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XRD Characterization of AlN Thin Films Prepared by Reactive RF-Sputter Deposition 被引量:2
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作者 N. Matsunami H. Kakiuchida +1 位作者 M. Sataka S. Okayasu 《Advances in Materials Physics and Chemistry》 2013年第1期101-107,共7页
AlN thin films have been grown on R((1-12) surface-cut)-Al2O3, SiO2-glass and C((001) surface-cut)-Al2O3 substrates, by using a reactive-RF-sputter-deposition method. X-ray diffraction (XRD) shows that AlN film has (1... AlN thin films have been grown on R((1-12) surface-cut)-Al2O3, SiO2-glass and C((001) surface-cut)-Al2O3 substrates, by using a reactive-RF-sputter-deposition method. X-ray diffraction (XRD) shows that AlN film has (110) orientation of wurtzite crystal structure for R-Al2O3 and (001) orientation for SiO2-glass and C-Al2O3 substrates. The film thickness was analyzed by Rutherford backscattering spectroscopy (RBS) and it appears that XRD intensity does not show a linear increase with the film thickness but a correlation with the stress, i.e., deviation of the lattice parameter of the film from that of bulk. The film composition and impurities have been analyzed by ion beam techniques. Effects of high-energy ion beams are briefly presented on atomic structure (whether stress relaxation occurs or not), surface morphology and optical properties. 展开更多
关键词 aluminum nitride film Composition IMPURITIES ATOMIC Structure Surface MORPHOLOGY Optical Properties
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Study on the Properties of Diamond Films on Aluminum Nitride Ceramics
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作者 廖源 《High Technology Letters》 EI CAS 1999年第2期94-97,共4页
Diamond films were successfully synthesized on aluminum nitride(AlN) ceramic substrates by hot filament chemical vapor deposition(HFCVD) method. It is notices that the thermal conductivity of the diamond film/aluminum... Diamond films were successfully synthesized on aluminum nitride(AlN) ceramic substrates by hot filament chemical vapor deposition(HFCVD) method. It is notices that the thermal conductivity of the diamond film/aluminum nitride ceramic(DF/AlN) composite has reached 2.04 W/cm·K, 73%greater than that of AlN ceramic. Compared with the measurement of scanning electron microscopy(SEM) and Raman spectroscopy, the influence of diamond films on the thermal conductivity of the composites was pointed out. The adhesion and the stresses of diamond films were also studied. The unusual stability and very good adhesion of diamond films on AlN ceramic substrates obtained are attributed to the formation of aluminum carbide. 展开更多
关键词 DIAMOND film aluminum nitride CERAMIC Thermal CONDUCTIVITY
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Influence of Sputter Deposition Time on the Growth of c-Axis Oriented AlN/Si Thin Films for Microelectronic Application
