辅助加热PCVD-TiN薄膜的性能及结构分析

研究了反应气体对辅助加热ＰＣＶＤ－ＴｉＮ薄膜制备的影响。结果表明，提高反应气体中ＴｉＣｌ４的含量ＴｉＮ薄膜内的氯含量基本不变。提高反应气体中的Ｈ２／Ｎ２比可以略降低薄膜内的氯含量，在Ｈ２／Ｎ２＝２、ＴｉＣｌ４约为１０％时ＴｉＮ薄膜的硬度最高，ＴｉＮ薄膜仍呈柱状结构，具有较强的（２００）晶面织构。

辅助加热PCVD-TiN薄膜的制备及影响因素

研究了反应气体对辅助加热ＰＣＶＤＴｉＮ薄膜制备的影响。结果表明，提高反应气体中ＴｉＣｌ４的含量可以提高薄膜的沉积速率，而且对薄膜内的氯含量没有影响。提高反应气体中的Ｖ（Ｈ２）／Ｖ（Ｎ２）可以略降低薄膜内的氯含量，在Ｖ（Ｈ２）／Ｖ（Ｎ２）＝２，ＴｉＣｌ４的体积分数为１０％左右时ＴｉＮ薄膜的硬度最高。随着反应气压的升高，沉积速率呈正比上升而显微硬度却下降。