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Understand anisotropy dependence of damage evolution and material removal during nanoscratch of MgF_(2) single crystals 被引量:4
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作者 Chen Li Yinchuan Piao +3 位作者 Feihu Zhang Yong Zhang Yuxiu Hu Yongfei Wang 《International Journal of Extreme Manufacturing》 SCIE EI CAS CSCD 2023年第1期236-252,共17页
To understand the anisotropy dependence of the damage evolution and material removal during the machining process of MgF_(2) single crystals,nanoscratch tests of MgF_(2) single crystals with different crystal planes a... To understand the anisotropy dependence of the damage evolution and material removal during the machining process of MgF_(2) single crystals,nanoscratch tests of MgF_(2) single crystals with different crystal planes and directions were systematically performed,and surface morphologies of the scratched grooves under different conditions were analyzed.The experimental results indicated that anisotropy considerably affected the damage evolution in the machining process of MgF_(2) single crystals.A stress field model induced by the scratch was developed by considering the anisotropy,which indicated that during the loading process,median cracks induced by the tensile stress initiated and propagated at the front of the indenter.Lateral cracks induced by tensile stress initiated and propagated on the subsurface during the unloading process.In addition,surface radial cracks induced by the tensile stress were easily generated during the unloading process.The stress change led to the deflection of the propagation direction of lateral cracks.Therefore,the lateral cracks propagated to the workpiece surface,resulting in brittle removal in the form of chunk chips.The plastic deformation parameter indicated that the more the slip systems were activated,the more easily the plastic deformation occurred.The cleavage fracture parameter indicated that the cracks propagated along the activated cleavage planes,and the brittle chunk removal was owing to the subsurface cleavage cracks propagating to the crystal surface.Under the same processing parameters,the scratch of the(001)crystal plane along the[100]crystal-orientation was found to be the most conducive to achieving plastic machining of MgF_(2) single crystals.The theoretical results agreed well with the experimental results,which will not only enhance the understanding of the anisotropy dependence of the damage evolution and removal process during the machining of MgF_(2) crystals,but also provide a theoretical foundation for achieving the high-efficiency and low-damage processing of anisotropic single crystals. 展开更多
