期刊文献+
共找到10篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
Epitaxial Growth of YSZ as Buffer Layers for High Tc Superconducting Films on Si Substrates 被引量:1
1
作者 Qian Wensheng Liu Rong Wei Tongli(Milroelectronics Center, Southeast University, Nanjing 210018) 《Journal of Southeast University(English Edition)》 EI CAS 1996年第1期37-41,共5页
Epitaxial films of Yttria Stabilized Zirconia(YSZ) were successfully grown on Si substrates by RF magnetron sputter, the atomic structure and the lattice mismatch of YSZ/Si were presented. Auger electron spectros... Epitaxial films of Yttria Stabilized Zirconia(YSZ) were successfully grown on Si substrates by RF magnetron sputter, the atomic structure and the lattice mismatch of YSZ/Si were presented. Auger electron spectroscopy, X ray diffraction and scanning 展开更多
关键词 epitaxial growth yttria stabilized zirconia silicon
下载PDF
Industrial growth of yttria-stabilized cubic zirconia crystals by skull melting process 被引量:4
2
作者 徐家跃 雷秀云 +4 位作者 蒋新 何庆波 房永征 张道标 何雪梅 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第6期971-974,共4页
We reported the development of a Ф100 cm growth apparatus for skull melting growth of yttria-stabilized cubic zirconia(YSZ) crystals and more than 1000 kg crystals have been grown in the furnace each time.The growth ... We reported the development of a Ф100 cm growth apparatus for skull melting growth of yttria-stabilized cubic zirconia(YSZ) crystals and more than 1000 kg crystals have been grown in the furnace each time.The growth conditions were optimized and the structure of the as-grown crystals was characterized by X-ray diffraction.The transmittance of 15 mol.% yttria-stabilized cubic zirconia crystal was nearly 80% in the range of 400–1600 nm.The refractive indices were measured and fitted the Sellmeier equation whi... 展开更多
关键词 yttria-stabilized cubic zirconia crystal growth skull melting process rare earths
下载PDF
冷坩埚法生长5 t批量钇稳定立方氧化锆晶体
3
作者 徐家跃 蒋新 +1 位作者 陈宇轩 申慧 《应用技术学报》 2024年第4期385-389,共5页
