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Carrier transport characteristics of H-terminated diamond films prepared using molecular hydrogen and atomic hydrogen 被引量:1
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作者 Jin-long Liu Liang-xian Chen +3 位作者 Yu-ting Zheng Jing-jing Wang Zhi-hong Feng Cheng-ming Li 《International Journal of Minerals,Metallurgy and Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第7期850-856,共7页
The H-terminated diamond films, which exhibit high surface conductivity, have been used in high-frequency and high-power electronic devices. In this paper, the surface conductive channel on specimens from the same dia... The H-terminated diamond films, which exhibit high surface conductivity, have been used in high-frequency and high-power electronic devices. In this paper, the surface conductive channel on specimens from the same diamond film was obtained by hydrogen plasma treatment and by heating under a hydrogen atmosphere, respectively, and the surface carrier transport characteristics of both samples were compared and evaluated. The results show that the carrier mobility and carrier density of the sample treated by hydrogen plasma are 15 cm^2·V^(-1)·s^(-1) and greater than 5 × 1012 cm^(-2), respectively, and that the carrier mobilities measured at five different areas are similar. Compared to the hydrogen-plasma-treated specimen, the thermally hydrogenated specimen exhibits a lower surface conductivity, a carrier density one order of magnitude lower, and a carrier mobility that varies from 2 to 33 cm^2·V^(-1)·s^(-1). The activated hydrogen atoms restructure the diamond surface, remove the scratches, and passivate the surface states via the etching effect during the hydrogen plasma treatment process, which maintains a higher carrier density and a more stable carrier mobility. 展开更多
关键词 H-termination diamond film surface conductivity carrier mobility plasma treatment
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金刚石膜磁阻效应 被引量:1
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作者 孔春阳 王万录 +3 位作者 廖克俊 马勇 王蜀霞 方亮 《重庆大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期133-136,共4页
在F -S薄膜理论的基础上 ,考虑了晶格散射和杂质散射 ,通过求解驰豫近似下的Boltzmann方程 ,计算了P型单晶半导体金刚石膜 (矩形 )在球形能带下的电导率及考虑金刚石的轻空穴带、重空穴带和分裂带为并联电阻模型时的磁阻。给出了磁阻和... 在F -S薄膜理论的基础上 ,考虑了晶格散射和杂质散射 ,通过求解驰豫近似下的Boltzmann方程 ,计算了P型单晶半导体金刚石膜 (矩形 )在球形能带下的电导率及考虑金刚石的轻空穴带、重空穴带和分裂带为并联电阻模型时的磁阻。给出了磁阻和金刚石膜厚度、磁场强度、迁移率的关系。研究表明 :金刚石的轻空穴带、重空穴带和分裂带对磁阻的影响各不相同。厚膜的磁阻和块材的磁阻相差不大。磁阻和温度、磁场强度、迁移率有密切关系。 展开更多
关键词 金刚石膜 磁阻效应 电导率 迁移率 F-S薄膜
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复合效应对掺杂氧化物透明导电薄膜的影响 被引量:7
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作者 孟扬 林剑 +4 位作者 刘键 沈杰 蒋益明 杨锡良 章壮健 《光电子技术》 CAS 2001年第2期89-101,共13页