关键词 anisotropy dependence damage evolution stress field crack propagation NANOSCRATCH mgf_(2)single crystal
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中红外4μm波长下MgF_(2)晶体脊形光波导的制备及特性研究(特邀)
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作者 李淑慧 宋洪晓 程亚洲 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2022年第7期83-88,共6页
为了研究离子与中红外晶体相互作用的机理,探索中红外晶体光波导的制备和性能,采用离子辐照技术结合精密金刚石刀切割,在MgF_(2)晶体材料中制备了深度17.5μm、宽度14μm的脊形光波导。采用SRIM软件模拟了C5+离子辐照MgF_(2)晶体的电子... 为了研究离子与中红外晶体相互作用的机理,探索中红外晶体光波导的制备和性能,采用离子辐照技术结合精密金刚石刀切割,在MgF_(2)晶体材料中制备了深度17.5μm、宽度14μm的脊形光波导。采用SRIM软件模拟了C5+离子辐照MgF_(2)晶体的电子能量损伤和核能量损伤的过程,分析了波导的形成机理;模拟了波导的折射率变化,并对波导的近场模式进行了实验测量和理论模拟;采用热退火处理来降低波导的传输损耗,将传输损耗降低为0.4 dB/cm;微拉曼光谱证明离子辐照过程并未对MgF_(2)晶体波导区造成较大的晶格损伤。该工作表明,离子辐照技术结合划片机精密切割是一种十分成熟的脊形波导制备手段,制备的MgF_(2)晶体脊形光波导在中红外集成光学和光通讯领域具有广泛的应用前景。 展开更多
关键词 中红外 mgf_(2)晶体 光波导 离子辐照
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晶体硅太阳电池ZnS/MgF_(2)减反射膜的设计与分析
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作者 王进福 张国富 +3 位作者 王芳 李娥 张蕊 彭柳军 《云南师范大学学报(自然科学版)》 2022年第2期14-17,共4页
选取ZnS和MgF_(2)两种材料设计了ZnS/MgF_(2)双层减反射膜,并利用TFCalc软件分析了膜层厚度、折射率以及光入射角对双层膜系有效反射率的影响.结果表明:ZnS和MgF_(2)的最佳物理厚度分别为67.86 nm和119.14 nm,此时达到最小有效反射率3.3... 选取ZnS和MgF_(2)两种材料设计了ZnS/MgF_(2)双层减反射膜,并利用TFCalc软件分析了膜层厚度、折射率以及光入射角对双层膜系有效反射率的影响.结果表明:ZnS和MgF_(2)的最佳物理厚度分别为67.86 nm和119.14 nm,此时达到最小有效反射率3.37%;在380~1200 nm波长范围内,ZnS的厚度对有效反射率的影响比MgF_(2)大;MgF_(2)的折射率对有效反射率的影响比ZnS大;适当降低MgF_(2)折射率可以获得较低的有效反射率. 展开更多
关键词 晶体硅太阳电池 ZnS/mgf_(2)双层减反射膜 有效反射率
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高品质因子氟化镁晶体微腔制备与测试
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作者 瞿志二 潘奕捷 +3 位作者 刘贤文 张诚 王瑾 屈继峰 《计量学报》 CSCD 北大核心 2023年第8期1169-1175,共7页
研制了基于直线电机、高精度光栅尺、力学反馈单元的精密自动磨抛系统。在制备晶体微腔时,该系统可准确控制晶体微腔的尺寸、厚度及外形。采用预成型、粗磨、粗抛以及精抛等步骤制备了具有高品质因子的氟化镁晶体梯形微盘腔。利用白光... 研制了基于直线电机、高精度光栅尺、力学反馈单元的精密自动磨抛系统。在制备晶体微腔时,该系统可准确控制晶体微腔的尺寸、厚度及外形。采用预成型、粗磨、粗抛以及精抛等步骤制备了具有高品质因子的氟化镁晶体梯形微盘腔。利用白光干涉仪表征精抛后的氟化镁晶体表面粗糙度为2.84 nm。通过搭建锥形光纤与晶体微腔耦合测试系统,采用光腔衰荡方法测得所制备的晶体微腔在1550 nm处的本征品质因子为4.55×10^(8)。 展开更多
关键词 计量学 光学微腔 氟化镁晶体 高品质因子 精密磨抛
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基于氟化镁晶体微腔产生宽光谱范围克尔光频梳及色散调控研究 被引量:1
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作者 杨煜 张磊 王克逸 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第4期403-410,共8页
为了在基于回音壁模式光学微腔的光学频率梳生成中优化微腔的性能和光频梳的质量,对氟化镁晶体微腔的色散调控进行研究。首先,理论仿真研究了MgF_(2)晶体微腔边缘形状对腔内模场和总色散的影响;接着根据仿真结果实际加工了两种面形的MgF... 为了在基于回音壁模式光学微腔的光学频率梳生成中优化微腔的性能和光频梳的质量,对氟化镁晶体微腔的色散调控进行研究。首先,理论仿真研究了MgF_(2)晶体微腔边缘形状对腔内模场和总色散的影响;接着根据仿真结果实际加工了两种面形的MgF_(2)晶体微腔,分别为边缘平面型和单边楔形;然后,搭建了微腔性能检测系统和晶体微腔光梳生成系统,实测加工出的MgF_(2)晶体微腔样品的品质因子(Q值)最高可达1.1×10^(8);最后在加工的两种面形晶体腔中均有效激发了超过200 nm的宽光谱范围的克尔光频梳。实验结果验证了边缘楔形的微腔结构确实能够有效压缩模场并调控总色散,相比于边缘平面型的微腔能够产生更宽光谱范围的光梳。 展开更多
关键词 回音壁模式 mgf_(2)晶体微腔 克尔光梳 色散调控
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