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多层介质膜脉冲压缩光栅近场光学特性分析
被引量:
10
1
作者
刘世杰
沈健
+5 位作者
沈自才
孔伟金
魏朝阳
晋云霞
邵建达
范正修
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第9期4588-4594,共7页
利用傅里叶模式理论分析了TE波自准直角入射的使用条件下,多层介质膜光栅的光栅区和多层膜区电场分布的特点.分别讨论了HfO2和SiO2为顶层光栅材料时,光栅结构参数对光栅脊峰值电场的影响,结果表明,对于不同膜厚的顶层材料,存在一个最佳...
利用傅里叶模式理论分析了TE波自准直角入射的使用条件下,多层介质膜光栅的光栅区和多层膜区电场分布的特点.分别讨论了HfO2和SiO2为顶层光栅材料时,光栅结构参数对光栅脊峰值电场的影响,结果表明,对于不同膜厚的顶层材料,存在一个最佳膜厚度,使光栅脊峰值电场最小,并且当膜厚增大时,设计大高宽比的光栅可以降低该电场峰值.最后,在大角度条件下使用多层膜光栅也可以降低光栅脊处的峰值电场.
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关键词
衍射光学
多层介质膜光栅
模式理论
损伤阈值
原文传递
题名
多层介质膜脉冲压缩光栅近场光学特性分析
被引量:
10
1
作者
刘世杰
沈健
沈自才
孔伟金
魏朝阳
晋云霞
邵建达
范正修
机构
中国科学院上海光学精密机械研究所
中国科学院研究生院
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第9期4588-4594,共7页
基金
国家自然科学基金(批准号:10376040)资助的课题.~~
文摘
利用傅里叶模式理论分析了TE波自准直角入射的使用条件下,多层介质膜光栅的光栅区和多层膜区电场分布的特点.分别讨论了HfO2和SiO2为顶层光栅材料时,光栅结构参数对光栅脊峰值电场的影响,结果表明,对于不同膜厚的顶层材料,存在一个最佳膜厚度,使光栅脊峰值电场最小,并且当膜厚增大时,设计大高宽比的光栅可以降低该电场峰值.最后,在大角度条件下使用多层膜光栅也可以降低光栅脊处的峰值电场.
关键词
衍射光学
多层介质膜光栅
模式理论
损伤阈值
Keywords
diffractive optics
,
multi-layer dielectric gratings
,
fourier modal method
,
laser induced damage threshold
分类号
O436.1 [机械工程—光学工程]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
多层介质膜脉冲压缩光栅近场光学特性分析
刘世杰
沈健
沈自才
孔伟金
魏朝阳
晋云霞
邵建达
范正修
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
10
原文传递
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