4000TPI光刻伺服盘伺服录写设备的研究

分析了光刻伺服盘的光刻图形、伺服码型及伺服录写特征，并设计了４０００ＴＰＩ光刻面伺服系统的伺服录写设备．分析研究表明，光刻伺服系统能提高磁盘道密度。

用于光刻伺服盘电路调试的信号仿真器的设计

为满足光刻伺服磁盘驱动器电路调试的需要,本文设计了一种信号仿真器,由任意波形发生器和磁盘信号源库在相关软件的辅助下来仿真较为复杂的各类磁盘驱动器信号。同传统的函数发生器或用硬件来实现的信号仿真手段相比,其更具有适应性和灵活性。文中详细分析了仿真器的硬件结构和软件构造,并介绍了它在光刻伺服磁盘驱动器电路调试中的实际应用。

光刻伺服盘磁头读出信噪比分析

本文叙述了光刻伺服盘采用分离磁道刻写方法对信噪比的影响，该方法在磁盘记录区采用导磁材料，非记录区采用非导磁材料。这样一种非连续的记录磁介质，有利于道密度的提高，增大了磁盘信息存储容量，减少了道间串扰，提高了磁头读出的信噪比［以Ｓ／Ｎ表示］。

4000TPI光刻面伺服系统的高速寻道机理

光刻伺服盘是一种新的磁头伺服定位技术［１］，通过对４０００ＴＰＩ光刻面伺服系统的光刻伺服图形结构的分析，本文提出了一种简单可靠的磁头过道脉冲检测方式，可显著提高磁头寻道速度，保证磁头在高道密度下高速寻道。

利用高频溅射刻蚀光刻伺服盘工艺参数的确定

光刻伺服盘是一种新的磁头伺服定位技术。本文分析了利用高频溅射法刻蚀光刻伺服盘的刻蚀机理,并对主要的刻蚀参数如溅射电压、气体压力等对刻蚀精度的影响作了比较详细的讨论。

光刻伺服磁盘两级定位系统位置传感器设计

从理论上对圆光栅的特性进行了分析及精确计算，设计出了光刻伺服磁盘两级定位系统位置传感器的执行机构及检测电路。该传感器既可以应用于实际的磁盘定位系统，也可以做进一步的改进，成为磁盘定位系统的专用性能测试装置。

光刻伺服盘检测

光刻伺服盘系统作为新一代的磁盘伺服定位技术研究成功,通过检测实验,其质量已达到设计要求.

光刻伺服盘媒体微细加工技术

阐述了光刻伺服盘媒体微细加工实验过程，分析了刻蚀工艺中影响磁盘光刻图形的不利因素，实践证明利用半导体微细加工技术光刻伺服盘，能大幅度提高磁道密度，增加磁盘驱动器的容量。