金刚石在不同温度和压力下的强度及断裂

本文利用软压头技术，测定了人造金刚石和天然金刚石在不同温度下的强度．在室温，利用软压头技术测得的金刚石强度与常规方法所得的结果一致．高温条件下，金刚石的断裂行为取决于试验温度、平均接触压力及摩擦系数.观察到两种类型的裂纹，｛111｝解理裂纹与低温、高压力有关.而应变诱发裂纹产生于｛110｝面上，与高温、低应力有关.根据试验结果，提出了金刚石在不同温度和应力状态下的强度图．

阳极离子束在SKD11和YG6基体上沉积DLC膜及其机理

利用阳极离子束技术在SKD11型不锈钢和YG6硬质合金上沉积类金刚石(DLC)薄膜,采用扫描电子显微镜、原子力显微镜、Raman光谱分析薄膜微观结构和表面形貌;采用WS-2005型附着力划痕仪和洛氏压力机测试膜基结合强度;采用球磨仪测试膜层耐磨性能。结果表明:利用该技术所制DLC膜是一种非晶结构、表面平整的薄膜,粗糙度R a值仅为5.21nm。DLC/Cr/SKD11膜系Raman光谱I D/I G值(0.69)高于DLC/Cr/YG6膜系(1.54),说明SKD11高于YG6所制膜层的sp3C键含量;DLC/Cr/SKD11膜系结合强度(17.8 N)低于DLC/Cr/YG6膜系(39.2 N),且DLC/Cr/YG6膜系的洛氏压痕周围仅有放射状微细裂纹,而DLC/Cr/SKD11膜系的压痕周围存在膜层脱落现象;沉积在SKD11与YG6基体上DLC膜的单位磨损率分别为1.40E-4和8.81E-5,说明YG6基体上DLC膜层的耐磨性要优于SKD11基体上的DLC膜层。由此看出,不同基体上制备的DLC膜层微观结构不同,导致结合性能及耐磨性能不同。

从欧洲真空镀膜会议分析光学薄膜及其技术的研究和发展

简要介绍了９６ 年欧洲真空镀膜会议概况，结合９４ 年第一届欧洲真空镀膜专题讨论会的内容，对欧洲各国在光学薄膜和薄膜技术的研究动向作了介绍；并介绍了广泛应用于激光、红外及航天等高技术中的类金刚石和金刚石薄膜、软Ｘ射线多层膜的研究成果。

点接触加载条件下金刚石薄膜的破坏行为

本文利用软压头技术，探讨了金刚石薄膜材料在点接触加载条件下的破坏形式以及外加应力与薄膜破坏之间的关系。