位置敏感探测器(PSD)的研究进展

回顾了位置敏感传感器(PSD)的发展历史,介绍了各种光敏面结构的PSD。并结合研究成果,阐述了单晶硅、氢化非晶硅、有机材料、大面积挠性薄膜、CMOS型,一维及二维阵列PSD等采用各种组成材料和工艺制作的PSD的发展现状,并对今后的发展和研究方向进行了展望。

非晶硅光位敏探测器的开发

以横向光伏效应为工作模式,采用全非晶硅的Pin结构,研制了一维可见光波段的光位敏探测器(PSD_s).测试结果表明,该探测器的光位敏度可达9.7mV/mm,光讯号—位移的线性探测区占有效探测总面积的65％,而最大有效光敏面积约为2cm^2.

非晶硅平板探测器不一致性校正技术

针对非晶硅平板探测器不一致性偏大,导致探测器灵敏度出现非线性的问题,提出了基于探测器像元灵敏度均值的校正方法。此方法基于线性拟合校正的思想,在一定管电压下,改变管电流采集一组探测器基准图像,利用这组图像与其相应均值进行拟合,再把拟合系数作为校正因子对试件成像进行校正。该方法通过缩小校正的输入范围,满足线性系统成立的条件,使非线性问题线性化,实现了各像元点对点的线性校正。实验结果表明,与常规线性校正相比,该方法不仅提高了系统成像的动态范围,而且随着标准差的降低,信噪比相应地提高了近1.3倍。

新一代X射线探测器在射线实时成像检测中的应用

介绍非晶硅(a-Si)平板探测器的技术特性,及其取代常用的图像增强器在焊缝和铸件的工业射线实时成像(RTR)检测中的应用。试验结果证明,选用适当型号的a-Si平板探测器,可获得优于图像增强器的像质计(IQI)灵敏度和空间分辨率。

新一代X射线检测器在射线实时成像检测中的应用

介绍非晶硅(a-Si)平板检测器的技术特性,及其取代常用的图像增强器在工业射线实时成像检测中的应用——焊缝和铸件检验。实验结果证明:选用适当型号的a-Si平板检测器,可获得优于图像增强器的像质计(IQI)灵敏度和空阃分辨力。这是工业数字射线照相技术实用化的又一新突破。