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无定形金刚石膜的光学性质 被引量：2
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作者 魏爱香 陈弟虎 彭少麒 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第1期81-84,共4页
采用磁过滤真空溅射离子沉积技术，研究了不同衬底负偏压下制备的样品的吸收光谱和光能隙，用632．8nm的椭圆偏振仪测量了膜的厚度和折射率．结果表明：衬底负偏压Vb在-50—20V范围内制备的样品，其光吸收主要是态的吸收，膜中有较多的... 采用磁过滤真空溅射离子沉积技术，研究了不同衬底负偏压下制备的样品的吸收光谱和光能隙，用632．8nm的椭圆偏振仪测量了膜的厚度和折射率．结果表明：衬底负偏压Vb在-50—20V范围内制备的样品，其光吸收主要是态的吸收，膜中有较多的SP3组份，光能降为3．1～3．4eV，形成无定形金刚石薄膜（a—D） 展开更多
关键词 无定形 金刚石膜 离子技术 吸收光谱 薄膜
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