3
作者 V. VasanthiPillay K. Vijayalakshmi 《Journal of Minerals and Materials Characterization and Engineering》 2012年第7期724-729,共6页
Aluminum Nitride films were grown on and Si (100) substrate by D.C. reactive magnetron sputtering at room temperature. Influence of sputter deposition time on properties of the AlN films was studied. Structural optica... Aluminum Nitride films were grown on and Si (100) substrate by D.C. reactive magnetron sputtering at room temperature. Influence of sputter deposition time on properties of the AlN films was studied. Structural optical and electrical properties of the film were investigated. XRD measurements showed the presence of hexagonal wurtzite structure. The optical reflectance spectra of the film were taken and the band gap calculated varied from 4.35 to 5.3 eV. Finally MIS capacitors were fabricated on silicon substrates and variation of dielectric parameter with deposition time was reported. 展开更多
关键词 aluminum nitride thin films SPUTTERING Preferential ORIENTATIONS
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Design and Analysis of MEMS Based Aluminum Nitride (AlN), Lithium Niobate (LiNbO<sub>3</sub>) and Zinc Oxide (ZnO) Cantilever with Different Substrate Materials for Piezoelectric Vibration Energy Harvesters Using COMSOL Multiphysics Software
4
作者 Ahmad M.Alsaad Ahmad A.Ahmad +2 位作者 Qais M.Al-Bataineh Nermeen S.Daoud Mais H.Khazaleh 《Open Journal of Applied Sciences》 2019年第4期181-197,共17页
Interest in energy harvesters has grown rapidly over the last decade. The cantilever shaped piezoelectric energy harvesting beam is one of the most employed designs, due to its simplicity and flexibility for further p... Interest in energy harvesters has grown rapidly over the last decade. The cantilever shaped piezoelectric energy harvesting beam is one of the most employed designs, due to its simplicity and flexibility for further performance enhancement. The research effort in the MEMS Piezoelectric vibration energy harvester designed using three types of cantilever materials, Lithium Niobate (LiNbO3), Aluminum Nitride (AlN) and Zinc Oxide (ZnO) with different substrate materials: aluminum, steel and silicon using COMSOL Multiphysics package were designed and analyzed. Voltage, mechanical power and electrical power versus frequency for different cantilever materials and substrates were modeled and simulated using Finite element method (FEM). The resonant frequencies of the LiNbO3/Al, AlN/Al and ZnO/Al systems were found to be 187.5 Hz, 279.5 Hz and 173.5 Hz, respectively. We found that ZnO/Al system yields optimum voltage and electrical power values of 8.2 V and 2.8 mW, respectively. For ZnO cantilever on aluminum, steel and silicon substrates, we found the resonant frequencies to be 173.5 Hz, 170 Hz and 175 Hz, respectively. Interestingly, ZnO/steel yields optimal voltage and electrical power values of 9.83 V and 4.02 mW, respectively. Furthermore, all systems were studied at different differentiate frequencies. We found that voltage and electrical power have increased as the acceleration has increased. 展开更多
