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一种具有高ESD泄放电流的AlGaN/GaN HEMT器件
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作者 吴家旭 成建兵 +2 位作者 孙旸 周成龙 姜圣杰 《固体电子学研究与进展》 CAS 2024年第4期289-294,共6页
为满足AlGaN/GaN HEMT器件的高静电放电(Electrostatic discharge, ESD)防护需求,提出了一种用于泄放静电电荷的具有掺杂沟槽的GaN HEMT防护结构。通过在沟道层下方引入沟槽,提高了GaN HEMT在面对ESD事件时的电流泄放能力,同时将沟槽设... 为满足AlGaN/GaN HEMT器件的高静电放电(Electrostatic discharge, ESD)防护需求,提出了一种用于泄放静电电荷的具有掺杂沟槽的GaN HEMT防护结构。通过在沟道层下方引入沟槽,提高了GaN HEMT在面对ESD事件时的电流泄放能力,同时将沟槽设置在栅极与漏极之间,降低了沟槽对栅极控制的影响,保证了栅极的稳定性。对所提结构在ESD条件下的电流泄放能力进行了仿真验证,结果表明,相比于常规的GaN HEMT结构,沟槽结构GaN HEMT的泄放电流提高了32.7%,并且当沟槽与栅极距离大于0.3μm时,沟槽对阈值电压几乎没有影响。 展开更多
关键词 高电子迁移率晶体管 静电放电 高泄放电流 沟槽
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高压GGNMOS器件结构及工艺对ESD防护特性的影响
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作者 傅凡 万发雨 +1 位作者 汪煜 洪根深 《固体电子学研究与进展》 CAS 2024年第2期178-182,共5页
基于高压CMOS工艺,对高压栅极接地N型金属氧化物半导体(Highvoltagegrounded-gate N-metal-oxide-semiconductor, HV-GGNMOS)的静电放电(Electrostatic discharge, ESD)防护性能进行研究。由于强折回特性以及失效电流低,HV-GGNMOS在实... 基于高压CMOS工艺,对高压栅极接地N型金属氧化物半导体(Highvoltagegrounded-gate N-metal-oxide-semiconductor, HV-GGNMOS)的静电放电(Electrostatic discharge, ESD)防护性能进行研究。由于强折回特性以及失效电流低,HV-GGNMOS在实际应用中受到限制。本文通过计算机辅助设计技术仿真及传输线脉冲实验研究了工艺参数及版图结构对器件ESD防护性能的影响。结果表明,增加漂移区掺杂浓度可以有效提高器件失效电流;加强体接触和增加漂移区长度可以提高器件的维持电压,但失效电流会有所下降,占用版图面积也会更大。 展开更多
关键词 静电放电防护 栅极接地NMOS 维持电压 失效电流
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Study on electrostatic discharge(ESD)characteristics of ultra-thin dielectric film
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作者 Ronggang WANG Yurong SUN +1 位作者 Liuliang HE Jiting OUYANG 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第4期89-95,共7页
Electrostatic discharge(ESD)event usually destroys the electrical properties of dielectric films,resulting in product failure.In this work,the breakdown characteristic of machine mode(MM)ESD on three different nano si... Electrostatic discharge(ESD)event usually destroys the electrical properties of dielectric films,resulting in product failure.In this work,the breakdown characteristic of machine mode(MM)ESD on three different nano size films of head gimble assemble are obtained experimentally.The breakdown voltage and thickness parameters show a positive proportional relationship,but they are generally very low and have large discrete characteristics(~30%).The maximum and minimum breakdown voltages of the tested samples are 1.08 V and 0.46 V,which are far lower than the requirement of the current standard(25 V).In addition,the judgment criterion of product damage is given,and the relationship between discharge voltage polarity,initial resistance and breakdown voltage is studied.Finally,the theoretical analysis of the breakdown characteristic law has been given. 展开更多
关键词 ultra-thin dielectric film electrostatic discharge(esd) machine model
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Enhanced gated-diode-triggered silicon-controlled rectifier for robust electrostatic discharge (ESD) protection applications
