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不同温度下镁胁迫对黄瓜光合特性和活性氧清除系统的影响 被引量:15
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作者 谢小玉 刘晓建 刘海涛 《植物营养与肥料学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第5期1231-1235,共5页
利用人工气候箱,研究不同温度下镁胁迫对黄瓜幼苗光合特性和活性氧清除系统的影响。结果表明,不论温度高低,镁胁迫增加了叶绿素a/b,且缺镁比高镁增幅大。在两种温度下,镁均降低了叶绿素a、b和类胡萝卜素的含量;而在适温下,高镁使叶绿素a... 利用人工气候箱,研究不同温度下镁胁迫对黄瓜幼苗光合特性和活性氧清除系统的影响。结果表明,不论温度高低,镁胁迫增加了叶绿素a/b,且缺镁比高镁增幅大。在两种温度下,镁均降低了叶绿素a、b和类胡萝卜素的含量;而在适温下,高镁使叶绿素a、b和类胡萝卜素含量增加,低温则降低。镁胁迫使黄瓜幼苗中下部叶片净光合速率(Pn)、气孔导度(Gs)下降,低温、高镁Pn降低幅度最大;但对胞间CO_2浓度(Ci)、蒸腾速率(Tr)、水分利用率(WUE)和气孔限制值(Ls)的影响因温度和镁离子浓度不同而不同。缺镁胁迫,黄瓜幼苗光合作用的主要限制因素是非气孔因素,而高镁胁迫则主要限制因素是气孔因素。镁胁迫使黄瓜幼苗叶片MDA含量、O_2^-产生速率、H_2O_2含量增加,缺镁增幅大于高镁胁迫;低温加剧了膜脂过氧化。低温下,POD活性下降,SOD活性升高,而CAT活性变化不大;适温下,植株主要通过提高POD活性来抵御镁胁迫。低温、缺镁对植株的伤害较大,与活性氧的增加有关。 展开更多
关键词 黄瓜 温度 光合参数 活性氧清除酶系统
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