期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
3
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
强源活库优米栽培对华南广适型超级稻产量的影响
被引量:
4
1
作者
罗一鸣
田晋元
+3 位作者
林青山
江奕君
肖立中
唐湘如
《西北农林科技大学学报(自然科学版)》
CSCD
北大核心
2014年第4期55-60,共6页
【目的】探明强源活库优米栽培技术对华南广适型超级稻产量的影响,即通过强化叶片“源”的功能和籽粒“库”的活性来提高华南广适型超级稻产量。【方法】以5个华南广适型超级稻品种“胜泰1号”、“玉香油占”、“桂农占”、“合美占”...
【目的】探明强源活库优米栽培技术对华南广适型超级稻产量的影响,即通过强化叶片“源”的功能和籽粒“库”的活性来提高华南广适型超级稻产量。【方法】以5个华南广适型超级稻品种“胜泰1号”、“玉香油占”、“桂农占”、“合美占”和“丰美占”为材料,设置强源活库优米栽培技术(简称强源活库栽培)和常规高产栽培技术(简称常规高产栽培)2个处理,通过大田试验研究栽培技术对华南广适型超级稻品种产量和物质生产特性的影响。【结果】与常规高产栽培技术相比较,强源活库栽培技术显著提高了“胜泰1号”、“玉香油占”、“桂农占”、“合美占”和“丰美占”的实际产量,产量增幅为18.60%~26.23%,并且在强源活库栽培技术下,水稻干物质积累量、叶面积指数、生长发育后期的叶片蔗糖磷酸合成酶(SPS)活性及籽粒蔗糖合成酶(SS)活性均有提高,从而有利于高产形成。【结论】强源活库栽培技术可显著提高华南广适型超级稻的产量。
展开更多
关键词
超级稻
强源活库栽培技术
物质生产特性
产量
下载PDF
职称材料
新型栽培技术对水稻产量及稻米品质的影响
被引量:
7
2
作者
陈国军
雷舜
+4 位作者
唐湘如
梁文立
张建国
苏章标
符敏
《中国稻米》
北大核心
2016年第6期66-70,共5页
为探明"增香"栽培技术和"强源活库优米"栽培技术在中山市水稻栽培中的应用效果,对香稻品种象牙香占和美香占实施"增香"栽培技术、对非香稻品种金农丝苗和华航31实施"强源活库优米"栽培技术,研...
为探明"增香"栽培技术和"强源活库优米"栽培技术在中山市水稻栽培中的应用效果,对香稻品种象牙香占和美香占实施"增香"栽培技术、对非香稻品种金农丝苗和华航31实施"强源活库优米"栽培技术,研究新型栽培技术对水稻产量、品质、干物质积累、光合特性和香稻香气含量等指标的影响,以确保新技术的推广应用效果。结果表明,"增香"栽培和"强源活库优米"栽培处理的水稻品种光合生产能力在生育后期优势明显,促进了水稻生育后期的物质生产和积累;同时,"增香"栽培技术显著提高了香稻籽粒2-AP的含量,达到了浓香栽培的目的。
展开更多
关键词
水稻
增香栽培
强源活库优米栽培
下载PDF
职称材料
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
3
作者
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻...
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
展开更多
关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
下载PDF
职称材料
题名
强源活库优米栽培对华南广适型超级稻产量的影响
被引量:
4
1
作者
罗一鸣
田晋元
林青山
江奕君
肖立中
唐湘如
机构
华南农业大学农学院
广东省农作物技术推广总站
广东省农业科学院水稻研究所
出处
《西北农林科技大学学报(自然科学版)》
CSCD
北大核心
2014年第4期55-60,共6页
基金
农业部早
晚型超级稻的产学研结合推广模式的示范项目"华南超级稻示范与推广"(4100-F07063)
+1 种基金
广东省农业攻关项目"双季超级稻强源活库优米生产技术研究"(2004B20101007)
广东省教育部产学研结合项目"优质超级稻品种育繁推销产学研创新产业化工程"(2007B090400134)
文摘
【目的】探明强源活库优米栽培技术对华南广适型超级稻产量的影响,即通过强化叶片“源”的功能和籽粒“库”的活性来提高华南广适型超级稻产量。【方法】以5个华南广适型超级稻品种“胜泰1号”、“玉香油占”、“桂农占”、“合美占”和“丰美占”为材料,设置强源活库优米栽培技术(简称强源活库栽培)和常规高产栽培技术(简称常规高产栽培)2个处理,通过大田试验研究栽培技术对华南广适型超级稻品种产量和物质生产特性的影响。【结果】与常规高产栽培技术相比较,强源活库栽培技术显著提高了“胜泰1号”、“玉香油占”、“桂农占”、“合美占”和“丰美占”的实际产量,产量增幅为18.60%~26.23%,并且在强源活库栽培技术下,水稻干物质积累量、叶面积指数、生长发育后期的叶片蔗糖磷酸合成酶(SPS)活性及籽粒蔗糖合成酶(SS)活性均有提高,从而有利于高产形成。【结论】强源活库栽培技术可显著提高华南广适型超级稻的产量。
关键词
超级稻
强源活库栽培技术
物质生产特性
产量
Keywords
super rice
cultivation technique characterized by enhancing source
activating sink and improving quality
matter production characteristics
yield
分类号
S511.048 [农业科学—作物学]
下载PDF
职称材料
题名
新型栽培技术对水稻产量及稻米品质的影响
被引量:
7
2
作者
陈国军
雷舜
唐湘如
梁文立
张建国
苏章标
符敏
机构
中山市农业科技推广中心
华南农业大学农学院
出处
《中国稻米》
北大核心
2016年第6期66-70,共5页
基金
广东省发展粮食生产专项资金(F15025)
广东省农业攻关项目(2004B20101007)
文摘
为探明"增香"栽培技术和"强源活库优米"栽培技术在中山市水稻栽培中的应用效果,对香稻品种象牙香占和美香占实施"增香"栽培技术、对非香稻品种金农丝苗和华航31实施"强源活库优米"栽培技术,研究新型栽培技术对水稻产量、品质、干物质积累、光合特性和香稻香气含量等指标的影响,以确保新技术的推广应用效果。结果表明,"增香"栽培和"强源活库优米"栽培处理的水稻品种光合生产能力在生育后期优势明显,促进了水稻生育后期的物质生产和积累;同时,"增香"栽培技术显著提高了香稻籽粒2-AP的含量,达到了浓香栽培的目的。
关键词
水稻
增香栽培
强源活库优米栽培
Keywords
rice
increasing aroma
cultivation
cultivation technique characterized by enhancing source
, activating sink and improving quality
分类号
S511.048 [农业科学—作物学]
下载PDF
职称材料
题名
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
3
作者
董启明
郭小伟
机构
电子科技大学光电信息学院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
Keywords
Interference lithography
Surface plasmon plortiton
Kretschmann structureCLCN: TN305.7 Document Code:A Article ID:1004-4213(2012)05-0558-70 IntroductionThere is a growing interest in exploring new nanolithography
technique
