期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
8
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
LNG接收站港池水深扫测技术
1
作者
陈小虎
安兴芳
《全面腐蚀控制》
2024年第1期45-49,共5页
液化天然气作为清洁能源,在能源行业正在迅猛发展。而LNG码头区域由于受到潮流等因素掀起的海底泥沙的影响,导致水下回淤严重,直接威胁到LNG接卸船通航的安全。本文以粤东LNG为例,系统阐述了港池水深扫测技术,并根据调查结果提出合理化...
液化天然气作为清洁能源,在能源行业正在迅猛发展。而LNG码头区域由于受到潮流等因素掀起的海底泥沙的影响,导致水下回淤严重,直接威胁到LNG接卸船通航的安全。本文以粤东LNG为例,系统阐述了港池水深扫测技术,并根据调查结果提出合理化建议,推动LNG产业高质量发展。
展开更多
关键词
LNG接收站
潮位
多波束
水深扫测
下载PDF
职称材料
相控阵的子阵级数字波束扫描方法研究
被引量:
2
2
作者
胡航
宗成阁
+1 位作者
刘伟会
吴群
《系统工程与电子技术》
EI
CSCD
北大核心
2009年第4期733-736,共4页
在子阵级相控阵中,对于多波束形成等很多应用,需要在子阵级进行数字波束扫描。此时抑制扫描后的方向图旁瓣是一个重要问题。基于具有圆形投影区域的期望子阵方向图,构造了子阵级加权网络,通过对子阵输出进行后处理得到了新的子阵方向图...
在子阵级相控阵中,对于多波束形成等很多应用,需要在子阵级进行数字波束扫描。此时抑制扫描后的方向图旁瓣是一个重要问题。基于具有圆形投影区域的期望子阵方向图,构造了子阵级加权网络,通过对子阵输出进行后处理得到了新的子阵方向图,从而抑制了子阵级波束扫描的方向图旁瓣。该方法与基于矩形投影区域的期望子阵方向图方法相比,提高了子阵级波束扫描的旁瓣抑制性能。仿真结果验证了理论分析的有效性。
展开更多
关键词
子阵级扫描
波束扫描
旁瓣抑制
加权网络
平面相控阵
下载PDF
职称材料
集成电路封装级失效及其定位
被引量:
5
3
作者
张蓬鹤
陈选龙
+2 位作者
刘丽媛
林道谭
何胜宗
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第6期455-459,477,共6页
失效分析中有许多类型的封装级失效。由于封装材料限制或者无损检测要求,无法从外观直接观察到失效点,需要借助于设备进行失效定位才能快速、准确地进行分析。总结了集成电路封装级失效的几种常见失效机理和失效原因,提出三种有效的分...
失效分析中有许多类型的封装级失效。由于封装材料限制或者无损检测要求,无法从外观直接观察到失效点,需要借助于设备进行失效定位才能快速、准确地进行分析。总结了集成电路封装级失效的几种常见失效机理和失效原因,提出三种有效的分析手段和分析方法进行失效定位:X射线检测、超声扫描声学显微镜以及热激光激发光致电阻变化(OBIRCH)技术,分别用于元器件结构观察、不同材料界面特性分析和键合损伤位置定位。从倒装芯片封装、陶瓷封装、塑料封装和金铝键合短路四个失效分析的实际案例出发,阐明三种封装级失效定位手段应用的领域、特点和局限性。结果表明在封装级失效中,通孔断裂开路、焊料桥连短路、键合损伤和界面分层等缺陷能够准确地被定位进而分析。
展开更多
关键词
集成电路
封装级失效
光致电阻变化(OBIRCH)
失效分析
失效定位
扫描声学显微镜
(
SAM)
下载PDF
职称材料
一种有效的子阵级波束扫描旁瓣抑制方法
被引量:
3
4
作者
胡航
刘伟会
+1 位作者
吴群
肖勇
《电波科学学报》
EI
CSCD
北大核心
2009年第4期593-597,666,共6页
在子阵级数字波束扫描中,方向图的旁瓣抑制是一个重要问题。分析了子阵级波束扫描的方向图特性。基于正态分布的期望子阵方向图来构造加权网络,得到了旁瓣很低的新子阵方向图,较好地抑制了子阵级波束扫描的方向图旁瓣;与基于理想空域滤...
