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The Role of Electronic Bill of Lading and Challenges to the Current Legal Framework
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作者 Xiaohao Zhu Zhipeng Cui Pengfei Zhang 《Journal of Shipping and Ocean Engineering》 2022年第1期19-26,共8页
Many instruments have helped traders to effectively communicate,establish contracts,manage risk and protect their benefits while collaborating with people who have diverse cultural backgrounds.The B/L(bill of lading)h... Many instruments have helped traders to effectively communicate,establish contracts,manage risk and protect their benefits while collaborating with people who have diverse cultural backgrounds.The B/L(bill of lading)has been one of the most significant documents in the shipping industry since it was invented in the 13th century in Italy.It is an evidence of existing contracts between the shipper and the carrier,in which both of them agreed to deliver the goods safely from the port of loading to the port of discharge.However,many problems are triggered by requiring the presentation of the original paper B/L at the discharging port so that the buyer gets the cargo in time.As of today,many attempts were carried out to develop an electronic equivalent to the paper B/L.Additionally,many practices were formed in order for these electronic equivalents to be legally reinforced and enhanced.This article presents the main transitional stages of these efforts and the status of this progress.It analyses the legal background which has been established to validate these ventures and the option of using an electronic B/L in order for the ships to be able to deliver the goods without the presentation of the original document.In the meantime,this article highlights potential areas for further investigation. 展开更多
关键词 eB/L(electronic bill of lading) CARRIER SHIPPER GOODS technology
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Reduction of Electron Leakage in a Deep Ultraviolet Nitride Laser Diode with a Double-Tapered Electron Blocking Layer 被引量:3
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作者 Yi-Fu Wang Mussaab I.Niass +1 位作者 Fang Wang Yu-Huai Liu 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2019年第5期67-70,共4页
A double-tapered AlGaN electron blocking layer (EBL) is proposed to apply in a deep ultraviolet semiconductor laser diode. Compared with the inverse double-tapered EBL, the laser with the double-tapered EBL shows a hi... A double-tapered AlGaN electron blocking layer (EBL) is proposed to apply in a deep ultraviolet semiconductor laser diode. Compared with the inverse double-tapered EBL, the laser with the double-tapered EBL shows a higher slope efficiency, which indicates that effective enhancement in the transportation of electrons and holes is achieved. Particularly, comparisons among the double-tapered EBL, the inverse double-tapered EBL, the singletapered EBL and the inverse single-tapered EBL show that the double-tapered EBL has the best performance in terms of current leakage. 展开更多