s with high efficiency,low cost and large-area fabrication to fabricate nanoscale devices for nanotechnology applications.Conventional photolithography has remained a useful microfabrication technology because of its ease of repetition and suitability for large-area fabrication[1].The diffraction limit,however,restricts the fabrication scale of photolithography[2].Potential solutions that have actually been pursued require increasingly shorter illumination wavelengths for replicating smaller structures.It is becoming more difficult and complicated to use the short optical wavelengths to reach the desired feature sizes.Other methods such as electron beam lithography[3],ion beam lithography[4],scanning probe lithography[5],nanoimprint lithography(NIL)[6],and evanescent near-field optical lithography(ENFOL)[7] have been developed in order to achieve nanometer-scale features.As we know,the former three
technique
s need scanning and accordingly are highly inefficient.In NIL,the leveling of the imprint template and the substrate during the printing process,which determines the uniformity of the imprint result,is a challenging issue of this method.ENFOL have the potential to produce subwavelength structures with high efficiency,but it encounters the fact that the evanescent field decays rapidly through the aperture,thus attenuating the transmission intensity at the exit plane and limiting the exposure distance to the scale of a few tens of nanometers from the mask.In recent years,the use of surface-plasmon polaritons(SPPs) instead of photons as an exposure
source
was rapidly developed to fabricate nanoscale structures.SPPs are
characterized
by
its near field enhancement so that SPP-based lithography can greatly extend exposure depth and improve pattern contrast.Grating-assisted SPP interference,such as SPP resonant interference nanolithography[8] and SPP-assisted interference nanolithography[9],achieved a sub-100nm interference pattern.The
technique
s,however,are necessary to fabricate a metal grating with a very fine period and only suitable for small-area interference.To avoid the fabrication of the metal grating,a prism-based SPP maskless interference lithography was proposed in 2006,which promises good lithography performance.The approach offers potential to achieve sub-65nm and even sub-32nm feature sizes.However,the structure parameters are always not ideal in a real system.One wants to know how much influence the parameter variations have on the pattern resolution and what variations of the parameters are allowed to obtain an effective interference.Thus,it is necessary to explore the parameter spaces.1 SPP maskless interference lithography systemThe SPP maskless interference lithography system is shown in Fig.1.A p-polarized laser is divided into two beams
by
a grating splitter,and then goes into the prism-based multilayer system.Under a given condition,the metal film can exhibit collective electron oscillations known as SPPs which are charge density waves that are
characterized
by
intense electromagnetic fields confined to the metallic surface.If the metal layer Fig.1 Schematic for SPP maskless interference lithography systemis sufficiently thin,plasma waves at both metal interfaces are coupled,resulting in symmetric and antisymmetric SPPs.When the thickness h of metal film,dielectric constant ε1,ε2,ε3 of medium above,inside,below the metal film are specified,the coupling equation is shown as followstanh(S2h)(ε1ε3S22+ε22S1S3)+(ε1ε2S2S3+ε2ε3S1S2)=0
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
强源活库优米栽培对华南广适型超级稻产量的影响
罗一鸣
田晋元
林青山
江奕君
肖立中
唐湘如
《西北农林科技大学学报(自然科学版)》
CSCD
北大核心
2014
4
下载PDF
职称材料
2
新型栽培技术对水稻产量及稻米品质的影响
陈国军
雷舜
唐湘如
梁文立
张建国
苏章标
符敏
《中国稻米》
北大核心
2016
7
下载PDF
职称材料
3
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
5
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部