在子阵级数字波束扫描中,方向图的旁瓣抑制是一个重要问题。分析了子阵级波束扫描的方向图特性。基于正态分布的期望子阵方向图来构造加权网络,得到了旁瓣很低的新子阵方向图,较好地抑制了子阵级波束扫描的方向图旁瓣;与基于理想空域滤波器的期望子阵方向图方法相比,显著改善了旁瓣抑制效果。仿真结果证明了所提出方法的有效性。
展开更多
关键词
子阵级波束扫描
旁瓣抑制
正态分布子阵方向图
加权网络
下载PDF
职称材料
一种可有效降低运算代价的子阵级波束扫描的旁瓣抑制方法
5
作者
胡航
刘伟会
吴群
《电子与信息学报》
EI
CSCD
北大核心
2009年第8期1867-1871,共5页
在子阵级相控阵中,对于多波束形成等很多应用,需要在子阵级进行数字波束扫描。此时抑制扫描方向图的旁瓣是一个重要问题,而其关键在于构造有效的子阵级加权网络。该文将整个阵列作为一个超阵、将每个子阵作为一个超元来考虑,基于用超元...
在子阵级相控阵中,对于多波束形成等很多应用,需要在子阵级进行数字波束扫描。此时抑制扫描方向图的旁瓣是一个重要问题,而其关键在于构造有效的子阵级加权网络。该文将整个阵列作为一个超阵、将每个子阵作为一个超元来考虑,基于用超元方向图近似表示真实子阵方向图的处理思想,使得构造加权网络所需要的各矩阵的维数由原来与阵元数相同降低为与子阵数相同,从而可十分显著地降低运算代价;而且可得到波束形状、宽度及增益均很接近的新的子阵方向图。该方法可在一定程度上抑制子阵级波束扫描后的阵列方向图旁瓣。仿真结果证明了其有效性。
展开更多
关键词
相控阵雷达
子阵级波束扫描
旁瓣抑制
加权网络
超元
下载PDF
职称材料
非周期阵列天线辐射性能的研究
6
作者
张宙
杜彪
韩国栋
《现代雷达》
CSCD
北大核心
2013年第3期50-54,共5页
针对非周期大间距矩形阵列,运用遗传算法对其进行优化布阵和幅度加权,得到各阵元最佳的位置和幅度分布,使得阵列扫描范围内的副瓣电平最低。研究了阵元间距、阵列扫描范围、单元天线波束宽度等3种因素对阵列副瓣电平和增益的影响,得到...
针对非周期大间距矩形阵列,运用遗传算法对其进行优化布阵和幅度加权,得到各阵元最佳的位置和幅度分布,使得阵列扫描范围内的副瓣电平最低。研究了阵元间距、阵列扫描范围、单元天线波束宽度等3种因素对阵列副瓣电平和增益的影响,得到了各因素对阵列辐射性能影响的规律。通过遗传算法优化得到了扫描范围内副瓣电平最低时的阵元间距,可用于指导工程设计。
展开更多
关键词
非周期阵列
大间距
副瓣电平
阵元间距
扫描范围
单元天线波束宽度
下载PDF
职称材料
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
7
作者
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻...
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
展开更多
关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
下载PDF
职称材料
扫描干涉场曝光中关键技术的现状与发展趋势
被引量:
2
8
作者
程伟林
朱菁
+2 位作者
张运波
曾爱军
黄惠杰
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2015年第10期1-12,共12页
扫描干涉场曝光(SBIL)在制作大尺寸、纳米精度的衍射光栅中有着独特的优势。为了充分了解SBIL系统的技术特点,介绍了国内外SBIL技术的发展现状,并针对SBIL系统中的各个关键技术进行技术性的调研与总结,着重分析了各关键技术已有解决方...
