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Selective separation of copper by membrane-electro-winning and its application in etchant recycling 被引量:4
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作者 LI De-liang CHEN Ren-hua 《Journal of Central South University of Technology》 2005年第z1期94-97,共4页
A close-looped process based on the membrane separation and electrolysis is proposed to regenerate the copper etchant in-situ, recover copper on-site and reuse it. It is characterized by selective separation of copper... A close-looped process based on the membrane separation and electrolysis is proposed to regenerate the copper etchant in-situ, recover copper on-site and reuse it. It is characterized by selective separation of copper from the spent etchant, which is accomplished by the ion exchange membrane-electrowinning, and at the same time the other components useful for etching are reclaimed. The experiments show that at least 90 % of electricity efficiency for copper removal can be maintained and the optimum condition for membrane-electrowinning is: cell voltage 2 -2.5 V, operating temperature 40 - 50 ℃ and current density 500 - 1 500 A/m2. The regenerated etchant can be suc cessfully reused to etch copper after adjusting its composition to the normal range, and its recycling property is as good as that of the fresh etchant after 50 times of use-disposal-regeneration cycles. 展开更多
关键词 copper etchant membrane-electrowinning(M-E) RECYCLE SELECTIVE separation
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Chlorine-free emission disposal of spent acid etchant in a three-compartment ceramic membrane reactor
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作者 Fanglu Yuan Lele Cui +1 位作者 Peipei Ding Wenheng Jing 《Chinese Journal of Chemical Engineering》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第1期271-278,共8页
Electrochemical technologies for the on-site treatment of spent acid etchant have received great attention due their ease of operation and economic benefits. On the other hand, a large amount of Cl2 is generated durin... Electrochemical technologies for the on-site treatment of spent acid etchant have received great attention due their ease of operation and economic benefits. On the other hand, a large amount of Cl2 is generated during the electrolysis process, which leads to potential environmental risks. In the present work, a novel threecompartment ceramic membrane flow reactor, including a cathode chamber, an anode chamber, and a gas absorption chamber was developed. The three chambers were divided by an Al2O3 ceramic membrane