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作者 Wenqiang Song Fei Hou +2 位作者 Feibo Du Zhiwei Liu Juin JLiou 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第9期559-563,共5页
A robust electron device called the enhanced gated-diode-triggered silicon-controlled rectifier (EGDTSCR) for electrostatic discharge (ESD) protection applications has been proposed and implemented in a 0.18-μm 5-V/2... A robust electron device called the enhanced gated-diode-triggered silicon-controlled rectifier (EGDTSCR) for electrostatic discharge (ESD) protection applications has been proposed and implemented in a 0.18-μm 5-V/24-V BCD process. The proposed EGDTSCR is constructed by adding two gated diodes into a conventional ESD device called the modified lateral silicon-controlled rectifier (MLSCR). With the shunting effect of the surface gated diode path, the proposed EGDTSCR, with a width of 50 μm, exhibits a higher failure current (i.e., 3.82 A) as well as a higher holding voltage (i.e., 10.21 V) than the MLSCR. 展开更多
关键词 electrostatic discharge(esd) enhanced gated-diode-triggered silicon-controlled rectifier(EGDTSCR) modified lateral silicon-controlled rectifier(MLSCR) failure current holding voltage
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基于工业数据挖掘的ESD软失效分析
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作者 刘祖耀 张海贝 +3 位作者 颜志强 汪中博 司立娜 刘路 《现代电子技术》 北大核心 2024年第10期69-72,共4页
针对电子产品出货后出现ESD软失效而导致的退货现象,文章通过机器学习算法分析产品ICT电性能测试参数、生产线ESD防护监控数据和产品ESD软失效的相关性。集成算法模型经过优化,分类准确率达到0.88,可以用于量产电子产品的ESD软失效的识... 针对电子产品出货后出现ESD软失效而导致的退货现象,文章通过机器学习算法分析产品ICT电性能测试参数、生产线ESD防护监控数据和产品ESD软失效的相关性。集成算法模型经过优化,分类准确率达到0.88,可以用于量产电子产品的ESD软失效的识别和出货风险管控。同时,利用ESD防护监控点风险指数数据集可以提高产品ESD软失效的识别准确率(8.6%)。安装部署基于物联网技术的静电放电防护监控系统,对管控电子产品生产过程中的ESD软失效风险以及控制出货风险是很有帮助的,可以提高电子制造业防静电管控的智慧化水平。 展开更多
关键词 esd软失效 工业数据挖掘 在线测试仪(ICT) 电性能测试 静电放电 监控系统
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医用电气设备静电放电(ESD)抗扰度试验分析
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作者 刘鹏 俞磊 林蒙 《品牌与标准化》 2024年第2期184-187,共4页
本文介绍了静电放电(ESD)的形成机理、放电模型以及耦合方式,创新性地从静电放电(ESD)耦合路径入手,对静电放电(ESD)的干扰机理和抑制对策进行研究。根据电磁兼容(EMC)中静电放电(ESD)的理论研究和试验方法,针对耦合路径设计整改对策,... 本文介绍了静电放电(ESD)的形成机理、放电模型以及耦合方式,创新性地从静电放电(ESD)耦合路径入手,对静电放电(ESD)的干扰机理和抑制对策进行研究。根据电磁兼容(EMC)中静电放电(ESD)的理论研究和试验方法,针对耦合路径设计整改对策,确保整改对策的有效性和可复现性,以此提高静电放电(ESD)整改成功率。 展开更多
关键词 静电放电(esd) 传导性静电放电(esd)耦合 辐射性静电放电(esd)耦合 电磁兼容(EMC) 医用电气设备
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A novel diode string triggered gated-Pi N junction device for electrostatic discharge protection in 65-nm CMOS technology 被引量:1
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作者 张立忠 王源 +2 位作者 陆光易 曹健 张兴 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第10期594-598,共5页