首次引入复合效应对不同价态差的掺杂氧化物透明导电 (TCO)薄膜的载流子浓度及其迁移率进行了分析。对于较高温度下制备的 TCO薄膜 ,对载流子迁移率起主要作用的散射机制是带电离子散射和电中性复合粒子散射。带电离子散射迁移率与带电... 首次引入复合效应对不同价态差的掺杂氧化物透明导电 (TCO)薄膜的载流子浓度及其迁移率进行了分析。对于较高温度下制备的 TCO薄膜 ,对载流子迁移率起主要作用的散射机制是带电离子散射和电中性复合粒子散射。带电离子散射迁移率与带电离子的有效电荷数大致呈反比关系 ,在载流子浓度相同的情况下 ,随着复合几率增大 ,价态差分别为 3和 4的 TCO薄膜中的带电离子的平均有效电荷分别趋于 1和 2 ,因此带电离子散射迁移率也随之增大 ,分别趋于价态差为 1和 2的 TCO薄膜的带电离子散射迁移率。而对于价态差为 3的 TCO薄膜 ,由于电中性复合粒子数量较少 ,对载流子的散射最弱 ,因此在复合几率较大的情况下 ,价态差为 3的 TCO薄膜有可能获得比价态差为 1的 TCO薄膜更高的载流子迁移率。 展开更多
关键词 透明导电薄膜 掺杂氧化物 复合效应
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Si(100)上异质外延金刚石膜生长及其应用研究 被引量:3
4
作者 王蜀霞 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第6期440-443,共4页
利用负衬底偏压和发射电子增强核化的方法 ,通过微波等离子体和热灯丝 CVD法在 Si (10 0 )上合成出了高度定向的异质外延金刚石膜。并利用冷离子注入和快速退火处理技术完成 P型掺杂异质外延金刚石膜的制作 ,研制出高灵敏度的压阻和磁... 利用负衬底偏压和发射电子增强核化的方法 ,通过微波等离子体和热灯丝 CVD法在 Si (10 0 )上合成出了高度定向的异质外延金刚石膜。并利用冷离子注入和快速退火处理技术完成 P型掺杂异质外延金刚石膜的制作 ,研制出高灵敏度的压阻和磁阻传感器件。试验结果表明 ,这些器件不仅具有高灵敏度 ,而且在高温。 展开更多
关键词 金刚石膜 CVD 压阻效应 磁阻效应 外延生长
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半导体金刚石膜的磁阻效应 被引量:3
5
作者 廖克俊 王万录 王必本 《微细加工技术》 EI 2000年第1期75-78,共4页
研究了在硅上P型异质外延金刚石膜的磁阻效应。实验结果表明金刚石膜有显著的磁阻反应 ,并与磁阻器件的结构有关。在室温下圆盘形结构的磁阻相对变化在 5T磁场下约为 0 85 ,而长条形结构只有 0 40。
关键词 金刚石薄膜 磁阻效应 异质外延
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金刚石膜的磁阻效应和压阻效应
6
作者 孔春阳 马勇 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期120-121,128,共3页
介绍了 p型异质外延金刚石膜磁阻效应和压阻效应的特性及应用展望 ,阐述了目前理论和实验的研究状况 ,提出了今后有待进一步研究的问题。
关键词 异质外延 金刚石膜 磁阻效应 压阻效应
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p型半导体金刚石膜的磁阻效应 被引量:1
7
作者 孔春阳 王万录 +3 位作者 廖克俊 马勇 王蜀霞 方亮 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第8期1616-1622,共7页
在p型硅 (10 0 )衬底上 ,采用衬底负偏压微波等离子体CVD方法进行了p型异质外延金刚石膜的生长 .用O2等离子体刻蚀技术将金刚石膜刻蚀成长条形 ,利用四探针法在 0— 5T的磁场范围内测量了样品的磁阻 .实验结果表明 ,p型异质外延金刚石... 在p型硅 (10 0 )衬底上 ,采用衬底负偏压微波等离子体CVD方法进行了p型异质外延金刚石膜的生长 .用O2等离子体刻蚀技术将金刚石膜刻蚀成长条形 ,利用四探针法在 0— 5T的磁场范围内测量了样品的磁阻 .实验结果表明 ,p型异质外延金刚石膜可以产生较大的磁阻 .在Fuchs Sondheimer(F S)薄膜理论的基础上考虑晶格散射、杂质散射和表面散射 ,通过求解Boltzmann方程 ,利用并联电阻模型研究了p型异质外延金刚石膜的磁阻效应 ,给出了磁阻和金刚石膜厚度、迁移率、空穴密度及磁场的关系 .讨论了表面散射和价带形变对p型异质外延金刚石膜磁阻的影响 。 展开更多
关键词 金刚石膜 异质外延 磁阻效应 电导率 半导体
原文传递
P型半导体金刚石膜的磁阻(英文)
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作者 孔春阳 王万录 +3 位作者 廖克俊 王蜀霞 方亮 马勇 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2001年第3期248-252,共5页
研究了p-型异质外延和同质外延金刚石膜的在不同温度和磁场下的磁阻,磁阻器件的结构为条形和圆盘形。实验结果表明磁阻强烈依赖于磁场、温度和样品的几何形状,圆盘结构的磁阻大于条形结构,条形结构的磁阻还取决于不同的长-宽比。利... 研究了p-型异质外延和同质外延金刚石膜的在不同温度和磁场下的磁阻,磁阻器件的结构为条形和圆盘形。实验结果表明磁阻强烈依赖于磁场、温度和样品的几何形状,圆盘结构的磁阻大于条形结构,条形结构的磁阻还取决于不同的长-宽比。利用F-S薄膜理论,计算磁场为5T时条形和圆盘结构的磁阻分别为0.38和0.74, 讨论了霍耳效应对磁阻的影响,给出了形状效应的可能机制。 展开更多
关键词 磁阻 金刚石膜 形状效应 电导率
原文传递
不同织构CVD金刚石膜的Hall效应特性 被引量:2
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作者 苏青峰 刘长柱 +1 位作者 王林军 夏义本 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第11期366-370,共5页
采用热丝化学气相沉积法在p型硅衬底上制备了不同织构的多晶金刚石膜,使用XRD表征了CVD金刚石膜的结构特征,研究了退火后不同织构金刚石膜的电流特性,使用Hall效应检测仪研究了金刚石膜的霍尔效应特性及随温度变化的规律,结果表明所制... 采用热丝化学气相沉积法在p型硅衬底上制备了不同织构的多晶金刚石膜,使用XRD表征了CVD金刚石膜的结构特征,研究了退火后不同织构金刚石膜的电流特性,使用Hall效应检测仪研究了金刚石膜的霍尔效应特性及随温度变化的规律,结果表明所制备的金刚石膜是p型材料,载流子浓度随着温度的降低而增加,迁移率随着温度的降低而减小.室温下[100]织构金刚石薄膜的载流子浓度和迁移率分别为4.3×104cm 3和76.5 cm2/V·s. 展开更多
关键词 金刚石膜 载流子浓度 迁移率 霍尔效应
原文传递
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