氧气比例对ZnO薄膜特性影响的机理研究

为了制备出具有C轴择优生长的ZnO薄膜,深入研究工艺参数对ZnO薄膜性能影响的机理。本文采用磁控溅射法在K9玻璃衬底上镀制了ZnO薄膜。通过光电子能谱仪(XPS)、原子力显微镜(AFM)、X射线衍射分析(XRD)以及椭偏仪分析了薄膜的晶轴特征、形貌特征以及光学特性,最终得出了氧气与氩气流量的比例对薄膜特性的影响的机理,给出了一组最佳的工艺参数为生产实践提供了参考依据。