A novel diode string-triggered gated-Pi N junction device, which is fabricated in a standard 65-nm complementary metal-oxide semiconductor(CMOS) technology, is proposed in this paper. An embedded gated-Pi N junction... A novel diode string-triggered gated-Pi N junction device, which is fabricated in a standard 65-nm complementary metal-oxide semiconductor(CMOS) technology, is proposed in this paper. An embedded gated-Pi N junction structure is employed to reduce the diode string leakage current to 13 n A/μm in a temperature range from 25°C to 85°C. To provide the effective electrostatic discharge(ESD) protection in multi-voltage power supply, the triggering voltage of the novel device can be adjusted through redistributing parasitic resistance instead of changing the stacked diode number. 展开更多
关键词 electrostatic discharge esd gated-PiN junction diode string parasitic resistance redistribution
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Structure-dependent behaviors of diode-triggered silicon controlled rectifier under electrostatic discharge stress 被引量:1
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作者 张立忠 王源 何燕冬 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第12期507-513,共7页
The comprehensive understanding of the structure-dependent electrostatic discharge behaviors in a conventional diode-triggered silicon controlled rectifier (DTSCR) is presented in this paper. Combined with the devic... The comprehensive understanding of the structure-dependent electrostatic discharge behaviors in a conventional diode-triggered silicon controlled rectifier (DTSCR) is presented in this paper. Combined with the device simulation, a mathematical model is built to get a more in-depth insight into this phenomenon. The theoretical studies are verified by the transmission-line-pulsing (TLP) test results of the modified DTSCR structure, which is realized in a 65-nm complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) process. The detailed analysis of the physical mechanism is used to provide predictions as the DTSCR-based protection scheme is required. In addition, a method is also presented to achieve the tradeoff between the leakage and trigger voltage in DTSCR. 展开更多
关键词 electrostatic discharge esd diode-triggered silicon controlled rectifier (DTSCR) transmission-line-pulsing (TLP) mathematical modeling
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Measurements of Characteristics of Electromagnetic Radiation Caused by Electrostatic Discharges in Metal Sphere Gap at Voltages Less than 1 kV 被引量:1
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作者 Ken Kawamata Shigeki Minegishi 《China Communications》 SCIE CSCD 2013年第7期29-35,共7页
In this study,the characteristics of Electromagnetic(EM) radiation caused by Electrostatic Discharges(ESDs) from metal spheres charged to voltages less than 1 kV are examined experimentally.Our experimental system con... In this study,the characteristics of Electromagnetic(EM) radiation caused by Electrostatic Discharges(ESDs) from metal spheres charged to voltages less than 1 kV are examined experimentally.Our experimental system consists of a pair of spherical electrodes of different diameters,a 1-18 GHz-bandwidth horn antenna