关键词 ebl AlGaN REDUCTION of ELECTRON Leakage in a Deep Ultraviolet NITRIDE Laser Diode with a Double-Tapered ELECTRON Blocking Layer
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Performance improvement of blue InGaN light-emitting diodes with a specially designed n-AlGaN hole blocking layer 被引量:1
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作者 丁彬彬 赵芳 +9 位作者 宋晶晶 熊建勇 郑树文 张运炎 许毅钦 周德涛 喻晓鹏 张瀚翔 张涛 范广涵 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第8期721-725,共5页
Blue InGaN light-emitting diodes (LEDs) with a conventional electron blocking layer (EBL), a common n-A1GaN hole blocking layer (HBL), and an n-A1GaN HBL with gradual A1 composition are investigated numerically,... Blue InGaN light-emitting diodes (LEDs) with a conventional electron blocking layer (EBL), a common n-A1GaN hole blocking layer (HBL), and an n-A1GaN HBL with gradual A1 composition are investigated numerically, which involves analyses of the carrier concentration in the active region, energy band diagram, electrostatic field, and internal quantum efficiency (IQE). The results indicate that LEDs with an n-AIGaN HBL with gradual AI composition exhibit better hole injection efficiency, lower electron leakage, and a smaller electrostatic field in the active region than LEDs with a conven tional p-A1GaN EBL or a common n-A1GaN HBL. Meanwhile, the efficiency droop is alleviated when an n-A1GaN HBL with gradual A1 composition is used. 展开更多
关键词 p-A1GaN electron blocking layer ebl n-A1GaN hole blocking layer (HBL) numerical simula-tion InGaN light-emitting diode (LED)
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Double superlattice structure for improving the performance of ultraviolet light-emitting diodes
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作者 Yan-Li Wang Pei-Xian Li +8 位作者 Sheng-Rui Xu Xiao-Wei Zhou Xin-Yu Zhang Si-Yu Jiang Ru-Xue Huang Yang Liu Ya-Li Zi Jin-Xing Wu Yue Hao 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第3期381-385,共5页
The novel AlGaN-based ultraviolet light-emitting diodes(UV-LEDs) with double superlattice structure(DSL) are proposed and demonstrated by numerical simulation and experimental verification. The DSL consists of 30-peri... The novel AlGaN-based ultraviolet light-emitting diodes(UV-LEDs) with double superlattice structure(DSL) are proposed and demonstrated by numerical simulation and experimental verification. The DSL consists of 30-period Mg modulation-doped p-AlGaN/u-GaN superlattice(SL) and 4-period p-AlGaN/p-GaN SL electron blocking layer, which are used to replace the p-type GaN layer and electron blocking layer of conventional UV-LEDs, respectively. Due to the special effects and interfacial stress, the AlGaN/GaN short-period superlattice can reduce the acceptor ionization energy of the ptype regions, thereby increasing the hole concentration. Meanwhile, the multi-barrier electron blocking layers are effective in suppressing electron leakage and improving hole injection. Experimental results show that the enhancements of 22.5%and 37.9% in the output power and external quantum efficiency at 120 m A appear in the device with double superlattice structure. 展开更多