and a breathable hydrophobic anode diffusion electrode(ADE). The Cl2 evolution onset potential of the ADE was increased to 1.19 V from 1.05 V of the graphite felt, effectively inhibiting the chlorine evolution reaction(CER).The anode-generated Cl2 diffused into the gas absorption chamber through the ADE and was eventually consumed by the H2O2 adsorbent. Cu could be recovered without emitting chlorine due to the special structure of reactor. The current efficiency of copper precipitation and cathode reduction from Cu2+to Cu+reached 97.7%at a working current of 150 m A. These results indicated that the novel membrane reactor had high potential for application in the copper recovery industry. 展开更多
关键词 SPENT ACID etchant CHLORINE evolution reaction Anode diffusion electrode Three-compartment reactor CERAMIC membrane
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六氟丁二烯的合成研究进展
3
作者 姜世楠 吕随强 +4 位作者 罗文键 商洪涛 谢晓东 邵野 史紫微 《低温与特气》 CAS 2024年第1期1-4,11,共5页
在大规模集成电路制程中,六氟丁二烯作为蚀刻剂使用。与传统蚀刻剂相比,六氟丁二烯蚀刻速率更快、选择性和深宽比更高、环境更友好。对六氟丁二烯的合成方法进行归纳和总结,为高纯六氟丁二烯的研发和生产提供参考。
关键词 六氟丁二烯 蚀刻剂 合成
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碱蚀剂缓蚀机理研究
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作者 陈龙 任浩铭 +3 位作者 肖传博 屈乐柱 陈颖 关志会 《有色金属加工》 CAS 2024年第2期48-52,共5页
配置高浓度碱低比例碱蚀剂、低浓度碱低比例碱蚀剂、高浓度碱高比例碱蚀剂和碱蚀剂失效后补加碱蚀剂的4组碱蚀溶液,对其进行溶铝试验,通过测量溶液Al^(3+)和NaOH的浓度、试验铝块的质量变化情况,研究碱蚀剂对溶铝速率的影响,并结合溶液... 配置高浓度碱低比例碱蚀剂、低浓度碱低比例碱蚀剂、高浓度碱高比例碱蚀剂和碱蚀剂失效后补加碱蚀剂的4组碱蚀溶液,对其进行溶铝试验,通过测量溶液Al^(3+)和NaOH的浓度、试验铝块的质量变化情况,研究碱蚀剂对溶铝速率的影响,并结合溶液颜色变化情况,分析碱蚀剂的缓蚀机理。结果表明,碱蚀剂的添加可以提高溶液中溶存铝上限,抑制溶液中NaAlO_(2)水解,间接降低溶液溶铝速率;耗铝量的增加会导致碱蚀剂失效;缓蚀剂失效后,溶液中会产生大量白色沉淀,NaOH浓度大幅度提高,Al^(3+)浓度大幅度降低,导致溶液溶铝速率提高,危害生产。 展开更多
关键词 碱蚀剂 碱蚀 阳极氧化 氧化前处理
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Improvement of silicon etching resolution using the confined etchant layer technique
5
作者 Zu, YB Xie, L +3 位作者 Tian, ZW Xie, ZX Mu, JQ Mao, BW 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 1997年第15期1318-1319,共2页
WHEN scanning electrochemical microscopy (SECM) with feedback mode is used to etchcertain surface, the etchant molecules generated at a microelectrode diffuse to the surface andreact therein with the surface species, ... WHEN scanning electrochemical microscopy (SECM) with feedback mode is used to etchcertain surface, the etchant molecules generated at a microelectrode diffuse to the surface andreact therein with the surface species, resulting in local etching pattern. It is noted that theetching resolution of SECM is dominantly determined by the size of the microelectrode.However, many experimental results have shown the significant influence of the lateral diffu-sion of etchant on the etching resolution. Therefore, a thin diffusion layer of the 展开更多