and a 20-GHz-bandwidth digitizing oscilloscope.Polarization,waveform duration and peaks of antenna-received voltages from the EM field radiation are measured in order to clarify the EM radiation mechanism.The ratio of the received voltages between the antenna arrangements of the field polarization parallel and perpendicular to the spark pass is 18 to 20 dB.The polarities of the antenna-received voltages are the same as those of the charge voltages across the gap.Moreover,the waveform duration and the first peaks increase with an increase in the diameters of the spherical electrodes.Consequently,we find that the polarization,waveform duration and first peaks of the EM field radiation can be explained by a dipole antenna structure,which makes the spark part of the spherical electrodes a feeding point on the straight line passing through the centres of the two spheres. 展开更多
关键词 esd micro-gap discharge electromagnetic radiation polarization spherical electrode waveform duration
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CORRELATION INVESTIGATION BETWEEN CONTACT APPROACH SPEED OF HANDHELD METAL ROD AND DISCHARGE PARAMETERS FROM CHARGED HUMAN BODY
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作者 Ruan Fangming Fujiwara Osamu Gao Yougang 《Journal of Electronics(China)》 2008年第3期384-388,共5页
Characteristic measurement of contact discharge currents are made through a hand-held metal rod from charged human body. Correlation coefficients are obtained, through Statistic Package for Social Science (SPSS), for ... Characteristic measurement of contact discharge currents are made through a hand-held metal rod from charged human body. Correlation coefficients are obtained, through Statistic Package for Social Science (SPSS), for various charge voltages, which is based on the effect test of electrode contact approach speeds on discharge current parameters of current peaks, maximum rising slope and spark lengths. Discharge parameters at charge voltage 300V are independent on approach speed. For charge voltages equal to and higher than 500V, the contact approach speed has strong positive cor- relation with discharge parameters of the peak current and the maximum rising slope, whereas has strong negative correlation with the spark length. 展开更多
关键词 ElectroStatic discharge esd Metal rod discharge current Contact approach speed Statistical correlation
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系统级ESD对IC的影响研究
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作者 周一 兰孟华 《电子质量》 2023年第4期48-52,共5页
随着电子产品复杂度的提高及高速化通讯应用场景的广泛存在,静电放电敏感性的问题日益突出,主要表现为集成电路出现的一系列软失效和硬失效现象,包括卡死、复位、重启甚至损坏等。主要研究了系统级静电放电对集成电路的影响。首先,介绍... 随着电子产品复杂度的提高及高速化通讯应用场景的广泛存在,静电放电敏感性的问题日益突出,主要表现为集成电路出现的一系列软失效和硬失效现象,包括卡死、复位、重启甚至损坏等。主要研究了系统级静电放电对集成电路的影响。首先,介绍了静电放电的原理及其测试标准;其次,研究了芯片侧瞬态静电过电压的抓取方式;然后,对应用于不同电路设计的静电防护能力的优劣进行了评估并对比了芯片侧的静电干扰电压水平;最后,验证分析了USB接口不同的接地设计方式和静电放电施加方式对集成电路甚至系统的影响。 展开更多
关键词 集成电路 静电放电 接触放电 空气放电
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静电放电模拟器近区辐射电场的测量研究