关键词 MEMS PIEZOELECTRIC Energy Harvester CANTILEVER Lithium Niobate (LiNbO3) aluminum nitride (aln) Zinc Oxide (ZnO) Aluminium SUBSTRATE Steel SUBSTRATE Silicon SUBSTRATE COMSOL Finite Element Method
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High Potential Columnar Nanocrystalline AlN Films Deposited by RF Reactive Magnetron Sputtering 被引量:4
5
作者 Chengzhang Han Da Chen +4 位作者 Yaozhong Zhang Dong Xu Yijian Liu Eric Siu-Wai Kong Yafei Zhang 《Nano-Micro Letters》 SCIE EI CAS 2012年第1期40-44,共5页
Columnar nanocrystalline aluminum nitride(cnc-AlN) thin films with(002) orientation and uniform texture have been deposited successfully on large silicon wafers by RF reactive magnetron sputtering.At the optimum sputt... Columnar nanocrystalline aluminum nitride(cnc-AlN) thin films with(002) orientation and uniform texture have been deposited successfully on large silicon wafers by RF reactive magnetron sputtering.At the optimum sputtering parameters, the deposited cnc-AlN thin films show a c-axis preferred orientation with a crystallite size of about 28 nm and surface roughness(RMS) of about 1.29 nm. The cnc-AlN thin films were well transparent with an optical band gap about 4.8 e V, and the residual compressive stress and the defect density in the film have been revealed by Ramon spectroscopy. Moreover, piezoelectric performances of the cnc-AlN thin films executed effectively in a film bulk acoustic resonator structure. 展开更多
关键词 Columnar film aluminum nitride Piezoelectric effect RF sputtering Optical property
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ADC12铝合金表面氮化铝(AlN)涂层的制备及其耐磨性能研究 被引量:2
6
作者 丁山林 王疆瑛 +1 位作者 张莹 胡利军 《材料保护》 CAS CSCD 2023年第8期116-123,190,共9页
为了提高ADC12铝合金材料的耐磨性能,利用多功能离子渗氮炉在ADC12铝合金表面进行离子渗氮,制备氮化铝(AlN)涂层。通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜对表面AlN涂层的相结构与微观形貌进行表征;利用WS-2005涂层附着力自动划痕仪、WTM-2E... 为了提高ADC12铝合金材料的耐磨性能,利用多功能离子渗氮炉在ADC12铝合金表面进行离子渗氮,制备氮化铝(AlN)涂层。通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜对表面AlN涂层的相结构与微观形貌进行表征;利用WS-2005涂层附着力自动划痕仪、WTM-2E可控气氛微型摩擦磨损试验仪和3D光学显微镜研究AlN涂层与基体的膜基结合力、摩擦系数、比磨损率和摩擦磨损机理。结果显示:表面AlN涂层的相结构为面心立方,没有发现有Al_(2)O_(3)衍射峰存在。随着渗氮时间的延长和渗氮温度的升高,表面AlN涂层的厚度逐渐增大,膜基结合力先增大再减小,在510℃、4 h时膜基结合力最大,为56.60 N。相对于基体来说,AlN涂层样品在负载1 N、进行摩擦磨损试验10 min后,摩擦系数变小,比磨损率降低,表面AlN涂层厚度越厚,减缓磨损效果越明显。ADC12铝合金表面离子渗氮所得氮化铝(AlN)涂层具有优异的耐磨损性能。 展开更多
关键词 ADC12铝合金 离子氮化 氮化铝(aln)涂层 摩擦磨损
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Low-Temperature Synthesis of Nano-AlN Based on Solid Nitrogen Source by Plasma-Assisted Ball Milling
7
作者 Zhuoli Yang Xianbin Hou Leyang Dai 《Journal of Renewable Materials》 SCIE EI 2023年第6期2941-2951,共11页
