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The influence of divergence angle on the deposition of neutral chromium atoms using a laser standing wave
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作者 张文涛 朱保华 +2 位作者 黄静 熊显名 蒋曲博 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第3期181-184,共4页
The characteristics of neutral chromium atoms in the standing wave field are discussed. Based on a semi-classical model, the motion equation of neutral atoms in the laser standing wave field is analyzed, and the traje... The characteristics of neutral chromium atoms in the standing wave field are discussed. Based on a semi-classical model, the motion equation of neutral atoms in the laser standing wave field is analyzed, and the trajectories of the atoms are obtained by simulations with the different divergence angles of the atomic beam. The simulation results show that the full width at half maximum (FWHM) of the stripe is 2.75 nm and the contrast is 38.5 : 1 when the divergence angle equals 0 mrad, the FWHM is 24.1 nm and the contrast is 6.8:1 when the divergence angle equals 0.2 mrad and the FWHMs are 58.6 and 137.8 nm, and the contrasts are 3.3 : 1 and 1.6 : i when the divergence angles equal 0.5 and 1.0 mrad, respectively. 展开更多
关键词 atom lithography laser standing wave full wave at half maximum CONTRAST
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Influence of laser power on deposition of the chromium atomic beam in laser standing wave 被引量:1
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作者 ZHANG WenTao ZHU BaoHua +1 位作者 ZHANG BaoWu LI TongBao 《Science China(Physics,Mechanics & Astronomy)》 SCIE EI CAS 2009年第8期1183-1186,共4页
One-dimensional deposition of collimated Cr atomic beam focused by a near-resonant Gaussian standing-laser field with wavelength of 425.55 nm is examined from particle-optics approach by using an adaptive step size,fo... One-dimensional deposition of collimated Cr atomic beam focused by a near-resonant Gaussian standing-laser field with wavelength of 425.55 nm is examined from particle-optics approach by using an adaptive step size,fourth-order Runge-Kutta type algorithm.The influence of laser power on deposition of atoms in laser standing wave is discussed and the simulative result shows that the FWHM of nanometer stripe is 102 nm and contrast is 2:1 with laser power equal to 3 mW,the FWHM is 1.2 nm and contrast is 32:1 with laser power equal to 16 mW,but with laser power increase,equal to 50 mW,the nonmeter structure forms the multi-crests and exacerbates. 展开更多
关键词 atom lithography LASER standing wave LASER power
原文传递
驻波透镜聚焦原子束制作纳米图形研究 被引量:5
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作者 陈元培 陈旭南 +1 位作者 李展 陈献忠 《微纳电子技术》 CAS 2003年第7期546-549,556,共5页
介绍了将激光驻波聚焦原子束技术用于制作纳米级图形的基本原理和实验系统设计。研究了驻波透镜对原子束的聚焦特性及像差 ,数值结果显示原子束在置于焦平面处的基底上所沉积的条纹半高宽为 10nm左右 ,可以实现纳米级超微细图形的制作。
关键词 驻波透镜 聚焦原子束 纳米图形 原子光学 原子光刻 透镜像差
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一维原子刻蚀的数值模拟(英文) 被引量:1
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作者 何明 李若虹 +2 位作者 王晓锐 王谨 詹明生 《计算物理》 CSCD 北大核心 2004年第3期327-332,共6页
 通过直接的数值模拟,分析了原子束在激光驻波场下传播的动力学行为.估计了Cr原子沉积在基片上的焦点的大小,同时还发现一些实验参数会影响原子刻蚀的精度:如原子束的速度分布、激光的失谐量和激光束的直径等.
