浅谈煮蜡对甲醇合成的影响

针对甲醇合成生产中出现的合成塔入口温度降低、触媒活性减弱、放空量增大的问题，分析了煮蜡对甲醇合成的影响；通过采取减少水冷器循环水流量的技术措施，将水冷器出口气体温度由30℃提高到45～50℃，合成塔入塔气体温度由193～194℃提高到196～197℃，合成塔A塔和B塔触媒层上点的热点温度随之上升至216℃和225℃，甲醇合成反应和系统放空量恢复到正常工况。

非对流性云中龙B-1AgI烟迹扩散的研究

利用AgI和空气混合物的扩散方程 ,对催化剂在高空云中的传输、扩散进行了分析 ,计算了龙B - 1焰弹催化系统播散的AgI气溶胶在云中的扩散 ,并给出龙B - 1焰弹催化剂使用量的理论值 ,供在实际应用中参考。

原子层沉积构建高性能催化剂的研究进展

催化剂在能源化工领域具有重要应用,精确设计及调控催化剂结构可有效改善催化剂的性能。原子层沉积(ALD)是基于饱和自限制的气-固界面反应技术,被认为是调控活性相的组成、尺寸及落位最有效的方式之一。本文综述了ALD技术在调控催化剂活性相结构、设计多功能型催化剂及提高催化剂稳定性等方面的研究进展。重点阐述了ALD技术在调控催化剂活性相颗粒尺寸和表界面结构、设计多功能核壳结构及多孔材料限制性催化剂等方面的应用。ALD设计及控制金属沉积的技术优势可实现对催化剂活性、产物选择性和稳定性的有效调控,但其在复杂结构载体的沉积机理方面仍未得到充分研究,是今后研究工作重点。此外,利用ALD技术设计结构清晰、功能多样的催化剂来进一步提高催化性能及认识其反应机理也是未来的研究方向。