关键词 LIGHT-EMITTING diodes(LEDs) electron BLOCKING layer(ebl) SUPERLATTICES
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Fabrication and Characterization of a Single Electron Transistor Based on a Silicon-on-Insulator
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作者 苏丽娜 吕利 +2 位作者 李欣幸 秦华 顾晓峰 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2015年第4期94-96,共3页
A single electron transistor based on a silicon-on-insulator is successfully fabricated with electron-beam nano- lithography, inductively coupled plasma etching, thermal oxidation and other techniques. The unique desi... A single electron transistor based on a silicon-on-insulator is successfully fabricated with electron-beam nano- lithography, inductively coupled plasma etching, thermal oxidation and other techniques. The unique design of the pattern inversion is used, and the pattern is transferred to be negative in the electron-beam lithography step. The oxidation process is used to form the silicon oxide tunneling barriers, and to further reduce the effective size of the quantum dot. Combinations of these methods offer advantages of good size controllability and accuracy, high reproducibility, low cost, large-area contacts, allowing batch fabrication of single electron transistors and good integration with a radio-frequency tank circuit. The fabricated single electron transistor with a quantum dot about 50nto in diameter is demonstrated to operate at temperatures up to 70K. The charging energy of the Coulomb island is about 12.5meV. 展开更多
关键词 Si Fabrication and Characterization of a Single Electron Transistor Based on a Silicon-on-Insulator ebl SOI
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Fabrication of Binary Diffractive Lenses and the Application to LED Lighting for Controlling Luminosity Distribution
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作者 Atsushi Motogaito Kazumasa Hiramatsu 《Optics and Photonics Journal》 2013年第1期67-73,共7页
We designed and fabricated two types of binary diffractive lenses using Electron beam lithography (EBL) on optical films film for controlling LED light. In the case of the binary diffractive convex lens with 2-mm foca... We designed and fabricated two types of binary diffractive lenses using Electron beam lithography (EBL) on optical films film for controlling LED light. In the case of the binary diffractive convex lens with 2-mm focal length, it is possible to control the luminous intensity distribution. To improve the diffraction efficiency and realize a thin LED light source, the binary diffractive lenses with 100-μm-order focal length are effective. Furthermore we fabricated and characterized the binary diffractive concave lenses for application in LED lighting. It is found that white-light LEDs are strongly diffused by using the binary diffractive concave lenses. 展开更多
关键词 Light EMITTING Diode (LED) LUMINOSITY DISTRIBUTION BINARY DIFFRACTIVE Lens Electron Beam Lithography (ebl) Optical Film
