TFT LCD中常用的材料及其工作原理

TFT LCD是平板显示器的一种。本文介绍了TFT LCD常用的材料及其工作原理。

调整彩色滤光膜的致密性和疏水性以减少TFT-LCD制造中的气体释放

TFT-LCD产业正朝着高效率、低成本的方向发展。在TFT-LCD制造过程中,发现不同的光刻胶需要不同的真空干燥时间。为了减少制造时间,提高面板成品率,有必要明确影响真空时间的因素。本文探讨了抽运时间与光刻胶材料性能的关系。发现光刻胶的热稳定性与抽运时间的关系可以忽略不计。光刻胶的致密性和疏水性与真空干燥时间密切相关。致密性和高疏水性可以有效避免水蒸气在制造过程中侵入和储存在光刻胶中,减少泵送次数。总的来说,这项工作可以为未来TFT-LCD工业新型光刻胶的开发提供一定的参考。

新型TFT-LCD柱状隔垫物的形变研究

介绍了一种可应用于大尺寸TFT-LCD的新型柱状隔垫物(photo-spacer)材料。与已经量产的材料相比,该材料具有更高的弹性恢复率和外压形变承受能力。在相同生产条件下的对比实验显示,该材料经过230℃加热20min柱高的缩小率为3.04%,具有较好的热稳定性。机械性能评价结果显示,摩擦压力对于Spacer柱高没有太大的影响。

STN-LCD技术的发展

介绍了目前人们对改善STN LCD特性所取得的一些研究进展 ,主要包括反射式STN LCD彩色显示 ,高分辨率STN LCD用液晶材料 ,彩色STN LCD用彩色滤光膜 ,以及STN LCD用光学膜 ,如偏振片。

LCD用彩色滤色器的现状和进展

简要综述了LCD用彩色滤色器研究的现状，报道了彩色滤色器市场和生产的变化情况，介绍了彩色滤色器研究发展的新动向。

平板显示技术论坛 第五代TFT-LCD生产线的工艺设备和材料

TFT-LCD是当前平板显示器(FPD)的主流显示器。从整个产业链上对第五代TFT-LCD生产线的工艺、设备、材料及发展趋势作一概要的介绍,为大家初步了解第五代TFT-LCD生产线提供参考。

量子点液晶显示应用技术的进展与展望

液晶显示是目前广泛应用的显示技术,然而常用的LED背光荧光粉的宽光谱特点限制了其色彩显示能力和总流明效率的进一步提升。量子点具有窄发射光谱和高荧光效率等优势,为提高液晶显示色彩品质和感知亮度提供了新技术路线。本文介绍了量子点液晶显示(QD-LCD)应用的结构设计和材料体系,探讨了量子点应用存在的材料稳定性、背光设计难度和制备成本等问题。针对液晶显示应用的低成本、低毒性和易集成需求,讨论了钙钛矿量子点的应用前景,特别是进一步扩展量子点适用性的解决方案,如彩膜透过率光谱交叉、偏振片的能量损失等问题。

用于液晶显示的透明导电膜

采用低衬底温度射频溅射的方法制得了低电阻率、高透过率的透明导电膜，沉积时的氧分压、衬底温度等对透明导电膜有很大的影响．衬底温度为室温时，制出了４．５×１０－４Ω·ｃｍ的透明导电膜．在彩色滤色膜或保护膜上沉积透明导电膜时，只能在低于它们的耐热温度以下，并注意排除有机膜吸附的气体．

聚酰亚胺在液晶显示器件中的应用

文章介绍了聚酰亚胺具有的优异性能,以及聚酰亚胺薄膜在液晶显示器中的应用情况。重点论述了聚酰亚胺薄膜在液晶显示器取向膜、液晶面板与驱动电路的柔性连接、驱动芯片封装、液晶面板彩色滤光片中的应用。在不同方面的应用中,对聚酰亚胺薄膜结构、性能和工艺过程的要求有较大区别,文中进行了详细的分析论述。

滤色器的制造工艺

已经开发出几种新类型滤色器制造工艺,光刻法制造滤色器的工艺最成功。色料分散在光刻胶中的工艺也常使用。另外,还在研究用电镀法和印刷法制造滤色器。色料分散法制造的滤色器,有较高的光灵敏度,良好的色对比度,抗热、抗光、抗化学试剂的性能亦佳,现已大量用于生产。