钇稳定立方氧化锆(YSZ)晶体是重要的人工宝石材料,具有折射率高、色散强、硬度高、理化性能稳定等优点。由于YSZ熔点高达2715℃,通常采用冷坩埚法生长。单炉产量是其技术先进性的主要指标,也是降低生产成本的主要途径。为了提高产率,研... 钇稳定立方氧化锆(YSZ)晶体是重要的人工宝石材料,具有折射率高、色散强、硬度高、理化性能稳定等优点。由于YSZ熔点高达2715℃,通常采用冷坩埚法生长。单炉产量是其技术先进性的主要指标,也是降低生产成本的主要途径。为了提高产率,研制出超大功率冷坩埚生长炉,其功率达到160 kW,直径达到1.5 m,成功生长出单炉5 t YSZ宝石晶体,这是迄今为止国内外报道的最高单炉产率。 展开更多
关键词 钇稳定立方氧化锆 冷坩埚法 晶体生长 宝石
下载PDF
SiC晶须/Y-TZP(含Al_2O_3)复合材料力学性能的研究 被引量:5
4
作者 张玉峰 郭景坤 +1 位作者 黄校先 李包顺 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第5期393-397,共5页
通过SiC晶须对Y-TZP陶瓷材料的补强,发现:在SiC晶须分散均匀的情况下,尽管SiC晶须的体积含量高达30%,复合材料中单斜相氧化锆的含量并不高,氧化锆的应力诱导相变仍是复合材料的主要增韧机理,复合材料的力学性能并不随着SiC晶须含量的... 通过SiC晶须对Y-TZP陶瓷材料的补强,发现:在SiC晶须分散均匀的情况下,尽管SiC晶须的体积含量高达30%,复合材料中单斜相氧化锆的含量并不高,氧化锆的应力诱导相变仍是复合材料的主要增韧机理,复合材料的力学性能并不随着SiC晶须含量的增加而降低。在复合材料中加入氧化铝后,发现少量的氧化铝加入有利于复合材料力学性能的提高。在氧化铝重量含量为6%,SiC晶须体积含量为20%时,复合材料的强度和断裂韧性分别为:1329±13MPa和14.8±0.7MPa·m^(1/2)。但是,过多的氧化铝加入又会使复合材料的力学性能出现下降趋势。SiC晶须加入后,复合材料的高温强度和抗热震性都有明显改善。 展开更多
关键词 碳化硅 晶须 氧化铝 复合材料 陶瓷
下载PDF
煅烧方式对草酸盐前驱体制备氧化锆性能的影响 被引量:3
5
作者 刘继进 陈宗璋 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第11期1833-1838,共6页
采用非线性加热法煅烧锆、钇的草酸盐前驱体,制备了8%Y2O3(摩尔分数)稳定ZrO2(8YSZ)超细粉末。研究了金属离子与草酸的摩尔比及热处理方法对8YSZ的晶体结构、晶粒大小、形貌、比表面积、粒子团聚的影响。通过改变不同温度范围的加热速... 采用非线性加热法煅烧锆、钇的草酸盐前驱体,制备了8%Y2O3(摩尔分数)稳定ZrO2(8YSZ)超细粉末。研究了金属离子与草酸的摩尔比及热处理方法对8YSZ的晶体结构、晶粒大小、形貌、比表面积、粒子团聚的影响。通过改变不同温度范围的加热速度来优化草酸盐前驱体热分解工艺。采用优化前驱体热分解工艺即非线性加热法,于600~700℃煅烧得到的粉末为等轴晶形,粒子大小在90~100nm之间,粒子间仅有较弱的软团聚。煅烧过程晶粒生长动力学的研究表明:当煅烧温度高于700℃时,晶粒生长的质量传输受晶粒扩散过程控制;低于700℃时,晶粒生长的质量传输由表面扩散过程控制。 展开更多
关键词 钇稳定氧化锆 非线性加热法 草酸盐前驱体 晶粒生长
下载PDF
Al_2O_3对9YSZ固体电解质烧结及晶粒长大行为的影响
6
作者 刘涛 李琳 +1 位作者 于景坤 徐吉林 《东北大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第8期1137-1140,共4页
采用化学共沉淀法制备了掺杂Al2O3的9%(摩尔分数)钇稳定氧化锆固体电解质(9YSZ).利用XRD计算了Al2O3掺杂9YSZ的晶格参数,研究了Al2O3在9YSZ中的固溶度,考察了Al2O3掺杂量对9YSZ烧结性能和晶粒长大行为的影响.研究结果表明,当Al2O3掺杂... 采用化学共沉淀法制备了掺杂Al2O3的9%(摩尔分数)钇稳定氧化锆固体电解质(9YSZ).利用XRD计算了Al2O3掺杂9YSZ的晶格参数,研究了Al2O3在9YSZ中的固溶度,考察了Al2O3掺杂量对9YSZ烧结性能和晶粒长大行为的影响.研究结果表明,当Al2O3掺杂量增加到0.48%(质量分数)时,9YSZ晶格参数从0.514 08 nm降低到0.513 51 nm,继续掺杂Al2O3,则晶格参数不变,说明Al2O3在9YSZ中的固溶度为0.48%(质量分数).掺杂Al2O3能提高9YSZ的烧结性能,促使晶粒长大,使9YSZ更加致密. 展开更多
关键词 AL2O3 掺杂量 钇稳定氧化锆 晶格参数 晶粒长大 致密化
下载PDF
SiC_w/莫来石和SiC_w/Y-TZP/莫来石复合材料的力学性能与显微结构 被引量:6
7
作者 洪金生 黄校先 +1 位作者 郭景坤 李包顺 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第5期410-416,共7页