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作者 李红延 白冰 +1 位作者 林浩宇 黄攀 《安全与电磁兼容》 2024年第4期32-37,98,共7页
静电放电(ESD)是电磁兼容领域的关键测试项目。为在近区获得更多可供参考的ESD辐射电场实测数据,建立了ESD辐射电场测量系统,测量并研究了四个厂家的主流ESD模拟器在接触放电模式下产生的辐射电场。实验结果表明,不同试验等级ESD辐射电... 静电放电(ESD)是电磁兼容领域的关键测试项目。为在近区获得更多可供参考的ESD辐射电场实测数据,建立了ESD辐射电场测量系统,测量并研究了四个厂家的主流ESD模拟器在接触放电模式下产生的辐射电场。实验结果表明,不同试验等级ESD辐射电场波形参数与IEC 61000-4-2:2008中的参考值一致,测量结果准确;在严格控制实验条件的情况下,电场峰值和上升时间的重复性可以得到保证,且电场峰值的重复性优于上升时间的重复性;不同型号的ESD模拟器在电流波形都符合IEC 61000-4-2:2008限值的情况下,辐射电场的波形存在更大差异,早日实现ESD辐射电场的准确、可靠测量并规范其测量方法及其限值十分必要。 展开更多
关键词 静电放电 辐射场 电场 时域测量 近场
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基于高分子电压诱导变阻膜的全PCB抗脉冲防护
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作者 刘辉 吴丰顺 +4 位作者 武占成 龚德权 王晶 胡元伟 马浩轩 《印制电路信息》 2024年第1期21-25,共5页
随着芯片集成度的不断提高,内部互连导线间距越来越小,器件更易在静电作用下受到损害。为提高印制电路板(PCB)在实际应用中抗静电放电(ESD)和电磁脉冲(EMP)的能力,制作了一种高分子电压诱导变阻膜,将其嵌入PCB中形成脉冲吸收网络,使全... 随着芯片集成度的不断提高,内部互连导线间距越来越小,器件更易在静电作用下受到损害。为提高印制电路板(PCB)在实际应用中抗静电放电(ESD)和电磁脉冲(EMP)的能力,制作了一种高分子电压诱导变阻膜,将其嵌入PCB中形成脉冲吸收网络,使全板具备抗瞬变脉冲能力,实现对ESD和EMP的全系统防护。ESD防护实测结果表明,对比普通PCB,全抗脉冲PCB对静电脉冲有更快的响应速度和更高的释放效率;传输线脉冲(TLP)测试结果表明,采用电压诱导变阻膜的PCB中每一点都具有过电压脉冲吸收能力,电流泄放能力可达50 A以上。 展开更多
关键词 静电放电(esd) 传输线脉冲(TLP)测试 电磁脉冲(EMP) 变阻膜
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ESD发生器开关动作对抗扰度试验的影响 被引量:5
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作者 贺其元 刘尚合 +1 位作者 孙国至 陈京平 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期93-96,共4页
分析了人体-金属静电放电(ESD)发生器开关动作的基本过程;说明了在ESD抗扰度试验中ESD发生器开关动作的影响。通过空气放电模拟测试装置测量并记录了ESS-200 AX、SANKI NS61000-2A和NSG-435 3种ESD发生器开关动作的影响。由小环耦合电... 分析了人体-金属静电放电(ESD)发生器开关动作的基本过程;说明了在ESD抗扰度试验中ESD发生器开关动作的影响。通过空气放电模拟测试装置测量并记录了ESS-200 AX、SANKI NS61000-2A和NSG-435 3种ESD发生器开关动作的影响。由小环耦合电压的测量研究了ESD发生器开关动作产生的辐射场。结果表明,使用不同的ESD发生器开关动作的影响程度不一样,且使用相同的ESD发生器开关闭合和开关释放的影响存在差异。对小环耦合电压的频谱分析表明,开关动作会产生频谱范围较宽的电磁骚扰,影响对高速逻辑器件的ESD抗扰度试验。在进行ESD抗扰度试验时,需考虑ESD辐射场,尤其需要降低或控制ESD发生器开关动作产生的辐射场。 展开更多
关键词 静电放电 开关 耦合 辐射场 频谱 抗扰度试验
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一种新的BMM-ESD电流解析式计算方法 被引量:6
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作者 周峰 徐丹 +4 位作者 黄久生 高攸纲 刘素玲 王喜芹 汪朗峰 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期62-64,142,共4页
为进一步发展BMM-ESP电流的电路建模求解法,分析了静电放电测试环境在实际放电测试过程中的寄生参量并建立了一个9元件ESD电路模型,求得了电流在复频域的表达式,进而通过拉普拉斯反变换解得了BMM-ESD电流时域解析式。计算验证了实测BMM-... 为进一步发展BMM-ESP电流的电路建模求解法,分析了静电放电测试环境在实际放电测试过程中的寄生参量并建立了一个9元件ESD电路模型,求得了电流在复频域的表达式,进而通过拉普拉斯反变换解得了BMM-ESD电流时域解析式。计算验证了实测BMM-ESD电流复频域表达式极点分布的规律:共6个极点都位于复频域的左半平面,含2对共轭复数和2个实数,从而概括出BMM-ESD电流时域解析式的一般形式。算例表明,电流解析式符合IEC规定,吻合实测波形,尤其能够有效描述实际ESD波形中常见的非标准现象:位于第1峰值与第2峰值间的寄生振荡。 展开更多
关键词 静电放电 电路模型 寄生振荡 拉普拉斯反变换 解析式 计算
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ESD辐射场的计算及对传输线的耦合研究 被引量:11
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作者 周星 魏光辉 张希军 《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期670-673,共4页
为分析静电放电的辐射场及其对传输线与负载终端的影响,采用了一种基于脉冲函数的静电放电电流波形解析表达式计算了静电放电电磁脉冲辐射场并给出了近场和远场波形。结果表明放电电场包括由初始电荷引起的静电场和由放电电流引起的辐射... 为分析静电放电的辐射场及其对传输线与负载终端的影响,采用了一种基于脉冲函数的静电放电电流波形解析表达式计算了静电放电电磁脉冲辐射场并给出了近场和远场波形。结果表明放电电场包括由初始电荷引起的静电场和由放电电流引起的辐射场,在放电电极附近,静电场远大于辐射场,但静电场随空间距离衰减得很快,在远区场主要由放电电流引起的辐射场。利用传输线理论建立静电放电场对电长导线的耦合计算模型得出了静电放电辐射场在线上的感应电压和感应电流计算方程。 展开更多