关键词 原子刻蚀 激光驻波场 量子力学数值模拟 原子物理学 失谐量
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激光驻波透镜聚焦原子束制作超微细图形研究
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作者 陈元培 李展 +1 位作者 陈旭南 陈献忠 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2003年第6期18-19,共2页
介绍将原子束激光准直技术和驻波聚焦沉积技术用于制作纳米级图形的基本原理和实验系统设计。研究了驻波透镜对原子束的聚焦特性 ,数值结果显示在原子束高度准直的情况下 ,原子束在置于焦平面处的基底上所沉积的条纹半高宽为 10nm左右 ... 介绍将原子束激光准直技术和驻波聚焦沉积技术用于制作纳米级图形的基本原理和实验系统设计。研究了驻波透镜对原子束的聚焦特性 ,数值结果显示在原子束高度准直的情况下 ,原子束在置于焦平面处的基底上所沉积的条纹半高宽为 10nm左右 ,可以实现纳米级超微细图形的制作。 展开更多
关键词 原子光学 光刻 原子束 驻波 透镜 激光准直技术 驻波聚焦沉积技术 超微细图形 微细加工
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发散角对中性原子沉积特性的影响(英文)
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作者 张文涛 朱保华 +2 位作者 汪杰君 张宝武 熊显名 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2016年第3期96-100,共5页
利用激光驻波场操纵中性原子沉积纳米光栅结构是一种新颖的制备纳米计量标准技术,但采用传统的一维和二维方式对激光驻波场操纵中性原子沉积过程的分析缺乏纳米光栅的全貌信息,而采用三维分析方法则能给出纳米光栅的三维全貌信息,对结... 利用激光驻波场操纵中性原子沉积纳米光栅结构是一种新颖的制备纳米计量标准技术,但采用传统的一维和二维方式对激光驻波场操纵中性原子沉积过程的分析缺乏纳米光栅的全貌信息,而采用三维分析方法则能给出纳米光栅的三维全貌信息,对结果的分析越精确。针对此,基于采用三维分析方法建立了激光驻波场与中性原子作用的模型,通过三维分析实现了不同原子束发散角条件下中性原子运动轨迹及沉积结果的三维仿真,结果显示当中性原子束发散角小于0.6 mrad时,所获得的纳米光栅的沉积质量较好,而超过0.6 mrad后所沉积的纳米光栅将会出现分裂现象。 展开更多
关键词 三维分析 中性原子 发散角 高斯激光驻波场
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Analysis of Aberrations in Laser-Focused Nanofabrication
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作者 张文涛 张宝武 李同保 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2007年第7期1890-1893,共4页
Based on the semi-classical model, we analyse the motion equation of chromium atoms in the laser standing wave field under the condition of low intensity light field using fourth-order Adams-Moulton algorithm. The tra... Based on the semi-classical model, we analyse the motion equation of chromium atoms in the laser standing wave field under the condition of low intensity light field using fourth-order Adams-Moulton algorithm. The trajectory of the atoms is obtained in the standing wave field by analytical simulation. The image distortion coming from aberrations is analysed and the effects on focal beam features are also discussed. Besides these influences, we also discuss the effects on contrast as well as the feature width of the atomic beam due to laser power and laser beam waist. The simulation results have shown that source imperfection, especially the transverse velocity spread, plays a critical role in broadening the feature width. Based on these analyse, we present some suggestions to minimize these influences. 展开更多
