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铝的碱性化学抛光光亮剂作用的机理研究
被引量:
1
1
作者
于维平
苗艺
张凌云
《北京航空航天大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1990年第4期40-45,共6页
用充电曲线——拉普拉斯变换方法获得了抛光液中不同成份在80℃,90℃下的交流阻抗频谱图,配合失重腐蚀速度数据,研究了光亮剂对双电层结构的影响。揭示了在抛光过程中光亮剂通过吸附、沉积、扩散步骤达到试样表面整平、光亮效果。
关键词
化学抛光
光亮剂
交流阻抗
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职称材料
题名
铝的碱性化学抛光光亮剂作用的机理研究
被引量:
1
1
作者
于维平
苗艺
张凌云
机构
北京航空航天大学材料科学与工程系
出处
《北京航空航天大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1990年第4期40-45,共6页
文摘
用充电曲线——拉普拉斯变换方法获得了抛光液中不同成份在80℃,90℃下的交流阻抗频谱图,配合失重腐蚀速度数据,研究了光亮剂对双电层结构的影响。揭示了在抛光过程中光亮剂通过吸附、沉积、扩散步骤达到试样表面整平、光亮效果。
关键词
化学抛光
光亮剂
交流阻抗
Keywords
chemical polishing
,
bright agent
,
alternating current impedance.
分类号
TG175.3 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
铝的碱性化学抛光光亮剂作用的机理研究
于维平
苗艺
张凌云
《北京航空航天大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1990
1
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