关键词 静电放电(esd) 电磁脉冲(EMP) 近场 远场 传输线 耦合
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纳米尺度超低漏电ESD电源钳位电路研究 被引量:2
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作者 王源 张雪琳 +3 位作者 曹健 陆光易 贾嵩 张钢刚 《北京大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期595-599,共5页
提出一种新型超低漏电ESD电源钳位电路。该电路采用具有反馈回路的ESD瞬态检测电路,能够减小MOS电容栅极–衬底之间电压差,降低电路的泄漏电流,抑制ESD泄放器件的亚阈值电流。65 nm CMOS工艺仿真结果表明,在电路正常上电时,泄漏电流只有... 提出一种新型超低漏电ESD电源钳位电路。该电路采用具有反馈回路的ESD瞬态检测电路,能够减小MOS电容栅极–衬底之间电压差,降低电路的泄漏电流,抑制ESD泄放器件的亚阈值电流。65 nm CMOS工艺仿真结果表明,在电路正常上电时,泄漏电流只有24.13 nA,比传统ESD电源钳位电路的5.42μA降低两个数量级。 展开更多
关键词 静电放电 泄漏电流 电源钳位电路 亚阈值电流
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一种新型结构栅耦合ggNMOS ESD保护电路研究 被引量:1
18
作者 张冰 柴常春 +1 位作者 杨银堂 吴晓鹏 《电路与系统学报》 CSCD 北大核心 2011年第5期84-89,共6页
针对现有栅耦合NMOS(gate coupled NMOS,gcNMOS)静电放电(electrostatic discharge,ESD)保护电路对特定ESD脉冲不能及时响应造成的"触发死区"现象,本文提出了一种全新结构的栅耦合栅接地NMOS(gate coupled gate grounded NMOS... 针对现有栅耦合NMOS(gate coupled NMOS,gcNMOS)静电放电(electrostatic discharge,ESD)保护电路对特定ESD脉冲不能及时响应造成的"触发死区"现象,本文提出了一种全新结构的栅耦合栅接地NMOS(gate coupled gate grounded NMOS,gc-ggNMOS)ESD保护电路,这种结构通过利用保护电路中漏、栅交叠区的寄生电容作为耦合电容,连接保护电路栅与地的多晶硅(poly)电阻作为耦合电阻,在有效解决原有gcNMOS结构"触发死区"现象的同时,还避免了因引入特定耦合电容带来版图面积的增加,进而提高了ESD保护电路鲁棒性指标。本文采用ISE-TCAD仿真软件,建立了0.6μm CSMC6S06DPDM-CT02CMOS工艺下gc-ggNMOS ESD保护电路的3D物理结构模型,并对此种结构中关键性参数耦合电阻、电容与触发电压特性的关系进行了系统仿真。仿真表明,当耦合电容为定值时,保护电路触发电压随耦合电阻阻值的增加而减小,这一结果与流片的传输线脉冲(transmission line pulsing,TLP)测试结果吻合。全新结构的gc-ggNMOS ESD保护电路通过了5KV人体放电模式(human body model,HBM)测试。本文的研究结果为次亚微米MOS ESD保护电路的设计提供了一种新的参考依据。 展开更多
关键词 栅耦合栅接地NMOS(gate coupled GATE grounded NMOS gc-ggNMOS) 静电放电(electrostatic discharge esd) 栅耦合电阻 栅耦合电容 传输线脉冲(transmission line pulsing TLP)
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0.18μm CMOS工艺下的新型ESD保护电路设计 被引量:7
19
作者 刘红侠 刘青山 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第5期867-870,926,共5页
为了有效地保护0.18μm CMOS工艺下箝位器件的栅极,设计了一款新型的电源和地之间的静电保护电路.该电路在检测电路部分加了一个NMOS反馈器件,同时在检测电路的下一级使用了动态传输结构.反馈器件能够提高电路中各器件工作状态的转换速... 为了有效地保护0.18μm CMOS工艺下箝位器件的栅极,设计了一款新型的电源和地之间的静电保护电路.该电路在检测电路部分加了一个NMOS反馈器件,同时在检测电路的下一级使用了动态传输结构.反馈器件能够提高电路中各器件工作状态的转换速度,使得保护电路能够及时关闭,避免箝位器件栅极电流保持过长时间,保护了箝位器件的栅极.此外,该电路采用0.18μm CMOS工艺下的普通器件,节省了电路的成本. 展开更多
关键词 静电放电 保护电路 反馈 动态传输
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一种片上低触发电压高耐压NMOS ESD防护结构设计 被引量:2
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作者 陈迪平 刘杏 +1 位作者 何龙 陈思园 《湖南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第2期115-118,共4页
设计了一种触发电压低于10 V,HBM耐压超过4kV的低触发、高耐压NMOS ESD防护结构.通过带钳位的栅耦合RC网络来适当抬升ESD泄放管栅压与衬底电压.在提高泄放能力与降低触发电压的同时,依然保持了较高的二次击穿电流It,从而增强了MOS防护... 设计了一种触发电压低于10 V,HBM耐压超过4kV的低触发、高耐压NMOS ESD防护结构.通过带钳位的栅耦合RC网络来适当抬升ESD泄放管栅压与衬底电压.在提高泄放能力与降低触发电压的同时,依然保持了较高的二次击穿电流It,从而增强了MOS防护结构在深亚微米CMOS电路中的ESD防护能力.该结构最终在CSMC HJ018工艺流片,并通过TLP测试平台测得触发电压低于10V,二次击穿电流3.5A,达到设计要求. 展开更多
关键词 esd 衬底触发 栅耦合 TLP
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