基于喷墨工艺的液晶显示用彩色滤光片

介绍了液晶显示用彩色滤光片的发展概况,综述了液晶显示用彩色滤光片的结构、性能与制作工艺,并分析了基于喷墨工艺的液晶显示用彩色滤光片的发展。

染色法制作液晶显示用彩色滤色器的研究

微型彩色滤色器已成为实现LCD彩色显示的主要手段。染色法因其色度性能好，工艺相对简单，成本低廉，而最先获得商业应用。本文介绍和分析用染色法制作滤色器的工艺过程及我们获得的结果。整个工艺的关键是一定分子量、窄分子量分布的多肽物质的制备。滤色器的色度性能则主要由染料品种和染色介质层厚度决定。检测结果表明我们制得的滤色器有良好的分辨率、色度性能、表面平整度及热、光、化学稳定性。综合性能满足使用要求。

基于时间混色的无滤色膜液晶显示技术研究

针对目前高质量的滤色膜制造工艺复杂,成本较高的问题,提出了一种利用LED做背光源结合一种时间混色的液晶显示技术,实现颜色显示无滤膜化,使液晶显示系统具有结构简单、色彩输出能力强、性能价格比高的优点。

喷墨打印在液晶用彩色滤光片制造中的应用

彩色滤光片是液晶显示器件的重要组件,为了降低生产成本并提高显示性能,新型彩色滤光片制造技术的研发成为热点。喷墨打印具有快速、精准、材料利用率高等一系列优点,成为替代传统颜料分散法的新一代彩色滤光片制备技术。文章介绍了喷墨打印的基本原理,比较了喷墨打印成膜与传统涂布成膜的优缺点,分析了喷墨法制备彩色滤光片的技术关键,并根据目前的产业现状提出了努力方向。

高透过率液晶显示拼接墙的设计与开发

为了实现高透过率液晶显示拼接墙,提高对外界光源的透过率,同时减少拼接缝隙,进行了透明液晶显示模组的设计和开发。为增加透过率,首先,在像素设计方面,优化走线设计提高开口率;其次,在彩膜特性方面,采用减薄色阻方法优化透过谱,搭配高透率偏光片;最后,在像素排布方面,选择了RGBW的像素设计,其中W像素数量占总像素数量的50%,实验得到透过率为19.4%,NTSC为30%的模组。为减少显示拼接墙的拼接缝隙,单个显示模组的栅极电路驱动,采用栅集成电路(GOA)设计,实现了2.5mm窄边框。由于透过率和窄边框的要求,模组需要实现RGBW和GOA的显示驱动,在FPGA上编写控制程序,进行驱动时序控制和算法处理,最终制作了16×2排布的高透过率液晶显示拼接墙。

黑矩阵扩散法修复亮点理论模型及影响因素分析

本文建立了黑矩阵扩散法修复亮点的理论模型并实验验证了该模型,分析了影响修复效果的各个因素及影响程度,为提升亮点修复成功率奠定基础。我们设置一系列实验,定性分析了激光泵浦源、激光波长、光斑大小、加工速度、产品设计和修复模式因素对修复效果的影响。首先,通过FIB图像分析,验证了创建的修复理论模型;其次,分析了上述因素对修复成功率的影响,最后对一款修复难度大的产品进行改善提升。实验结果表明：修复过程按照产生空隙（Gap,约1.5μm）,黑矩阵颗粒化和空隙填充三阶段进行;从成功率看,Laser Diode泵浦方式优于Flash Lamp,B波长激光优于A波长激光,光斑大小选取1/2子像素、速度选取100~200μm/s时Gap成功率最高,有Overcoat层（OC）且黑矩阵（BM）比重大的产品修复成功率更高。最后我们以上述理论分析和实验结果为指导,将一款修复难度极大的产品的成功率从40%提升到90%以上。

基于彩色滤光片柱状隔垫物高度的液晶滴下工艺

液晶滴下工艺是TFT-LCD生产中的关键技术。液晶的滴下量一般选取在不发生低温气泡和高温重力Mura的范围内,这被称为LC Margin。LC Margin越窄,液晶滴下的中心量距离上下限的范围越小,生产过程中随工艺波动容易出现低温气泡和重力Mura不良。本文针对LC Margin窄的产品(≤3%)提出了根据彩色滤光片柱状隔垫物的高度进行整批次分液晶面板进行液晶滴下的方法。生产过程中对该方法产出的液晶面板进行高低温测试,结果显示没有重力Mura及低温气泡出现,优化了液晶滴下工艺,为LC Margin窄的产品在生产中应用提供了一种新的解决方案。

广色域移动显示产品开发

当移动电话、PDA等电子产品迅速涌入市场,宽色域将成为应用于相同领域的下一代LCD的要求。本文介绍了一种可用于移动电子产品的四基色宽色域技术。