Plasma-assisted ball milling was carried out on the Al+C3H6N6 system and Al+C_(4)H_(4)N_(4) system,respectively.The phase structure,functional groups and synthesis mechanism were analyzed by XRD and FT-IR,and the diff... Plasma-assisted ball milling was carried out on the Al+C3H6N6 system and Al+C_(4)H_(4)N_(4) system,respectively.The phase structure,functional groups and synthesis mechanism were analyzed by XRD and FT-IR,and the differences in the synthesis process of nano-AlN with different solid nitrogen sources were discussed.The results show that C3H6N6 has a stable triazine ring structure,and its chemical bond is firm and difficult to break,so AlN cannot be synthesized directly by solid-solid reaction at room temperature.However,there are a large number of nitrile groups(-CN)and amino groups(-NH_(2))in C_(4)H_(4)N_(4) molecules.Under the combined action of plasma bombardment and mechanical energy activation,C_(4)H_(4)N_(4) molecules undergo polycondensation and deamination,so that the ball milling tank is filled with a large number of active nitrogen-containing groups such as N=,≡N,etc.These groups and ball milling activated Al can synthesize nano-AlN at room temperature,with a conversion rate of 92%.SEM,DSC/TG analysis showed that the powder obtained by ball milling was formed by soft agglomeration of many fine primary particles about 50–80 nm.The surface morphology of the powder was loose and porous,and it had strong activity.After annealing at 800℃,the conversion rate of the Al+C_(4)H_(4)N_(4) system reached 99%. 展开更多
关键词 Plasma-assisted ball milling solid nitrogen source melamine(C_(3)H_(6)N_(6)) aluminum nitride(aln) low-temperature synthesis
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AlN陶瓷粉末制备方法特点和进展 被引量:23
8
作者 林健凉 曲选辉 +2 位作者 黄栋生 秦明礼 李笃信 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第6期576-579,共4页
本文就国内外AlN粉末合成的研究情况 ,综述了直接氮化法、Al2 O3 碳热还原法、自蔓延高温合成法、等离子体法、气溶胶法等主要的几种AlN粉末制备方法的特点和研究进展 。
关键词 制备 直接氮化法 碳热还原法 氮化铝陶瓷粉末
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反应溅射制备AlN薄膜中沉积速率的研究 被引量:26
9
作者 许小红 武海顺 +2 位作者 张富强 张聪杰 李佐宜 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期209-212,共4页
通过对溅射过程中辉光放电现象及薄膜沉积速率的研究 ,发现随着氮浓度的增大 ,靶面上形成一层不稳定的AlN层 ,由于AlN的溅射速率远小于Al,从而使薄膜的沉积速率显著下降。同时还研究了其它溅射参数对薄膜沉积速率的影响。结果表明 :随... 通过对溅射过程中辉光放电现象及薄膜沉积速率的研究 ,发现随着氮浓度的增大 ,靶面上形成一层不稳定的AlN层 ,由于AlN的溅射速率远小于Al,从而使薄膜的沉积速率显著下降。同时还研究了其它溅射参数对薄膜沉积速率的影响。结果表明 :随靶基距的增大和靶功率的减小 ,不同程度引起沉积速率的下降 ;随着溅射气压的增大 ,最初沉积速率不断增大 ,当溅射气压增大到一定程度时 ,沉积速率达到最大值 ,之后随溅射气压的增大 ,又不断减小。 展开更多
关键词 反应溅射 氮化铝薄膜 沉积速率
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一种压电氮化铝双端固支音叉型微谐振器
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作者 李浩霖 杨清瑞 +3 位作者 原毅 刘伯华 孙崇玲 张孟伦 《天津大学学报(自然科学与工程技术版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第12期1322-1330,共9页
