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鄂尔多斯深盆气
被引量:
20
1
作者
孙粉锦
许化政
陈孟晋
《现代地质》
CAS
CSCD
2001年第3期309-314,共6页
鄂尔多斯盆地内石炭纪—二叠纪煤系含有机质丰富 ,演化程度高 ,不但形成了巨量的天然气 ,而且因储层致密、升降稳定、构造稀少而形成了盆地构造下倾部位天然气的大规模聚集 ,构造上倾部位则大面积含水 ,具有典型“深盆气”的特征。深盆...
鄂尔多斯盆地内石炭纪—二叠纪煤系含有机质丰富 ,演化程度高 ,不但形成了巨量的天然气 ,而且因储层致密、升降稳定、构造稀少而形成了盆地构造下倾部位天然气的大规模聚集 ,构造上倾部位则大面积含水 ,具有典型“深盆气”的特征。深盆气的主要含气层位为盒 8—本溪组各段 ,而盆地东部和北部可延至盒 5段。煤层是深盆气圈闭中的潜在储集层 ,起着“调节气库”的作用。多期砂体的叠置使深盆气的面积变得巨大 ,钻探成功率高 ,但因储集层的岩性致密 ,使自然产能低。
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关键词
深盆气
水封圈闭
致密砂岩
生气中心
生气强度
煤系
鄂尔多斯盆地
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职称材料
Si基MOCVD生长AlN深陷阱中心研究
2
作者
邓咏桢
郑有炓
+9 位作者
周春红
孔月婵
陈鹏
叶建东
顾书林
沈波
张荣
江若琏
韩平
施毅
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第9期1109-1113,共5页
通过 PL 谱和 Raman谱对 MOCVD生长 Si基 Al N的深陷阱中心进行了研究 ,发现三个深能级 Et1 ,Et2 ,Et3,分别在 Ev 上 2 .6 1,3.10 ,2 .11e V.Et1 是由氧杂质和氮空位 (或 Al间隙原子 )能级峰位靠近重合共同引起的 ,Et2 、Et3都是由于衬...
通过 PL 谱和 Raman谱对 MOCVD生长 Si基 Al N的深陷阱中心进行了研究 ,发现三个深能级 Et1 ,Et2 ,Et3,分别在 Ev 上 2 .6 1,3.10 ,2 .11e V.Et1 是由氧杂质和氮空位 (或 Al间隙原子 )能级峰位靠近重合共同引起的 ,Et2 、Et3都是由于衬底 Si原子扩散到 Al N引起的 .在 Si浓度较低时 ,Si主要以取代 Al原子的方式存在 ,产生深陷阱中心Et2 .Si浓度高于某个临界浓度时 ,部分 Si原子以取代 N原子位置的方式存在 ,形成深陷阱中心 Et3.实验还表明 ,即使经高温长时间退火 ,Al N中 Et1 和 Et2
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关键词
Si基AlN
深陷阱中心
PL谱
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职称材料
MOS结构界面性质的变频C-V研究
3
作者
王永生
郑有炓
张荣
《南京大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
1990年第2期211-222,共12页
本文提出了一种用于MOS界面测量的方法,能够测量半导体/氧化层界面的界面态密度、时间常数、俘获截面在禁带中的能量分布,还能够用于研究界面深能级及氧化层电荷陷阱态。此方法对样品漏电及测量环境要求较低,具有较大的实用意义。
关键词
MOS
结构
界面
测量
C-V法
变频
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职称材料
题名
鄂尔多斯深盆气
被引量:
20
1
作者
孙粉锦
许化政
陈孟晋
机构
中国地质大学能源系
中原油田地质研究院
西北大学地质系
出处
《现代地质》
CAS
CSCD
2001年第3期309-314,共6页
文摘
鄂尔多斯盆地内石炭纪—二叠纪煤系含有机质丰富 ,演化程度高 ,不但形成了巨量的天然气 ,而且因储层致密、升降稳定、构造稀少而形成了盆地构造下倾部位天然气的大规模聚集 ,构造上倾部位则大面积含水 ,具有典型“深盆气”的特征。深盆气的主要含气层位为盒 8—本溪组各段 ,而盆地东部和北部可延至盒 5段。煤层是深盆气圈闭中的潜在储集层 ,起着“调节气库”的作用。多期砂体的叠置使深盆气的面积变得巨大 ,钻探成功率高 ,但因储集层的岩性致密 ,使自然产能低。
关键词
深盆气
水封圈闭
致密砂岩
生气中心
生气强度
煤系
鄂尔多斯盆地
Keywords
deep
basin gas
water seal
trap
tight sand
center
of generation gas
intensity of generation gas
coal series
分类号
P618.11 [天文地球—矿床学]
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职称材料
题名
Si基MOCVD生长AlN深陷阱中心研究
2
作者
邓咏桢
郑有炓
周春红
孔月婵
陈鹏
叶建东
顾书林
沈波
张荣
江若琏
韩平
施毅
机构
南京大学物理系
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第9期1109-1113,共5页
基金
国家重点基础研究专项经费 (批准号 :G2 0 0 0 0 683 )
国家自然科学基金 (批准号 :60 13 60 2 0
+1 种基金
60 2 90 0 80 )
国家高技术研究发展计划 (批准号 :2 0 0 2 AA3 0 5 3 0 4)资助项目~~
文摘
通过 PL 谱和 Raman谱对 MOCVD生长 Si基 Al N的深陷阱中心进行了研究 ,发现三个深能级 Et1 ,Et2 ,Et3,分别在 Ev 上 2 .6 1,3.10 ,2 .11e V.Et1 是由氧杂质和氮空位 (或 Al间隙原子 )能级峰位靠近重合共同引起的 ,Et2 、Et3都是由于衬底 Si原子扩散到 Al N引起的 .在 Si浓度较低时 ,Si主要以取代 Al原子的方式存在 ,产生深陷阱中心Et2 .Si浓度高于某个临界浓度时 ,部分 Si原子以取代 N原子位置的方式存在 ,形成深陷阱中心 Et3.实验还表明 ,即使经高温长时间退火 ,Al N中 Et1 和 Et2
关键词
Si基AlN
深陷阱中心
PL谱
Keywords
AlN grown on Si substrate
deep trap center
PL spectra
分类号
TN304.2 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
MOS结构界面性质的变频C-V研究
3
作者
王永生
郑有炓
张荣
机构
南京大学物理系
出处
《南京大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
1990年第2期211-222,共12页
文摘
本文提出了一种用于MOS界面测量的方法,能够测量半导体/氧化层界面的界面态密度、时间常数、俘获截面在禁带中的能量分布,还能够用于研究界面深能级及氧化层电荷陷阱态。此方法对样品漏电及测量环境要求较低,具有较大的实用意义。
关键词
MOS
结构
界面
测量
C-V法
变频
Keywords
MOS structure
variable-frequency C-V
interface states
deep
level
oxide
trap
center
s
分类号
TN307 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
鄂尔多斯深盆气
孙粉锦
许化政
陈孟晋
《现代地质》
CAS
CSCD
2001
20
下载PDF
职称材料
2
Si基MOCVD生长AlN深陷阱中心研究
邓咏桢
郑有炓
周春红
孔月婵
陈鹏
叶建东
顾书林
沈波
张荣
江若琏
韩平
施毅
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
0
下载PDF
职称材料
3
MOS结构界面性质的变频C-V研究
王永生
郑有炓
张荣
《南京大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
1990
0
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职称材料
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