扫描干涉场曝光(SBIL)在制作大尺寸、纳米精度的衍射光栅中有着独特的优势。为了充分了解SBIL系统的技术特点,介绍了国内外SBIL技术的发展现状,并针对SBIL系统中的各个关键技术进行技术性的调研与总结,着重分析了各关键技术已有解决方法的基本原理、优点以及存在的局限性,结合具体的光栅应用要求,给出了各关键技术的相应具体指标,展望了其发展趋势。
展开更多
关键词
光栅
扫描干涉场曝光
衍射光栅
大尺寸
纳米精度
原文传递
题名
LNG接收站港池水深扫测技术
1
作者
陈小虎
安兴芳
机构
中海油田服务股份有限公司物探事业部
中海华洋(天津)企业管理服务有限公司
出处
《全面腐蚀控制》
2024年第1期45-49,共5页
文摘
液化天然气作为清洁能源,在能源行业正在迅猛发展。而LNG码头区域由于受到潮流等因素掀起的海底泥沙的影响,导致水下回淤严重,直接威胁到LNG接卸船通航的安全。本文以粤东LNG为例,系统阐述了港池水深扫测技术,并根据调查结果提出合理化建议,推动LNG产业高质量发展。
关键词
LNG接收站
潮位
多波束
水深扫测
Keywords
LNG receiving station
the tide
level
multi-
beam
depth
scanning
分类号
TE872 [石油与天然气工程—油气储运工程]
下载PDF
职称材料
题名
相控阵的子阵级数字波束扫描方法研究
被引量:
2
2
作者
胡航
宗成阁
刘伟会
吴群
机构
哈尔滨工业大学电子与信息技术研究院
出处
《系统工程与电子技术》
EI
CSCD
北大核心
2009年第4期733-736,共4页
基金
中国博士后科学基金(20080430905)
航天支撑基金资助课题
文摘
在子阵级相控阵中,对于多波束形成等很多应用,需要在子阵级进行数字波束扫描。此时抑制扫描后的方向图旁瓣是一个重要问题。基于具有圆形投影区域的期望子阵方向图,构造了子阵级加权网络,通过对子阵输出进行后处理得到了新的子阵方向图,从而抑制了子阵级波束扫描的方向图旁瓣。该方法与基于矩形投影区域的期望子阵方向图方法相比,提高了子阵级波束扫描的旁瓣抑制性能。仿真结果验证了理论分析的有效性。
关键词
子阵级扫描
波束扫描
旁瓣抑制
加权网络
平面相控阵
Keywords
scanning
at subarray
level
beam
scanning
sidelobe suppression
weighting network
planar phased array
分类号
TN957.51 [电子电信—信号与信息处理]
TN911.7 [电子电信—通信与信息系统]
下载PDF
职称材料
题名
集成电路封装级失效及其定位
被引量:
5
3
作者
张蓬鹤
陈选龙
刘丽媛
林道谭
何胜宗
机构
中国电力科学研究院
工业和信息化部电子第五研究所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第6期455-459,477,共6页
文摘
失效分析中有许多类型的封装级失效。由于封装材料限制或者无损检测要求,无法从外观直接观察到失效点,需要借助于设备进行失效定位才能快速、准确地进行分析。总结了集成电路封装级失效的几种常见失效机理和失效原因,提出三种有效的分析手段和分析方法进行失效定位:X射线检测、超声扫描声学显微镜以及热激光激发光致电阻变化(OBIRCH)技术,分别用于元器件结构观察、不同材料界面特性分析和键合损伤位置定位。从倒装芯片封装、陶瓷封装、塑料封装和金铝键合短路四个失效分析的实际案例出发,阐明三种封装级失效定位手段应用的领域、特点和局限性。结果表明在封装级失效中,通孔断裂开路、焊料桥连短路、键合损伤和界面分层等缺陷能够准确地被定位进而分析。
关键词
集成电路
封装级失效
光致电阻变化(OBIRCH)
失效分析
失效定位
扫描声学显微镜
(
SAM)
Keywords
integrated circuit
package
level
failure
optical
beam
induced resistance change(OBIRCH)
failure analysis
failure localization
scanning
acoustic microscopy (SAM)
分类号
TM406 [电气工程—电器]
下载PDF
职称材料
题名
一种有效的子阵级波束扫描旁瓣抑制方法
被引量:
3
4
作者
胡航
刘伟会
吴群
肖勇
机构
哈尔滨工业大学电子与信息技术研究院
毫米波/亚毫米波末制导技术国防科技重点实验室
出处
《电波科学学报》
EI
CSCD
北大核心
2009年第4期593-597,666,共6页
基金
中国博士后科学基金资助项目(20080430905)
航天支撑基金项目
文摘
在子阵级数字波束扫描中,方向图的旁瓣抑制是一个重要问题。分析了子阵级波束扫描的方向图特性。基于正态分布的期望子阵方向图来构造加权网络,得到了旁瓣很低的新子阵方向图,较好地抑制了子阵级波束扫描的方向图旁瓣;与基于理想空域滤波器的期望子阵方向图方法相比,显著改善了旁瓣抑制效果。仿真结果证明了所提出方法的有效性。
关键词
子阵级波束扫描
旁瓣抑制
正态分布子阵方向图
加权网络
Keywords
beam scanning at sub-array level
side lobe suppression
sub-array
pattern with normal distribution
weighting network
分类号
TN957.51 [电子电信—信号与信息处理]
TN911.7 [电子电信—通信与信息系统]
下载PDF
职称材料
题名
一种可有效降低运算代价的子阵级波束扫描的旁瓣抑制方法
5
作者
胡航
刘伟会
吴群
机构
哈尔滨工业大学电子与信息技术研究院
出处
《电子与信息学报》
EI
CSCD
北大核心
2009年第8期1867-1871,共5页
基金
中国博士后科学基金(20080430905)
航天支撑基金项目资助课题
文摘
在子阵级相控阵中,对于多波束形成等很多应用,需要在子阵级进行数字波束扫描。此时抑制扫描方向图的旁瓣是一个重要问题,而其关键在于构造有效的子阵级加权网络。该文将整个阵列作为一个超阵、将每个子阵作为一个超元来考虑,基于用超元方向图近似表示真实子阵方向图的处理思想,使得构造加权网络所需要的各矩阵的维数由原来与阵元数相同降低为与子阵数相同,从而可十分显著地降低运算代价;而且可得到波束形状、宽度及增益均很接近的新的子阵方向图。该方法可在一定程度上抑制子阵级波束扫描后的阵列方向图旁瓣。仿真结果证明了其有效性。
关键词
相控阵雷达
子阵级波束扫描
旁瓣抑制
加权网络
超元
Keywords
Phased array radar
beam
scanning
at subarray