针对小型化高性能谐振式压力传感器的应用需求,提出一种以压电驱动氮化铝(AlN)双端固支音叉型(DETF)微谐振器为敏感元件的新型压力传感器,并设计加工了其核心元器件.首先,通过理论分析,研究了尺寸参数对谐振器在面内弯曲振动模式下的频... 针对小型化高性能谐振式压力传感器的应用需求,提出一种以压电驱动氮化铝(AlN)双端固支音叉型(DETF)微谐振器为敏感元件的新型压力传感器,并设计加工了其核心元器件.首先,通过理论分析,研究了尺寸参数对谐振器在面内弯曲振动模式下的频率-轴向位移灵敏度及品质因数Q值的影响;同时,讨论了层叠结构和电极驱动方案对谐振器性能的影响,从而确定了谐振器设计参数,进一步采用微机电系统(MEMS)工艺加工了该谐振器并对其性能进行了测试.测试结果表明:在真空度为0.1 Pa的环境下,谐振器的Q值为11039,串联谐振阻抗Rs为6.2 kΩ;在常压环境下,谐振器的Q值为844,R_(s)为44.3 kΩ.两种测试条件下谐振器的性能均优于现有文献报道的同类型谐振器研究结果,为进一步实现高灵敏度、高精度和宽动态响应范围的谐振式压力传感器奠定了良好的基础.最后,采用有限元仿真方法确定了谐振器的频率-轴向位移灵敏度,研究了压力传感器灵敏度与压力敏感隔膜厚度的关系,设计了压力传感器加工流程,从而有望制作出完整的压力传感器芯片. 展开更多
关键词 微机电系统 压电驱动 双端固支音叉型谐振器 谐振式压力传感器 氮化铝薄膜
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溅射沉积AlN薄膜结构与基片种类的关系 被引量:12
11
作者 许小红 武海顺 +1 位作者 张聪杰 金志浩 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 2000年第4期256-258,共3页
采用高真空直流磁控反应溅射成功地在5种基片上制备出多晶择优取向的AlN薄膜。结果表明,5种基片均可生长(100)面择优取向的AlN薄膜,并且具有良好的纵向组成均匀性,表面粗造度小,晶粒均匀致密。在金属电极和 Si片上... 采用高真空直流磁控反应溅射成功地在5种基片上制备出多晶择优取向的AlN薄膜。结果表明,5种基片均可生长(100)面择优取向的AlN薄膜,并且具有良好的纵向组成均匀性,表面粗造度小,晶粒均匀致密。在金属电极和 Si片上沉积的 AlN薄膜结晶度、取向性、衍射强度差别较小,两者的结构均优于在盖玻片上沉积的 AlN薄膜。 展开更多
关键词 AIN薄膜 基片 磁控反应溅射
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AlN薄膜体声波谐振器的制备与性能分析 被引量:6
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作者 张凯 顾豪爽 +2 位作者 李位勇 胡光 胡明哲 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2007年第1期4-5,共2页
采用直流磁控反应溅射,在Pt电极上沉积了AlN压电薄膜,并制备了以SiO2为声反射层的体声波谐振器。用X-射线衍射(XRD)、电镜扫描(SEM)、原子力显微镜(AFM)测试表明,制备出的AlN薄膜具有高c轴择优取向、良好的柱状晶结构以及平滑的表面;用... 采用直流磁控反应溅射,在Pt电极上沉积了AlN压电薄膜,并制备了以SiO2为声反射层的体声波谐振器。用X-射线衍射(XRD)、电镜扫描(SEM)、原子力显微镜(AFM)测试表明,制备出的AlN薄膜具有高c轴择优取向、良好的柱状晶结构以及平滑的表面;用网络分析仪测试体声波谐振器得到较好的频率特性,即串、并联谐振频率分别为1.22 GHz1、.254 GHz,机电耦合系数为6.68%,带宽20 MHz。 展开更多
关键词 磁控溅射 氮化铝薄膜 c轴择优取向 薄膜体声波谐振器
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稀土掺杂注射成形AlN陶瓷的结构与性能 被引量:2
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作者 杜学丽 秦明礼 +2 位作者 冯培忠 李帅 曲选辉 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第5期639-642,共4页
以自蔓延法合成的AlN粉末为原料,加入5%Y2O3为烧结助剂,选用PW∶PP∶SA=60∶35∶5的粘结剂体系,以注射成形的方法制备了具有高热导率的、形状复杂的AlN陶瓷制品。脱脂采用溶剂脱脂与真空热脱脂相结合的工艺,脱脂后的坯体在高温碳管炉中... 以自蔓延法合成的AlN粉末为原料,加入5%Y2O3为烧结助剂,选用PW∶PP∶SA=60∶35∶5的粘结剂体系,以注射成形的方法制备了具有高热导率的、形状复杂的AlN陶瓷制品。脱脂采用溶剂脱脂与真空热脱脂相结合的工艺,脱脂后的坯体在高温碳管炉中流动N2气氛下进行烧结。利用XRD进行物相分析,SEM观察断口形貌,排水法测烧结试样的密度,激光闪光法测烧结试样的热导率。结果表明:当烧结温度在1850℃,保温4 h,得到致密度为3.28 g.cm-3,热导率为200 W.m-1.K-1的AlN陶瓷制品。AlN中的晶界第二相主要为Al2Y4O9。 展开更多
关键词 氮化铝 注射成形 热导率 第二相 稀土掺杂
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工艺参数对磁控反应溅射AlN薄膜沉积速率的影响 被引量:30
14
作者 乔保卫 刘正堂 李阳平 《西北工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期260-263,共4页
采用射频磁控反应溅射法 ,以高纯 Al为靶材 ,高纯 N2 为反应气体 ,成功制备了氮化铝( Al N)薄膜。研究了 N2 气流量、射频功率、溅射气压等工艺参数对 Al N膜沉积速率的影响规律。结果表明 ,随着 N2 气流量的增加 ,靶面溅射由金属态过... 采用射频磁控反应溅射法 ,以高纯 Al为靶材 ,高纯 N2 为反应气体 ,成功制备了氮化铝( Al N)薄膜。研究了 N2 气流量、射频功率、溅射气压等工艺参数对 Al N膜沉积速率的影响规律。结果表明 ,随着 N2 气流量的增加 ,靶面溅射由金属态过渡到氮化态 ,沉积速率随之明显降低 ;沉积速率随射频功率的增大几乎成线性增大 ,随靶基距的增大而减小 ;随着溅射气压的增大 ,沉积速率不断增大 ,但在一定气压下达到最大值后 ,沉积速率又随气压不断减小。 展开更多
关键词 磁控反应溅射 aln薄膜 沉积速率
