氯离子在局部电化学中对铜电沉积的影响

局部电化学沉积(LECD)制造金属微结构是一种非常便捷和经济的方法。用20μm直径微阳极来研究Cl^(-)浓度在LECD上对铜微柱形貌、直径、沉积速率等的影响。Cl^(-)使铜离子先还原为亚铜离子,然后再还原成铜,能促使铜微柱沉积速率提高,进而可调控铜微柱形貌质量,提高沉积效率。在铜还原过程中氯化亚铜会在铜微柱表面形成,并发生歧化反应,使铜微柱表面产生孔隙、粗糙形貌,而过高Cl^(-)浓度会形成氯化亚铜结晶,增大铜微柱直径。受高电流密度和高氢离子浓度影响,在铜微柱内部无法沉淀氯化亚铜。Cl^(-)浓度所对铜微柱形貌、沉积速率等的影响为Cl^(-)与其它添加剂在LECD上协同应用提供了参考。

大高宽比阶梯型铜微柱阵列的制作

基于THB–151N光刻胶的微电铸工艺制作了一种阶梯型铜微柱阵列。针对THB–151N光刻胶显影过程中20μm微盲孔显影困难和底部留膜的问题,提出了一种基于浸没式双向兆声波辅助的显影方法。仿真研究了兆声功率密度和微盲孔深宽比对显影液传质过程的影响。优选了兆声功率密度和微盲孔深宽比,并开展了兆声辅助显影的试验研究。同时,针对THB–151N胶膜因曝光剂量选择不当导致微盲孔侧壁垂直度差的问题,通过光刻试验分析了曝光剂量对微盲孔侧壁垂直度的影响,拟合出曝光剂量与胶膜厚度的经验方程。在上述工艺方法和试验研究的基础上,制作出高度300μm、整体高宽比达15∶1、最小边长20μm、4×6的阶梯型铜微柱阵列。

微柱高效液相色谱法测定Cu(HQ)_2和HQ

研究了用微柱高效液相色谱法测定8-羟基喹啉铜中的8-羟基喹啉(HQ)和8-羟基喹啉铜[Cu(HQ)2]的方法,8-羟基喹啉铜样品用甲醇溶解,然后以WatersXterraTMRP18(1.0×50mm,2.5μm)微柱为固定相,60%的甲醇(内含0.05moL/LpH值为4.0的醋酸-醋酸钠缓冲盐)为流动相分离,用紫外二极管矩阵检测器检测测定,方法标准回收率在99-102%,相对标准偏差在0.58-0.65%之间,结果满意.