level
Sidelobe suppression
Weighting network
Super element
分类号
TN958.92 [电子电信—信号与信息处理]
下载PDF
职称材料
题名
非周期阵列天线辐射性能的研究
6
作者
张宙
杜彪
韩国栋
机构
中国电子科技集团公司第五十四研究所
出处
《现代雷达》
CSCD
北大核心
2013年第3期50-54,共5页
文摘
针对非周期大间距矩形阵列,运用遗传算法对其进行优化布阵和幅度加权,得到各阵元最佳的位置和幅度分布,使得阵列扫描范围内的副瓣电平最低。研究了阵元间距、阵列扫描范围、单元天线波束宽度等3种因素对阵列副瓣电平和增益的影响,得到了各因素对阵列辐射性能影响的规律。通过遗传算法优化得到了扫描范围内副瓣电平最低时的阵元间距,可用于指导工程设计。
关键词
非周期阵列
大间距
副瓣电平
阵元间距
扫描范围
单元天线波束宽度
Keywords
aperiodic array
large space of elements
side lobe
level
element spacing
scan
ned area
element
beam
-width
分类号
TN820 [电子电信—信息与通信工程]
下载PDF
职称材料
题名
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
7
作者
董启明
郭小伟
机构
电子科技大学光电信息学院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
Keywords
Interference lithography
Surface plasmon plortiton
Kretschmann structureCLCN: TN305.7 Document Code:A Article ID:1004-4213(2012)05-0558-70 IntroductionThere is a growing interest in exploring new nanolithography techniques with high efficiency,low cost and large-area fabrication to fabricate nanoscale devices for nanotechnology applications.Conventional photolithography has remained a useful microfabrication technology because of its ease of repetition and suitability for large-area fabrication[1].The diffraction limit,however,restricts the fabrication scale of photolithography[2].Potential solutions that have actually been pursued require increasingly shorter illumination wavelengths for replicating smaller structures.It is becoming more difficult and complicated to use the short optical wavelengths to reach the desired feature sizes.Other methods such as electron
beam
lithography[3],ion
beam
lithography[4],
scanning
probe lithography[5],nanoimprint lithography(NIL)[6],and evanescent near-field optical lithography(ENFOL)[7] have been developed in order to achieve nanometer-scale features.As we know,the former three techniques need
scanning
and accordingly are highly inefficient.In NIL,the
level
ing of the imprint template and the substrate during the printing process,which determines the uniformity of the imprint result,is a challenging issue of this method.ENFOL have the potential to produce subwavelength structures with high efficiency,but it encounters the fact that the evanescent field decays rapidly through the aperture,thus attenuating the transmission intensity at the exit plane and limiting the exposure distance to the scale of a few tens of nanometers from the mask.In recent years,the use of surface-plasmon polaritons(SPPs) instead of photons as an exposure source was rapidly developed to fabricate nanoscale structures.SPPs are characterized by its near field enhancement so that SPP-based lithography can greatly extend exposure depth and improve pattern contrast.Grating-assisted SPP interference,such as SPP resonant interference nanolithography[8] and SPP-assisted interference nanolithography[9],achieved a sub-100nm interference pattern.The