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X波段FBAR用AlN薄膜制备研究 被引量:3
15
作者 彭华东 徐阳 +4 位作者 张永川 杜波 司美菊 蒋欣 赵明 《压电与声光》 CAS 北大核心 2019年第2期170-172,共3页
采用中频磁控溅射法,在硅基上制备了X波段薄膜体声波谐振器(FBAR)滤波器用AlN压电薄膜。对AlN薄膜进行了分析表征,结果表明,AlN压电薄膜具有良好的(002)面择优取向,摇摆曲线半峰宽为2.21°,膜厚均匀性优于0.5%,薄膜应力为-5.02 MPa... 采用中频磁控溅射法,在硅基上制备了X波段薄膜体声波谐振器(FBAR)滤波器用AlN压电薄膜。对AlN薄膜进行了分析表征,结果表明,AlN压电薄膜具有良好的(002)面择优取向,摇摆曲线半峰宽为2.21°,膜厚均匀性优于0.5%,薄膜应力为-5.02 MPa,应力可在张应力和压应力间进行调节。将该AlN薄膜制备工艺应用于FBAR器件的制作,研制出X波段FBAR器件,谐振频率为9.09 GHz,插入损耗为-0.38 dB。 展开更多
关键词 aln 压电薄膜 中频磁控溅射 薄膜应力 薄膜体声波谐振器(FBAR)
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AlN-Y_2O_3陶瓷注射成形研究 被引量:4
16
作者 林健凉 曲选辉 +3 位作者 黄栋生 李益民 邱光汉 李笃信 《粉末冶金材料科学与工程》 EI 2000年第2期106-112,共7页
研究了添加5%(质量分数,下同)和7%Y_2O_3的AlN陶瓷的注射成形工艺,制备了热导率达162.5 W/(m·K)的AlN陶瓷,利用XRD,SEM,XPS等方法初步分析了注射成形中Y_2O_3的添加量、烧结工艺与第二相组成的关系,并在此基础上分析了晶界第二相... 研究了添加5%(质量分数,下同)和7%Y_2O_3的AlN陶瓷的注射成形工艺,制备了热导率达162.5 W/(m·K)的AlN陶瓷,利用XRD,SEM,XPS等方法初步分析了注射成形中Y_2O_3的添加量、烧结工艺与第二相组成的关系,并在此基础上分析了晶界第二相对AlN材料热导率的影响,结果表明,注射成形AlN陶瓷的晶界第二相对AlN的热导性能有显著的影响。 展开更多
关键词 陶瓷粉末注射成形(CIM) 氮化铝(aln) 晶界第二相
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AlN粉末在氮氧混合气氛下抗水解性能的研究 被引量:2
17
作者 姚义俊 刘斌 +2 位作者 苏静 蒋晓龙 王涛 《南京信息工程大学学报(自然科学版)》 CAS 2014年第1期69-73,共5页
研究了在高氮/低氧混合气氛下热处理(500~700℃)对AlN(氮化铝)粉体表面特性及粉体抗水解性能的影响。实验结果表明:在高氮/低氧混合气氛保护下的AlN粉末表面覆盖了氧化铝薄膜层结构,有效地抑制了AlN与水的反应,阻碍了水分子向 A... 研究了在高氮/低氧混合气氛下热处理(500~700℃)对AlN(氮化铝)粉体表面特性及粉体抗水解性能的影响。实验结果表明:在高氮/低氧混合气氛保护下的AlN粉末表面覆盖了氧化铝薄膜层结构,有效地抑制了AlN与水的反应,阻碍了水分子向 AlN 粉末表面侵蚀的作用,提高了AlN粉末在潮湿环境中的抗水化能力,且热处理后粉末在水溶液中高剪切应力球磨过程中具有非常好的稳定性。 展开更多
关键词 aln粉末 热处理 抗水解 氮质量分数
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工艺参数对电子浴辅助阴极电弧源法合成AlN薄膜的影响 被引量:2
18
作者 潘俊德 田林海 +1 位作者 莘海维 贺琦 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期240-243,共4页
介绍了一种应用电子浴辅助阴极电弧源法合成AlN薄膜的新方法 ,研究了N2 流量、阴极偏压、工作气压等工艺参数对合成AlN薄膜质量的影响规律。结果表明 ,随N2 流量的增加 ,AlN薄膜的质量得以提高 ,当N2 流量达到 30mL·min-1时 ,可合... 介绍了一种应用电子浴辅助阴极电弧源法合成AlN薄膜的新方法 ,研究了N2 流量、阴极偏压、工作气压等工艺参数对合成AlN薄膜质量的影响规律。结果表明 ,随N2 流量的增加 ,AlN薄膜的质量得以提高 ,当N2 流量达到 30mL·min-1时 ,可合成较纯净的AlN薄膜 ;阴极偏压主要影响合成薄膜的结晶状况 ;此外 。 展开更多
关键词 阴极电弧源法 薄膜 电子浴 工艺参数 氮化铝
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电子浴辅助阴极电弧源法合成AlN薄膜影响因素研究 被引量:2
19
作者 潘俊德 田林海 +1 位作者 莘海维 贺琦 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2000年第6期34-35,64,共3页
研究了 N2 流量、阴极偏压、工作气压等工艺参数对电子浴辅助阴极电弧源法合成 Al N薄膜质量的影响规律及其原因。
关键词 阴极电弧源法 aln薄膜 电子浴 工艺参数 合成
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基于AlN压电层的薄膜体声波谐振器 被引量:1
20
作者 叶芸 吴雯 +3 位作者 刘婵 胡光 张凯 顾豪爽 《湖北大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2007年第2期153-155,共3页
以AlN薄膜为压电层,采用体硅微细加工工艺制备背空腔型结构薄膜体声波谐振器.材料测试结果表明,在优化溅射工艺下沉积的AlN薄膜具有(002)择优取向及良好的柱状晶结构.扫描电镜表征结果证实所制得空腔背部平滑且各向异性较好.用网络分析... 以AlN薄膜为压电层,采用体硅微细加工工艺制备背空腔型结构薄膜体声波谐振器.材料测试结果表明,在优化溅射工艺下沉积的AlN薄膜具有(002)择优取向及良好的柱状晶结构.扫描电镜表征结果证实所制得空腔背部平滑且各向异性较好.用网络分析仪测试可知,所制得的谐振器具有较好的频率特性:谐振频率为2.537 GHz,机电耦合系数3.75%,串、并联品质因数分别为101.8、79.7. 展开更多
关键词 薄膜体声波谐振器 氮化铝 择优取向 空腔
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