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粘附对分子沉积膜纳米摩擦特性的影响 被引量:5
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作者 高芒来 聂时春 张嗣伟 《中国表面工程》 EI CAS CSCD 2003年第4期12-14,共3页
利用原子力显微镜(AFM)分别对带正电荷的阳离子型2巯基乙基二甲基氯化铵化金表面(AuSR+)、单层磺化酞菁铜(CuTsPc)分子沉积膜(MD)硅表面和单层CuTsPc MD膜金表面进行了纳米摩擦试验,考察了粘附现象对具有纳米级厚度的MD膜摩擦特性的影... 利用原子力显微镜(AFM)分别对带正电荷的阳离子型2巯基乙基二甲基氯化铵化金表面(AuSR+)、单层磺化酞菁铜(CuTsPc)分子沉积膜(MD)硅表面和单层CuTsPc MD膜金表面进行了纳米摩擦试验,考察了粘附现象对具有纳米级厚度的MD膜摩擦特性的影响。结果表明,在纳米摩擦过程中粘附的存在,不仅会改变表面的性质,造成摩擦因数等摩擦学特性的变化,而且还会因增大法向力,致使摩擦力增加。并进一步证明卸载是验证摩擦过程中存在粘附力的另外一种方法。 展开更多
关键词 分子沉积(MD)膜 纳米摩擦特性 粘附 卸载 磺化酞菁铜(cutspc)
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酞菁铜阴阳离子分子沉积(MD)膜润湿性研究 被引量:5
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作者 高芒来 陈刚 张华 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第12期2293-2295,2299,共4页
The result of UV-Vis adsorbance indicates that phthalocyanine copper cation and anion monolayers are alternately deposited, and dimmer is the major form. Through analyzing the 20th phthalocyanine MD film AFM image, we... The result of UV-Vis adsorbance indicates that phthalocyanine copper cation and anion monolayers are alternately deposited, and dimmer is the major form. Through analyzing the 20th phthalocyanine MD film AFM image, we know that the surface of MD film is flat and compact. The physical-chemical properties of molecular end-group have influence on the MD films surface character notably. The contact angles of water on the odd and even layer MD films vary greatly complying with "odd-even" regularity, and the value increases slightly with the increment of MD film layers due to the decrease of van der Waals force reinforced by substrate through MD films. 展开更多
关键词 磺化酞菁铜 阳离子 阴离子 分子沉积膜 润湿性 光合作用 模拟
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分子沉积(MD)膜表面形貌的测量及影响因素
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作者 高芒来 聂时春 张嗣伟 《机械科学与技术》 CSCD 北大核心 2004年第2期206-208,共3页
利用原子力显微镜 (AFM)考察了单层磺化酞菁铜 (CuTsPc)MD膜硅表面随载荷和扫描速率变化的盒维数 ,对单层CuTsPcMD膜硅表面进行了表面形貌的测量 ,并分析了形貌信息中的摩擦力信息对表面形貌信号的影响。结果表明 ,单层CuTsPcMD膜硅表... 利用原子力显微镜 (AFM)考察了单层磺化酞菁铜 (CuTsPc)MD膜硅表面随载荷和扫描速率变化的盒维数 ,对单层CuTsPcMD膜硅表面进行了表面形貌的测量 ,并分析了形貌信息中的摩擦力信息对表面形貌信号的影响。结果表明 ,单层CuTsPcMD膜硅表面具有较好的分形几何特性 ,分形是表面的固有属性 ;不同类型的硅表面具有的盒维数基本不变。表面形貌的信息里包含的摩擦力信息是表面形貌测量中的重要影响因素 ,载荷和扫描速率通过影响摩擦力对表面形貌的测量产生影响 ,但载荷影响程度不大 ,且没有较明显的规律 ;扫描速率增加能引起表面粗糙度和表面高度的降低。 展开更多
关键词 分子沉积(MD)膜 磺化酞菁铜(cutspc) 表面形貌 分形 载荷 扫描速率
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