杂的各向异性刻蚀特性,致使刻蚀演化过程和结果难以预测和控制,利用刻蚀半球法得到了石英在多种体积比刻蚀溶液中和不同温度条件下的全晶面刻蚀速率,分析了刻蚀条件的改变对于石英刻蚀各向异性特征的影响作用,并从晶面活化能角度解释了刻蚀各向异性的成因.在形貌预测方面,通过对石英晶体x轴(电轴)和y轴(机械轴)上主要晶面原子排列和速率特征的分析,建立了以基于石英的移除概率函数(QUARTZ-RPF)方程为刻蚀依据的KMC仿真模型,实现了对不同刻蚀条件下的全晶面刻蚀速率及Z-cut切型晶片任意掩膜下刻蚀结构和表面形貌的精确模拟. 展开更多
关键词 石英 各向异性 湿法刻蚀 活化能 KMC仿真模型
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无刻蚀镀铁电沉积机理及综合性能 被引量:6
18
作者 董文仲 董文胜 +2 位作者 董文波 董文祥 董玉华 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期1-7,共7页
无刻蚀镀铁变革了在硫酸液中电刻蚀与电镀铁分槽进行的镀铁工艺。无刻蚀镀铁是在同一电镀槽中完成对零件交流活化—交流起镀—交流过渡镀—小直流镀—直流过渡镀—全直流镀的全过程。由无刻蚀镀铁技术获得的镀铁层质量稳定、可靠。纯铁... 无刻蚀镀铁变革了在硫酸液中电刻蚀与电镀铁分槽进行的镀铁工艺。无刻蚀镀铁是在同一电镀槽中完成对零件交流活化—交流起镀—交流过渡镀—小直流镀—直流过渡镀—全直流镀的全过程。由无刻蚀镀铁技术获得的镀铁层质量稳定、可靠。纯铁镀层的结合强度356MPa,含Ni、Co的合金镀铁层结合强度460MPa,旋转弯曲疲劳极限σ-1为363.85MPa,机车上的大型曲轴镀铁层保证期达30万公里,该技术再制造船舶、机车大型曲轴已实现规模化生产。文中综合了多年来对无刻蚀镀铁层的测试结果,探讨了无刻蚀镀铁层的电沉积机理和特点。研究认为,被镀零件表面经对称交流活化并使其处于微融活化态时,为Fe2+在基体中铁素体晶面上的择优放电沉积创造了条件;初始镀铁层的择优取向与基体相同,Fe2+在活化界面获得电子后先沿(110)晶面沉积,形成纳米等轴晶,随后转向沿(211)晶面沉积并形成纳米柱状晶,最终形成具有结合强度高、超细晶粒、硬度高、耐疲劳性和耐磨性好等特点的镀铁层。 展开更多
关键词 无刻蚀镀铁 电沉积 机理 微融活化态 纳米晶 综合性能
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低维氧化锌晶面调控及催化抗菌活性研究进展 被引量:3
19
作者 李丹 张忞灏 +4 位作者 廖佩姿 谢远 甄贺伟 徐晓玲 周祚万 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第1期56-64,共9页
低维结构氧化锌(ZnO)作为一种典型的直接宽带隙半导体材料,具有独特的形貌可调性、优异的催化活性和良好的生物相容性,在长效抗菌、催化降解和能源转化等领域受到较多关注。大量研究表明,通过制备方法的设计,可以得到球、棒、针、片、... 低维结构氧化锌(ZnO)作为一种典型的直接宽带隙半导体材料,具有独特的形貌可调性、优异的催化活性和良好的生物相容性,在长效抗菌、催化降解和能源转化等领域受到较多关注。大量研究表明,通过制备方法的设计,可以得到球、棒、针、片、带、管和多面体等形貌各异的低维ZnO晶体材料,而不同的形貌结构对其宏观性质具有显著的影响,甚至直接导致了材料在应用领域上的差异。因此,低维ZnO晶体材料的形貌结构调控对于其应用而言至关重要。ZnO丰富的形貌特征源于其晶体生长的各向异性。在ZnO晶体生长过程中,反应体系中的各种因素(如溶剂、成核剂、添加剂等)均可能对晶体生长产生影响,促使晶体沿不同晶向生长。因此,反应条件不仅能够影响ZnO的形貌,更重要的是,其表面的暴露晶面也会随之变化。而ZnO不同暴露晶面上的原子排布、原子密度和表面悬挂键等都不尽相同,这使得其性质和功能会出现显著差异。通过控制ZnO的形貌结构、晶体取向和暴露晶面等能够有效提高其稳定性、催化活性和选择性吸附等能力,并进一步实现对材料物理/化学性质的调控。随着制备技术和模拟计算的不断发展,现阶段对于ZnO暴露晶面的调控方法大致可分为晶面吸附法、晶种诱导法、溶剂调节法和晶面刻蚀法四种。其中前三种均属于自下而上的合成法,在ZnO晶体的成核和生长过程中,通过引入吸附剂、晶种或改变溶剂,来控制目标晶体特定晶面的结晶、生长,从而实现晶体形貌和暴露晶面的调控;而晶面刻蚀法是一种自上而下的制备方法,利用ZnO晶体自身各向异性所带来的晶面活性差异来选择性刻蚀高活性晶面,得到所需的暴露晶面。通过上述方法,研究者能够实现对ZnO晶体形貌和暴露晶面的可控制备,并在此基础上进一步研究ZnO暴露晶面与催化抗菌活性间的规律和机制。为了更好地指导ZnO系列结构的功能调控,本文综述了ZnO晶面调控方法及其对催化抗菌活性影响的研究进展,重点归纳了在低维结构ZnO生长过程中,通过不同制备方法来实现对ZnO特定暴露晶面调控的研究进展,并进一步总结了暴露晶面的调控对于ZnO在光照和无光条件下催化抗菌活性的研究现状。最后,对晶面调控低维结构ZnO今后的研究方向与亟待解决的学术难题进行了讨论。 展开更多
关键词 氧化锌 暴露晶面 晶面调控 催化抗菌活性 晶面吸附 晶种诱导 晶面刻蚀
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单晶硅波导基槽刻蚀工艺的研究
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作者 黄伟志 韩晓军 +1 位作者 吴旻 潘姬 《天津工业大学学报》 CAS 2002年第4期67-69,共3页
对埋藏式单晶硅波导基槽进行了反应离子刻蚀的研究 ,介绍氟化物反应离子刻蚀机理 .对CF4 和SF6气体在不同工艺条件下的刻蚀速率及刻蚀效果进行了分析 ,总结出刻蚀优化工艺条件 ,解决了刻蚀中存在的工艺难题 .试验表明 ,在CF4 加O2 的优... 对埋藏式单晶硅波导基槽进行了反应离子刻蚀的研究 ,介绍氟化物反应离子刻蚀机理 .对CF4 和SF6气体在不同工艺条件下的刻蚀速率及刻蚀效果进行了分析 ,总结出刻蚀优化工艺条件 ,解决了刻蚀中存在的工艺难题 .试验表明 ,在CF4 加O2 的优化工艺条件下 ,其刻蚀具有良好的各向异性和较高的重复性 。 展开更多
关键词 单晶硅 刻蚀工艺 反应离子刻蚀 波导基槽 活性基 集成电路
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