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Effect of Mg-Preflow for p-AlGaN Electron Blocking Layer on the Electroluminescence of Green LEDs with V-Shaped Pits
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作者 Ai-Xing Li Chun-Lan Mo +5 位作者 Jian-Li Zhang Xiao-Lan Wang Xiao-Ming Wn Guang-Xu Wang Jun-Lin Liu Feng-Yi Jiang 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2018年第2期88-92,共5页
In GaN-based green light-emitting diodes(LEDs) with and without Mg-preflow before the growth of p-Al GaN electron blocking layer(EBL) are investigated experimentally.A higher Mg doping concentration is achieved in... In GaN-based green light-emitting diodes(LEDs) with and without Mg-preflow before the growth of p-Al GaN electron blocking layer(EBL) are investigated experimentally.A higher Mg doping concentration is achieved in the EBL after Mg-preflow treatment,effectively alleviating the commonly observed efficiency collapse and electrons overflowing at cryogenic temperatures.However,unexpected decline in quantum efficiency is observed after Mg-preflow treatment at room temperature.Our conclusions are drawn such that the efficiency decline is probably the result of different emission positions.Higher Mg doping concentration in the EBL after Mg-preflow treatment will make it easier for a hole to be injected into multiple quantum wells with emission closer to pGaN side through the(8-plane rather than the V-shape pits,which is not favorable to luminous efficiency due to the preferred occurrence of accumulated strain relaxation and structural defects in upper QWs closer to p-GaN.Within this framework,apparently disparate experimental observations regarding electroluminescence properties,in this work,are well reconciled. 展开更多
关键词 GaN ebl Effect of Mg-Preflow for p-AlGaN Electron Blocking Layer on the Electroluminescence of Green LEDs with V-Shaped Pits
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数字贸易背景下区块链电子提单的应用研究 被引量:1
8
作者 王明严 《对外经贸实务》 2024年第1期68-73,共6页
随着数字贸易的不断推进,传统海运提单在实务中的缺陷更加突出。电子提单不仅能够有效解决近洋运输及远洋运输中特殊情境下因“货等单”引致的无单放货问题,更能迎合数字贸易发展的时代需求。电子提单已问世多年,但因受到数字技术、运... 随着数字贸易的不断推进,传统海运提单在实务中的缺陷更加突出。电子提单不仅能够有效解决近洋运输及远洋运输中特殊情境下因“货等单”引致的无单放货问题,更能迎合数字贸易发展的时代需求。电子提单已问世多年,但因受到数字技术、运营环境及法律法规等因素的影响至今尚未得到广泛应用。文章从电子提单发展历程切入,分析了区块链电子提单系统的逻辑框架及电子提单的生成与流转机理,剖析了区块链电子提单应用中亟待解决的几个问题,进而提出电子提单普及应用的策略建议。 展开更多
关键词 数字贸易 区块链 电子提单 应用
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GaN基外延结构中EBL层生长工艺对发光效率的影响
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作者 孟锡俊 李建婷 刘大为 《电子测试》 2019年第12期45-46,7,共3页
根据量子限域电子溢出理论及极化场引起的能带弯曲理论,我们采用不同工艺的EBL层结构,通过控制Al组分分布,在不影响P-GaN层空穴的注入的情况下,提升电子限制能力,提升芯片的发光效率。
关键词 电子溢出 ebl 电子限制能力 能带弯曲 Al组分渐变
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区块链提单担保功能实现的路径阐释——以航运数字化转型下新质生产力发展展开 被引量:1
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作者 董泽瑞 《西北民族大学学报(哲学社会科学版)》 CSSCI 北大核心 2024年第5期153-164,共12页
