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Numerical simulation of UV LEDs with GaN and BGaN single quantum well 被引量:1
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作者 Asma Belaid Abdelkader Hamdoune 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2019年第3期51-56,共6页
The objective of this work is to simulate a single quantum well ultraviolet light emitting diode(LED) based on AlGaN/GaN/AlGaN and AlGaN/BGaN/AlGaN, by using TCAD Silvaco simulator. The first structure has a GaN quant... The objective of this work is to simulate a single quantum well ultraviolet light emitting diode(LED) based on AlGaN/GaN/AlGaN and AlGaN/BGaN/AlGaN, by using TCAD Silvaco simulator. The first structure has a GaN quantum well taken between two layers, of n-AlGaN and p-AlGaN. The second one has a BGaN quantum well instead of GaN. We fix the concentration of the boron in BGaN to only 1% and we vary the thickness of GaN and BGaN quantum well layer from 7 to 20 nm, for the two structures. As results, we obtain respectively for GaN-LED and BGaN-LED, a maximum current of 0.52 and 0.27 mA, a maximum power spectral density of 1.935 and 6.7 W cm^(-1) eV^(-1), a maximum spontaneous emission of 3.34 × 10^(28) and 3.43 × 10^(28) s^(-1) cm^(-3) eV^(-1), and a maximum Light output power of 0.56 and 0.89 mW. 展开更多
关键词 gallium nitride(GaN) aluminum gallium nitride(AlGaN) boron gallium nitride(bgan) UV light EMITTING diode(LED)
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MOCVD法制备BGaN薄膜
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作者 曹越 于佳琪 +3 位作者 张立东 邓高强 张源涛 张宝林 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第4期357-363,共7页
利用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术,在蓝宝石衬底上进行了BGaN薄膜的外延生长,研究了生长厚度、温度、压力和B/Ⅲ比等条件对BGaN薄膜中B组分的影响。X射线衍射测试结果表明,降低生长温度、压力以及增加B/Ⅲ比,更有利于提高BGaN薄膜... 利用金属有机物化学气相沉积(MOCVD)技术,在蓝宝石衬底上进行了BGaN薄膜的外延生长,研究了生长厚度、温度、压力和B/Ⅲ比等条件对BGaN薄膜中B组分的影响。X射线衍射测试结果表明,降低生长温度、压力以及增加B/Ⅲ比,更有利于提高BGaN薄膜中B的并入效率。在800℃、30 kPa及B/Ⅲ比为30%的生长条件下,制备的BGaN薄膜中B组分最高,为6.1%。 展开更多
关键词 氮化硼镓 金属有机物化学气相沉积 薄膜
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基于二维材料的Ⅲ族氮化物外延 被引量:5
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作者 谭晓宇 杨少延 李辉杰 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2017年第3期271-279,共9页
Ⅲ族氮化物合金因其宽广的可调能隙和优良的光电性能,在照明、电力电子、通讯、能源等领域有巨大优势,促使其材料制备技术不断发展.如何解决Ⅲ族氮化物异质外延过程中晶格及热胀失配对材料质量的影响,是当前的研究重点.近年来,二维材料... Ⅲ族氮化物合金因其宽广的可调能隙和优良的光电性能,在照明、电力电子、通讯、能源等领域有巨大优势,促使其材料制备技术不断发展.如何解决Ⅲ族氮化物异质外延过程中晶格及热胀失配对材料质量的影响,是当前的研究重点.近年来,二维材料作为一类新兴材料受到了极大的关注.借助二维材料层间弱键合的特性,有望降低Ⅲ族氮化物的制备成本、提高晶体质量,并实现柔性器件的制备,从而将其应用领域拓宽至可穿戴器件、可折叠器件等.本文综述了近年来国内外在二维材料上制备Ⅲ族氮化物的研究报道,介绍了石墨烯、六方氮化硼、过渡金属硫族化物等二维材料上制备氮化物的各种尝试和成果,总结了二维材料上Ⅲ族氮化物制备的特点,并对其未来发展趋势做了展望. 展开更多
关键词 氮化镓 石墨烯 六方氮化硼 过渡金属硫族化物
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