关键词 NEUTRAL-atom lithography standing-wave LIGHT DEPOSITION BEAM
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偏斜椭圆激光驻波场作用下中性原子沉积纳米光栅结构特性分析 被引量:8
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作者 张文涛 朱保华 +1 位作者 黄静 熊显名 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第10期215-219,共5页
分析了椭圆激光驻波场的偏斜对中性原子运动过程和沉积过程的影响,对不同偏斜角度椭圆激光驻波场作用下中性铬原子沉积纳米光栅结构的特性进行了仿真研究,由仿真结果可以看出,随着偏斜椭圆形激光束偏斜角的增加,对应于不同y平面,激光驻... 分析了椭圆激光驻波场的偏斜对中性原子运动过程和沉积过程的影响,对不同偏斜角度椭圆激光驻波场作用下中性铬原子沉积纳米光栅结构的特性进行了仿真研究,由仿真结果可以看出,随着偏斜椭圆形激光束偏斜角的增加,对应于不同y平面,激光驻波场汇聚中性原子所形成纳米光栅条纹的对比度不断减小、半高宽不断增大.当椭圆长短轴之比为2:1条件下,椭圆激光驻波场的偏斜角为0°时,纳米光栅的条纹半高宽为3.2nm,条纹对比度为36:1,而当偏斜角为15°时,激光驻波场中心位置处的沉积条纹的半高宽为6.5nm,条纹对比度为24:1,而当椭圆激光驻波场偏斜角度达到30°时,沉积条纹的单峰结构将会产生分裂,形成了双峰结构,且随着偏斜角的增加,沉积条纹的分裂越严重,纳米光栅的沉积质量越差.对于其他长短轴比例条件下的激光场亦可根据比例关系获得相应的纳米光栅沉积特性. 展开更多
关键词 原子光刻 偏斜椭圆激光驻波场 纳米光栅
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激光会聚铬原子光栅三维特性分析 被引量:8
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作者 张萍萍 马艳 +1 位作者 张宝武 李同保 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第11期190-194,共5页
采用近共振激光驻波场会聚铬原子沉积技术制作的原子光栅可以作为纳米级长度计量标准。基于粒子光学模型,综合考虑横向发散角、纵向速度分布以及同位素等影响因素,采用蒙特卡罗方法确定原子运动的初始条件,对激光驻波会聚原子的三维特... 采用近共振激光驻波场会聚铬原子沉积技术制作的原子光栅可以作为纳米级长度计量标准。基于粒子光学模型,综合考虑横向发散角、纵向速度分布以及同位素等影响因素,采用蒙特卡罗方法确定原子运动的初始条件,对激光驻波会聚原子的三维特性进行了研究。获得了不同激光功率下沉积条纹的三维结构,分析了纵向高斯激光分布和椭圆高斯激光截面对沉积条纹的影响。模拟结果表明,当激光功率为40mW时,可观测的纳米光栅图案能在基板87%区域内出现,对应于高斯光束中心处条纹半峰全宽为31nm。当高斯激光束截面为圆形时,沉积质量较好。 展开更多
关键词 激光光学 原子光刻 纳米计量 激光驻波场 蒙特卡罗方法
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原子光刻中驻波场与基片距离的判定方法研究 被引量:4
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作者 王建波 钱进 +2 位作者 殷聪 石春英 雷鸣 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2012年第19期106-110,共5页
原子光刻实验中,激光驻波场能起到原子透镜的效果,实现原子汇聚.激光驻波场与沉积基片间的距离对形成纳米条纹结构的质量具有重要影响.利用高斯光束传播规律,提出了一种能够定量判断激光驻波场与沉积基片相对位置的实验方法.该方法通过... 原子光刻实验中,激光驻波场能起到原子透镜的效果,实现原子汇聚.激光驻波场与沉积基片间的距离对形成纳米条纹结构的质量具有重要影响.利用高斯光束传播规律,提出了一种能够定量判断激光驻波场与沉积基片相对位置的实验方法.该方法通过调节装载有凸透镜和反射镜的精密位移台改变驻波场距基片的距离,利用光电探测器接收反射光强的变化,将位移改变量转变为接收器的电压信号.利用驻波场激光束光斑直径值,实现准确定位驻波场与基片的距离.对上述实验过程进行数值模拟,数值计算的结果和实验结果高度符合.该方法实现了准确定位驻波场距基片的距离,为后续深入研究驻波场和基片间距离对沉积纳米条纹结构质量的影响提供实验基础. 展开更多
