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铝的碱性化学抛光光亮剂作用的机理研究 被引量:1
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作者 于维平 苗艺 张凌云 《北京航空航天大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第4期40-45,共6页
用充电曲线——拉普拉斯变换方法获得了抛光液中不同成份在80℃,90℃下的交流阻抗频谱图,配合失重腐蚀速度数据,研究了光亮剂对双电层结构的影响。揭示了在抛光过程中光亮剂通过吸附、沉积、扩散步骤达到试样表面整平、光亮效果。
关键词 化学抛光 光亮剂 交流阻抗
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