现代航运已步入数字化时代,区块链提单在成本、安全性和信用方面均具优越性,并可用于国际贸易担保,因为其在功能等同原则下可成为权利载体,具有流通性、可控制性和特定性。就体系定位而言,区块链提单担保应采取质押构造,效力模式应采取... 现代航运已步入数字化时代,区块链提单在成本、安全性和信用方面均具优越性,并可用于国际贸易担保,因为其在功能等同原则下可成为权利载体,具有流通性、可控制性和特定性。就体系定位而言,区块链提单担保应采取质押构造,效力模式应采取登记生效主义;就公示制度而言,区块链提单质押应“双重公示”——首先,担保主体在区块链平台对提单状态标识为“质押”,具有公示效果,其次,质权人通过控制私钥实现对货物的排他性控制;就实现进路而言,质权人有权根据《中华人民共和国民法典》第436条第2款或借鉴UCC“不打破和平”规则直接对区块链提单控制下的货物进行处分;如果同一区块链提单被重复设立担保,各担保权人的权利冲突可借鉴《中华人民共和国民法典》第414条处理。 展开更多
关键词 航运 新质生产力 数字化转型 权利凭证 区块链提单质押
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电子束光刻HSQ显影对比度中的图形密度效应
11
作者 梁惠康 段辉高 《微纳电子技术》 CAS 2024年第2期137-144,共8页
氢倍半氧硅烷(HSQ)是一种高分辨的电子束抗蚀剂,其稀疏结构的分辨率已证实达到亚5 nm。但在实际应用中,很难达到约10 nm周期的密集结构,其中间隙残胶问题是无法实现更高分辨率的根本原因。利用传统大块薄膜获取的显影对比度进行理论计算... 氢倍半氧硅烷(HSQ)是一种高分辨的电子束抗蚀剂,其稀疏结构的分辨率已证实达到亚5 nm。但在实际应用中,很难达到约10 nm周期的密集结构,其中间隙残胶问题是无法实现更高分辨率的根本原因。利用传统大块薄膜获取的显影对比度进行理论计算,得到的结果与实际曝光的分辨率极限存在较大差异。针对这一问题,提出了与图形相关的显影对比度,提高了传统显影对比度在密集图形分辨率极限预测中的适用性。对HSQ的微观显影机理进行了阐述,分析了大块薄膜、亚10 nm周期密集高分辨结构显影过程和显影对比度曲线差异,预测和实验验证了超稀疏结构的超高显影对比度(线剂量对比度约为114)。该研究为改善HSQ工艺及提升计算光刻模型的精度提供了新的思路。 展开更多
关键词 电子束光刻(ebl) 氢倍半氧硅烷(HSQ) 显影对比度 分辨率极限 显影机理 图形密度效应
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0.1μmT型栅PHEMT器件 被引量:5
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作者 郑英奎 刘明 +1 位作者 和致经 吴德馨 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第4期476-480,共5页
通过电子束和接触式曝光相结合的混合曝光方法 ,并利用复合胶结构 ,一次电子束曝光制作出具有 T型栅的 PHEMT器件 ,并对 0 .1μm栅长 PHEMT器件的整套工艺及器件性能进行了研究 .形成了一整套具有新特点的PHEMT器件制作工艺 ,获得了良... 通过电子束和接触式曝光相结合的混合曝光方法 ,并利用复合胶结构 ,一次电子束曝光制作出具有 T型栅的 PHEMT器件 ,并对 0 .1μm栅长 PHEMT器件的整套工艺及器件性能进行了研究 .形成了一整套具有新特点的PHEMT器件制作工艺 ,获得了良好的器件性能 (ft=93.97GHz;gm=6 90 m S/mm ) . 展开更多
关键词 二维电子气 电子束光刻 混合曝光 PHEMT T型栅 异质结晶体管
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小型微纳米图形电子束曝光制作系统(英文) 被引量:2
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作者 殷伯华 方光荣 +3 位作者 刘俊标 靳鹏云 薛虹 吕士龙 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2010年第4期290-294,共5页
为了满足科学实验过程中对制作半导体器件和微纳米结构的需要,同时避免受到昂贵的工业级电子束曝光(electron beam lithography,EBL)机的条件制约,构建了一种基于普通扫描电子显微镜(scanning electron microsco-py,SEM)的桌面级小型电... 为了满足科学实验过程中对制作半导体器件和微纳米结构的需要,同时避免受到昂贵的工业级电子束曝光(electron beam lithography,EBL)机的条件制约,构建了一种基于普通扫描电子显微镜(scanning electron microsco-py,SEM)的桌面级小型电子束曝光系统.建立了以浮点DSP为控制核心的高速图形发生器硬件系统.利用线性计算方法实现了电子束曝光场的增益、旋转和位移的校正算法.在本曝光系统中应用了新型压电陶瓷电机驱动的精密位移台来实现纳米级定位.利用此位移台所具有的纳米定位能力,采用标记追逐法实现了电子束曝光场尺寸和形状的校准.电子束曝光实验结果表明,场拼接及套刻精度误差小于100 nm.为了测试曝光分辨率,在PMMA抗蚀剂上完成了宽度为30 nm的密集线条曝光实验.利用此系统,在负胶SU8和双层PMMA胶表面进行了曝光实验;并通过电子束拼接和套刻工艺实现了氮化物相变存储器微电极的电子束曝光工艺. 展开更多
关键词 扫描电子显微镜(SEM) 电子束曝光(ebl) 图形发生器 纳米结构
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论电子提单的流通性 被引量:10
14
作者 向在胜 《武汉大学学报(人文科学版)》 CSSCI 北大核心 2005年第1期53-57,共5页
电子提单流通性的实现机制有两个,其一系基于有关电子提单的立法,通过立法直接承认电子提单在法律性质上是提单。其二则是基于当事人之间的协议,这种协议通常约定采用让与机制间接地实现电子提单的流通性。两个机制中,第一种机制遇到了... 电子提单流通性的实现机制有两个,其一系基于有关电子提单的立法,通过立法直接承认电子提单在法律性质上是提单。其二则是基于当事人之间的协议,这种协议通常约定采用让与机制间接地实现电子提单的流通性。两个机制中,第一种机制遇到了严峻挑战,因为传统提单流通性的实现与其使用的媒介———纸张有着密不可分的联系。 展开更多
关键词 电子提单 流通性 立法 承认 约定 当事人 法律性质 实现机制 挑战 协议
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应用于纳米制造的新型电子束抗蚀剂Calixarene的工艺研究 被引量:1
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作者 赵珉 陈宝钦 +4 位作者 刘明 任黎明 谢常青 朱效立 安南 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2009年第3期275-278,共4页
