基底性质对二维层状电子气感应电场的影响

采用线性化量子流体动力学模型,研究了载能粒子与二维层状电子气相互作用时的集体静电激发现象。在适当的边界条件下推导出感应电势,入射粒子所受的阻止力和侧向力的一般表达式,讨论了存在绝缘基底情况下基底介电常数对感应电势、阻止力及侧向力的影响。结果表明:当入射粒子速度较小时,基底的极化电场较弱,其介电常数的变化对感应电场几乎无影响,而当速度较高时因极化电场较强而影响很大;入射粒子距离与基底相连的电子气平面越近,基底介电常数对各物理量的影响越大。

硅薄膜的恒电位诱导组装法制备及光学性能

采用恒电位诱导组装法,在40℃、2.5V恒电位条件下,在FTO导电玻璃上制备硅薄膜,并分别通过循环伏安曲线(CV)、红外光谱仪、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计和荧光光谱仪对硅薄膜的生长条件、结构、形貌和光学性能进行了系统研究。结果表明,只有当溶液中用于模板剂的十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)的浓度高于其临界胶束浓度并且在一定的正硅酸四乙酯(TEOS)浓度时,才可以得到岛粒状的硅薄膜。由荧光光谱可知,组装成的硅薄膜经过焙烧,可生成氧缺位的SiOx薄膜,其中x≤2。由于氧缺位,在3.8eV光的激发下有2.5eV的光致发光。