关键词 原子光刻 原子沉积 一维纳米光栅 激光驻波场
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中性钠原子在激光驻波场中的运动特性研究 被引量:6
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作者 张文涛 朱保华 熊显名 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期183-189,共7页
基于半经典理论,分析了中性钠原子在激光驻波场中的受力特征,以此为基础分别对不同纵向运动速度和横向运动速度条件下中性钠原子的运动轨迹进行了仿真运算,得到了不同速度条件下中性钠原子的运动轨迹特征,基于累计算法进一步对不同速度... 基于半经典理论,分析了中性钠原子在激光驻波场中的受力特征,以此为基础分别对不同纵向运动速度和横向运动速度条件下中性钠原子的运动轨迹进行了仿真运算,得到了不同速度条件下中性钠原子的运动轨迹特征,基于累计算法进一步对不同速度条件下中性钠原子的沉积特性进行了仿真,当钠原子的纵向运动速度符合最可及速度(740m/s)时,纳米沉积条纹的半高宽为2.78nm,条纹对比度为38.5∶1,当纵向运动速度偏离最可及速度(350m/s)时,纳米沉积条纹的半高宽为29.1nm,其对比度下降为15∶1.而当中性钠原子的横向运动速度为0.12m/s(对应原子束发散角为0.15mrad)时,纳米沉积条纹的半高宽为4.2nm,条纹对比度为20∶1,当中性钠原子的横向运动速度为1.2m/s(对应原子束发散角为1.5mrad)时,纳米条纹呈现多峰结构,条纹质量恶化. 展开更多
关键词 原子光刻 激光驻波场 条纹半高宽 条纹对比度
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原子运动速度对激光驻波场作用下纳米光栅沉积特性的影响 被引量:4
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作者 张文涛 朱保华 +1 位作者 熊显名 黄静 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期240-244,共5页
利用近共振激光驻波场操纵中性原子实现纳米光栅的沉积是一种新型的研制纳米结构方法,处于激光驻波场中的原子运动速度特性对最终纳米光栅的沉积特性有着重要的影响.利用半经典理论,基于4阶Runge-Kutta算法进行了不同铬原子纵向和横向... 利用近共振激光驻波场操纵中性原子实现纳米光栅的沉积是一种新型的研制纳米结构方法,处于激光驻波场中的原子运动速度特性对最终纳米光栅的沉积特性有着重要的影响.利用半经典理论,基于4阶Runge-Kutta算法进行了不同铬原子纵向和横向运动速度条件下纳米光栅结构沉积的仿真研究.研究表明,铬原子纵向速度为最大概率速度960m/s时,所形成的纳米光栅的半高宽为1.49nm,对比度为62.1:1,当铬原子的纵向速度为半最大概率速度480m/s时,纳米光栅的半高宽为5.35nm,对比度下降为25.6:1.同时,对原子的横向速度影响沉积特性的研究表明,当原子的横向运动速度为0.25m/s时,纳米光栅结构的半高宽为4.18nm,条纹对比度为20.9:1,当原子的横向运动速度为0.50m/s时,纳米光栅结构的半高宽变为58.4nm,条纹对比度减小为8.9:1,沉积条纹质量下降. 展开更多
关键词 原子光刻 纳米计量 激光驻波场 纳米光栅结构
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椭圆型激光驻波场作用下Cr原子的汇聚特性研究 被引量:3
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作者 张文涛 朱保华 熊显名 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第12期8199-8204,共6页
利用近共振激光驻波场操纵中性原子实现纳米级条纹沉积技术是一种新型的研制纳米结构长度标准传递的方法.分析了Cr原子在椭圆型激光驻波场作用下的沉积特性,分别对不同椭圆激光驻波场功率下Cr原子的沉积条纹及不同y平面上沉积条纹特性... 利用近共振激光驻波场操纵中性原子实现纳米级条纹沉积技术是一种新型的研制纳米结构长度标准传递的方法.分析了Cr原子在椭圆型激光驻波场作用下的沉积特性,分别对不同椭圆激光驻波场功率下Cr原子的沉积条纹及不同y平面上沉积条纹特性进行了模拟和分析.同时针对椭圆激光驻波场作用下Cr原子发散角对沉积条纹特性的影响进行了模拟计算,比较了不同发散角条件下沉积条纹的对比度和半高宽. 展开更多
关键词 原子光刻 椭圆激光驻波场 Cr原子
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