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EMISSION MSSBAUER SPECTROSCOPY OF NiTi SHAPEMEMORY ALLOY
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作者 Y G. Li and CS. Xue (Institute of Semiconductor Research, Shandong Normal University, Jinan 250014, China)G.L. Zhang(Shanghai Institute of Nuclear Research, The Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China ) 《Acta Metallurgica Sinica(English Letters)》 SCIE EI CAS CSCD 1999年第6期0-0,0,共3页
The emission Mssbauer Spectroscopy in cotnbination with transmission electron microscope was used to study NiTi shape memory alloy. The damage and the precipitated phase in NiTi alloy have heen discussed.
关键词 emission m■ssbauer spectroscopy shape memory alloy
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元素成分对磁控溅射TiNi薄膜结构性能的影响及其控制 被引量:3
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作者 刘二强 鲍明东 +1 位作者 田林海 唐宾 《电镀与涂饰》 CAS CSCD 北大核心 2009年第7期31-34,共4页
描述了TiNi形状记忆合金薄膜的一般特性及成分对其组织及性能的重要影响。磁控溅射法是应用最为广泛的制备TiNi基形状记忆薄膜的方法之一,但由于Ti与Ni的溅射产额不同,很难得到理想成分的TiNi薄膜。目前主要采用改变工艺参数或靶材成分... 描述了TiNi形状记忆合金薄膜的一般特性及成分对其组织及性能的重要影响。磁控溅射法是应用最为广泛的制备TiNi基形状记忆薄膜的方法之一,但由于Ti与Ni的溅射产额不同,很难得到理想成分的TiNi薄膜。目前主要采用改变工艺参数或靶材成分补偿的方法控制薄膜的成分。借鉴反应磁控溅射沉积薄膜时成分控制方法,提出了一种利用溅射靶表面光发射谱的控制技术,理论上可以达到精确检测或控制TiNi形状记忆合金薄膜成分的目的。 展开更多
关键词 钛镍 形状记忆合金 薄膜 成分 控制 光发射谱
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NiTi形状记忆合金的发射穆斯堡尔谱研究 被引量:2
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作者 李玉国 张桂林 +4 位作者 胡文祥 刘文宏 徐峰 王景成 邵自昌 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 1994年第1期20-24,共5页
用发射穆斯堡尔谱学结合其他研究手段分析研究了NiTi形状记忆合金经不同温度、等时(30min)退火及经700℃水淬和500℃时效后的缺陷、析出相等微观结构的变化情况,并对近等比NiTi合金经700℃水淬和500℃时效... 用发射穆斯堡尔谱学结合其他研究手段分析研究了NiTi形状记忆合金经不同温度、等时(30min)退火及经700℃水淬和500℃时效后的缺陷、析出相等微观结构的变化情况,并对近等比NiTi合金经700℃水淬和500℃时效后能具有好的记忆性能的原因给出了解释。 展开更多
关键词 形状记忆合金 相变 穆斯堡尔谱
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