techniques,however,are necessary to fabricate a metal grating with a very fine period and only suitable for small-area interference.To avoid the fabrication of the metal grating,a prism-based SPP maskless interference lithography was proposed in 2006,which promises good lithography performance.The approach offers potential to achieve sub-65nm and even sub-32nm feature sizes.However,the structure parameters are always not ideal in a real system.One wants to know how much influence the parameter variations have on the pattern resolution and what variations of the parameters are allowed to obtain an effective interference.Thus,it is necessary to explore the parameter spaces.1 SPP maskless interference lithography systemThe SPP maskless interference lithography system is shown in Fig.1.A p-polarized laser is divided into two
beam
s by a grating splitter,and then goes into the prism-based multilayer system.Under a given condition,the metal film can exhibit collective electron oscillations known as SPPs which are charge density waves that are characterized by intense electromagnetic fields confined to the metallic surface.If the metal layer Fig.1 Schematic for SPP maskless interference lithography systemis sufficiently thin,plasma waves at both metal interfaces are coupled,resulting in symmetric and antisymmetric SPPs.When the thickness h of metal film,dielectric constant ε1,ε2,ε3 of medium above,inside,below the metal film are specified,the coupling equation is shown as followstanh(S2h)(ε1ε3S22+ε22S1S3)+(ε1ε2S2S3+ε2ε3S1S2)=0
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
扫描干涉场曝光中关键技术的现状与发展趋势
被引量:
2
8
作者
程伟林
朱菁
张运波
曾爱军
黄惠杰
机构
中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室
中国科学院大学
出处
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2015年第10期1-12,共12页
基金
国家国际科技合作项目(2011DFR10010)
国家科技重大专项课题(2011ZX02402)
上海市科技人才计划项目(14YF1406300)
文摘
扫描干涉场曝光(SBIL)在制作大尺寸、纳米精度的衍射光栅中有着独特的优势。为了充分了解SBIL系统的技术特点,介绍了国内外SBIL技术的发展现状,并针对SBIL系统中的各个关键技术进行技术性的调研与总结,着重分析了各关键技术已有解决方法的基本原理、优点以及存在的局限性,结合具体的光栅应用要求,给出了各关键技术的相应具体指标,展望了其发展趋势。
关键词
光栅
扫描干涉场曝光
衍射光栅
大尺寸
纳米精度
Keywords
gratings
scanning
beam
interference lithography
diffraction gratings
large-area
nanometer
level
分类号
O436.1 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
LNG接收站港池水深扫测技术
陈小虎
安兴芳
《全面腐蚀控制》
2024
0
下载PDF
职称材料
2
相控阵的子阵级数字波束扫描方法研究
胡航
宗成阁
刘伟会
吴群
《系统工程与电子技术》
EI
CSCD
北大核心
2009
2
下载PDF
职称材料
3
集成电路封装级失效及其定位
张蓬鹤
陈选龙
刘丽媛
林道谭
何胜宗
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2015
5
下载PDF
职称材料
4
一种有效的子阵级波束扫描旁瓣抑制方法
胡航
刘伟会
吴群
肖勇
《电波科学学报》
EI
CSCD
北大核心
2009
3
下载PDF
职称材料
5
一种可有效降低运算代价的子阵级波束扫描的旁瓣抑制方法
胡航
刘伟会
吴群
《电子与信息学报》
EI
CSCD
北大核心
2009
0
下载PDF
职称材料
6
非周期阵列天线辐射性能的研究
张宙
杜彪
韩国栋
《现代雷达》
CSCD
北大核心
2013
0
下载PDF
职称材料
7
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
5
下载PDF
职称材料
8
扫描干涉场曝光中关键技术的现状与发展趋势
程伟林
朱菁
张运波
曾爱军
黄惠杰
《激光与光电子学进展》
CSCD
北大核心
2015
2
原文传递
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部