以莫来石为基体,SiC晶须(SiC_w)和Y-TZP(Y_2O_3稳定的四方ZrO_2多晶)为两种补强剂,采用热压烧结工艺,制备SIC_w/莫来石和SIC_w/Y-TZP/英来石复合材料。研究了复合材料的力学性能与显微结构,并对强化增韧机制进行了分析。结果表明,SiC晶... 以莫来石为基体,SiC晶须(SiC_w)和Y-TZP(Y_2O_3稳定的四方ZrO_2多晶)为两种补强剂,采用热压烧结工艺,制备SIC_w/莫来石和SIC_w/Y-TZP/英来石复合材料。研究了复合材料的力学性能与显微结构,并对强化增韧机制进行了分析。结果表明,SiC晶须补强莫来石,可以改善其强度和断裂韧性。若SiC晶须和Y-TZP共同补强英来石,则可以进一步提高其强度和断裂韧性。晶须引起裂纹偏转,晶须拔出以及由ZrO_2相变引起的微裂纹增韧是该复合材料的主要增韧机制。SiC晶须和Y-TZP两种补强剂的共同作用,对莫来石强度和断裂韧性的提高具有叠加或协同效应。 展开更多
关键词 莫来石 碳化硅 晶须 陶瓷复合材料
下载PDF
Y-TZP陶瓷晶粒生长的控制 被引量:5
8
作者 徐跃萍 郭景坤 +1 位作者 黄校先 李包顺 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第4期360-364,共5页
为了获得超细晶粒的Y-TZP陶瓷,制备了无团聚体的素坯,研究了在烧结过程中的晶粒生长和气孔变化的规律。在烧结初期,晶粒与气孔同时增大;在烧结中期,气孔的表面扩散是晶粒生长的主要机理;烧结后期,随着烧结温度的提高,晶界扩散是晶粒生... 为了获得超细晶粒的Y-TZP陶瓷,制备了无团聚体的素坯,研究了在烧结过程中的晶粒生长和气孔变化的规律。在烧结初期,晶粒与气孔同时增大;在烧结中期,气孔的表面扩散是晶粒生长的主要机理;烧结后期,随着烧结温度的提高,晶界扩散是晶粒生长的主要机理。实验结果进一步表明:在1250℃,2h的烧结条件下,可获得晶粒尺寸仅为100~150nm的Y-TZP陶瓷。 展开更多
关键词 晶氧化锆 陶瓷 晶粒生长 烧结
下载PDF
纳米8YSZ粉末不同温度下烧结行为研究
9
作者 淳道勇 汪瑞军 +3 位作者 由晓明 何箐 邹晗 吕玉芬 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第9期118-125,共8页
目的 通过关注纳米8YSZ粉末在不同温度下烧结过程中的晶粒长大行为及相结构组成变化,获得纳米8YSZ粉末的高温稳定性,防止高温烧结导致纳米8YSZ涂层性能明显衰减,致使涂层在正常服役过程中过早失效。方法 采用共沉淀工艺合成低杂质含量的... 目的 通过关注纳米8YSZ粉末在不同温度下烧结过程中的晶粒长大行为及相结构组成变化,获得纳米8YSZ粉末的高温稳定性,防止高温烧结导致纳米8YSZ涂层性能明显衰减,致使涂层在正常服役过程中过早失效。方法 采用共沉淀工艺合成低杂质含量的8YSZ纳米粉末,经过低温煅烧预处理后,在900~1200℃温度区间进行3~12 h的烧结。通过X射线衍射仪和扫描电子显微镜对纳米颗粒进行物相结构和形貌分析,根据Scherrer公式计算热处理后的颗粒平均晶粒尺寸,采用Arrhenius公式得到晶粒生长活化能,进而确定晶粒的生长机制。结果 经过低温煅烧预处理后,粉末绝大多数仍然保持非晶态结构,经过高温热处理后,粉末均完成了晶态转化,相结构基本为单一四方相。温度为900~1100℃时,晶粒生长的活化能为42.638 k J/mol;温度为1100~1200℃时,晶粒生长的活化能为3.849 k J/mol。结论 高温热处理后,纳米8YSZ粉末物相结构为单一四方相,可以保持高温稳定性,防止涂层性能明显衰减。温度为900~1200℃时,晶粒生长机制以表面扩散为主的聚合生长。 展开更多
关键词 纳米8YSZ粉末 高温热处理 晶粒尺寸 相转变 晶粒生长 生长活化能
下载PDF
超高温氧化物晶体及其生长技术 被引量:3
10
作者 徐家跃 周鼎 李志超 《应用技术学报》 2017年第4期283-288,共6页
超高温氧化物晶体,比如钇稳定氧化锆、氧化镁、氧化铀以及部分稀土氧化物等,熔点往往高达2 300℃以上。它们在激光、超导、核燃料等领域具有重要应用,但在生长方法、坩埚材料、温度监测、温场控制等方面面临多重挑战。本文总结了目前少... 超高温氧化物晶体,比如钇稳定氧化锆、氧化镁、氧化铀以及部分稀土氧化物等,熔点往往高达2 300℃以上。它们在激光、超导、核燃料等领域具有重要应用,但在生长方法、坩埚材料、温度监测、温场控制等方面面临多重挑战。本文总结了目前少数几种超高温氧化物晶体生长研究进展,分析了各种生长技术的优缺点,探讨了超高温氧化物晶体生长的前景。 展开更多
关键词 氧化物晶体 晶体生长 钇稳定氧化锆 冷坩埚技术
下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部