为了满足电子束光刻(EBL)对高分辨率、性能优秀抗蚀剂的需求,研究了将Calixarene衍生物作为电子束抗蚀剂在胶液配制、电子束曝光及显影等工艺过程中的相关技术.其中电子束曝光实验在JEOL JBX-5000LS系统上进行.实验结果表明,在入射电子... 为了满足电子束光刻(EBL)对高分辨率、性能优秀抗蚀剂的需求,研究了将Calixarene衍生物作为电子束抗蚀剂在胶液配制、电子束曝光及显影等工艺过程中的相关技术.其中电子束曝光实验在JEOL JBX-5000LS系统上进行.实验结果表明,在入射电子能量50 keV、束流50 pA的条件下,Calixarene可以方便地形成50 nm的单线、50nm等线宽与间距的图形结构.通过与常用电子束抗蚀剂的对比,总结了Calixarene在电子束光刻性能上的优缺点,并分析了其成因.作为一种新型的高分辨率电子束光刻抗蚀剂,Calixarene有望应用在纳米结构制造、纳米尺寸器件及电路的研制等领域. 展开更多
关键词 纳米制造 电子束光刻 工艺技术 电子束抗蚀剂 CALIXARENE
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电子束零宽度线曝光及其应用 被引量:2
16
作者 赵珉 刘桂英 +1 位作者 陈宝钦 牛洁斌 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2013年第2期106-111,共6页
为了提高电子束光刻的图形质量及光刻分辨率,从入射束能和束流密度等方面探讨了克服邻近效应影响的途径,在制备亚30 nm结构图形时采用零宽度线曝光的方法。该方法把版图上线条的宽度设为零,因此该线条的光刻尺寸取决于电子束束斑大小、... 为了提高电子束光刻的图形质量及光刻分辨率,从入射束能和束流密度等方面探讨了克服邻近效应影响的途径,在制备亚30 nm结构图形时采用零宽度线曝光的方法。该方法把版图上线条的宽度设为零,因此该线条的光刻尺寸取决于电子束束斑大小、曝光剂量与显影条件。在400 nm厚HSQ抗蚀剂层上通过零宽度线曝光技术制作出了线宽20 nm网状结构的抗蚀剂图形,实验证明采用零宽度线曝光技术可以比较容易地制作出密集线以及高深宽比的抗蚀剂图形。将该技术应用到扫描电镜放大倍率校准标准样品的制备,取得了较好的效果。零宽度线曝光技术是实现电子束直写曝光极限分辨率的有效方法。 展开更多
关键词 电子束光刻(ebl) 邻近效应 高分辨率光刻 零宽度线曝光 密集线图形
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电子商务环境下的权利证券化——以电子提单为视角 被引量:8
17
作者 郭鹏 《武汉大学学报(哲学社会科学版)》 CSSCI 北大核心 2013年第4期66-70,共5页
传统的有价证券是将权利与具有唯一性的纸质证券相结合,以实物证券的流通表征权利的流通,实现权利的证券化。我国应修改《电子签名法》,借鉴美国立法中的可转让电子记录概念及规则,肯定电子证券的相同法律效力,以传统的证券、票据等法... 传统的有价证券是将权利与具有唯一性的纸质证券相结合,以实物证券的流通表征权利的流通,实现权利的证券化。我国应修改《电子签名法》,借鉴美国立法中的可转让电子记录概念及规则,肯定电子证券的相同法律效力,以传统的证券、票据等法律制度适用其流转交易。 展开更多
关键词 电子提单 证券流通 电子记录 合同转让 功能等同
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提单电子化法律问题研究 被引量:2
18
作者 向在胜 王远翔 《时代法学》 2005年第1期105-110,共6页
目前国际国内立法已逐步承认电子技术在商事领域可以实现传统纸质媒介的相关功能 ,有的甚至直接规定“书面形式”包含“电子形式” ,但就提单立法而言 ,目前尚普遍要求提单应具备纸质形式。这使得提单的电子化只能另辟蹊径 ,通过当事人... 目前国际国内立法已逐步承认电子技术在商事领域可以实现传统纸质媒介的相关功能 ,有的甚至直接规定“书面形式”包含“电子形式” ,但就提单立法而言 ,目前尚普遍要求提单应具备纸质形式。这使得提单的电子化只能另辟蹊径 ,通过当事人之间的约定予以实施。不过各国立法逐步承认电子签名和电子证据的法律效力 ,使得电子提单的法律效力可得到保证。 展开更多
关键词 电子提单 电子证据 书面 签字形势 原件 电子签名 电子证据 法律效力
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电子束纳米分辨率光刻 被引量:1
19
作者 顾宁 鲁武 陆祖宏 《东南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 1994年第2期95-102,共8页
本文侧重分析电子束纳米光刻中的若干限制因素,包括电子光学系统中的象差、电子束与抗蚀剂的相互作用(散射与二次电子效应)、衬底条件等,并对已用于进行纳米分辨率电子束光刻中的一些方法进行了归纳,讨论了其应用前景.
关键词 电子束光刻 纳米光刻 纳米分辨率
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纳米尺度多晶硅微结构刻蚀研究 被引量:1
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作者 李悦 田大宇 +2 位作者 李静 刘鹏 戴晓涛 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2012年第6期413-416,共4页
以HBr作为刻蚀气体,采用ICP金属刻蚀系统对气体流量、刻蚀压力、离子源功率、偏压功率等工艺参数与刻蚀速率、刻蚀选择比和侧壁垂直度的对应关系进行了大量工艺实验。借助理论分析和工艺条件的优化,开发出一套可满足制备侧壁垂直度的纳... 以HBr作为刻蚀气体,采用ICP金属刻蚀系统对气体流量、刻蚀压力、离子源功率、偏压功率等工艺参数与刻蚀速率、刻蚀选择比和侧壁垂直度的对应关系进行了大量工艺实验。借助理论分析和工艺条件的优化,开发出一套可满足制备侧壁垂直度的纳米尺度多晶硅密排线结构的优化刻蚀工艺技术。实验结果表明:当采用900 W的离子源功率、11 W的偏压功率、25 cm3/min流量的HBr气体和3 mTorr(1 mTorr=0.133 3 Pa)刻蚀压力的工艺条件时,多晶硅与二氧化硅的刻蚀选择比大于100∶1;在保持离子源功率、偏压功率、气体流量不变的条件下,单纯提高反应腔工艺压力则会大幅提高上述选择比值,同时损失多晶硅和二氧化硅的刻蚀均匀性;HBr气体流量的变化在上述功率及反应腔工艺压力的工艺范围内,对多晶硅与二氧化硅的刻蚀选择比和多晶硅刻蚀的形貌特征均无显著影响。采用上述优化的刻蚀工艺条件,配合纳米电子束光刻技术成功得到多晶硅纳米尺度微结构,其最小线宽为40 nm。 展开更多
关键词 ICP刻蚀系统 刻蚀速率 选择比 刻蚀形貌 电子束光刻 纳米尺度多晶硅线条
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