关键词 AS SECM Improvement of silicon etching resolution using the confined etchant layer technique CELT
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适用于珠光体钢丝微观组织观察的腐蚀剂探索
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作者 朱晨露 姚利丽 +2 位作者 周志嵩 柯增光 魏于博 《金属制品》 CAS 2023年第1期43-47,共5页
通过9种腐蚀剂方案的设计、试验,利用金相显微镜观察,研究了不同腐蚀剂对珠光体钢丝的腐蚀效果。结果表明:使用盐酸15 ml+硝酸5 ml+水100 ml,盐酸15 ml+硝酸5 ml+乙醇100 ml,体积分数为10%的盐酸酒精溶液和体积分数为30%的盐酸酒精溶液... 通过9种腐蚀剂方案的设计、试验,利用金相显微镜观察,研究了不同腐蚀剂对珠光体钢丝的腐蚀效果。结果表明:使用盐酸15 ml+硝酸5 ml+水100 ml,盐酸15 ml+硝酸5 ml+乙醇100 ml,体积分数为10%的盐酸酒精溶液和体积分数为30%的盐酸酒精溶液均可以获得较清晰的金相组织。但综合考虑腐蚀时间和腐蚀效果,推荐使用方案更优的盐酸15 ml+硝酸5 ml+水100 ml腐蚀剂。 展开更多
关键词 腐蚀剂 珠光体 钢丝 金相组织
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乙醇酸对牙釉质和牙本质进行酸蚀的研究进展
7
作者 林令康 朱松 《口腔医学研究》 CAS CSCD 北大核心 2023年第11期952-955,共4页
在树脂粘接修复的过程中,牙釉质和牙本质的表面处理是关键步骤。目前,传统酸蚀剂常用的磷酸是一种强酸,容易对牙本质造成侵蚀性脱矿,影响树脂-牙本质粘接界面的长期稳定性。近年来,有研究将乙醇酸作为一种替代酸蚀剂,本文将介绍乙醇酸... 在树脂粘接修复的过程中,牙釉质和牙本质的表面处理是关键步骤。目前,传统酸蚀剂常用的磷酸是一种强酸,容易对牙本质造成侵蚀性脱矿,影响树脂-牙本质粘接界面的长期稳定性。近年来,有研究将乙醇酸作为一种替代酸蚀剂,本文将介绍乙醇酸的应用背景和酸蚀原理,重点针对使用乙醇酸酸蚀牙釉质和牙本质的酸蚀效果及与传统磷酸酸蚀相比的优势做一综述,以期为后续的临床研究提供参考。 展开更多
关键词 乙醇酸 酸蚀剂 牙釉质 牙本质 粘接强度
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金属氧化物TFT工艺中铜/钛蚀刻液浓度控制体系研究 被引量:1
8
作者 赵辉 《光电子技术》 CAS 2023年第1期48-52,共5页
深入分析了铜钛刻蚀液的刻蚀机理,并对刻蚀液浓度的变化进行实验分析。在此基础上,通过实验完成了铜钛刻蚀液浓度变化模型曲线的研发,并提出了进行浓度控制的方法,实现了铜钛刻蚀液的稳定应用并极大地提高刻蚀液的使用寿命。研究为相关... 深入分析了铜钛刻蚀液的刻蚀机理,并对刻蚀液浓度的变化进行实验分析。在此基础上,通过实验完成了铜钛刻蚀液浓度变化模型曲线的研发,并提出了进行浓度控制的方法,实现了铜钛刻蚀液的稳定应用并极大地提高刻蚀液的使用寿命。研究为相关领域的生产和研发提供了一定的参考。 展开更多
关键词 金属氧化物 湿法刻蚀 铜/钛刻蚀液 浓度控制
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6R01T4铝合金手机背板材料晶粒显现方法的研究
9
作者 于宏 邵奎星 孙雯鑫 《轻合金加工技术》 CAS 2023年第8期39-45,共7页
12.5 mm厚的6R01T4铝合金手机背板材料进行晶粒度检测时,使用常用的化学浸蚀剂或阳极化覆膜方法制备的样品,再结晶的晶粒显现不完全,在检测时出现漏点的现象,得出的数据误差较大。通过反复试验研究,使用HF、HCL、H_(2)O的体积比为1∶1... 12.5 mm厚的6R01T4铝合金手机背板材料进行晶粒度检测时,使用常用的化学浸蚀剂或阳极化覆膜方法制备的样品,再结晶的晶粒显现不完全,在检测时出现漏点的现象,得出的数据误差较大。通过反复试验研究,使用HF、HCL、H_(2)O的体积比为1∶1∶11的浸蚀剂浸蚀210 s,再经阳极化覆膜后,制备出的样品能较完全显现晶粒,可保证晶粒度检测结果的准确性。 展开更多
关键词 6R01T4铝合金 浸蚀剂 阳极化 显微组织 偏光组织
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印制电路板酸性蚀刻废液的回收利用 被引量:20
10
作者 蒋玉思 张建华 +2 位作者 程华月 崔静 林恬盛 《化工环保》 CAS CSCD 北大核心 2009年第3期235-238,共4页
综述了酸性蚀刻废液的污染危害及处理现状,全面介绍了酸性蚀刻废液回收利用的方法。金属置换法、中和酸溶法方法简便、投资少;酸性蚀刻废液、碱性蚀刻废液自中和法制备碱式氯化铜经济、高效,是大型印制电路板制造企业回收利用蚀刻废液... 综述了酸性蚀刻废液的污染危害及处理现状,全面介绍了酸性蚀刻废液回收利用的方法。金属置换法、中和酸溶法方法简便、投资少;酸性蚀刻废液、碱性蚀刻废液自中和法制备碱式氯化铜经济、高效,是大型印制电路板制造企业回收利用蚀刻废液的优选方法;电解再生法不仅使蚀刻废液恢复原有的蚀刻效能,而且产出具有商业价值的铜,成为印制电路板制造企业的首选方法。 展开更多
关键词 印制电路板 酸性蚀刻液 回收 再生 综合利用
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Lix54-100从氨性蚀铜废液中萃取回收铜 被引量:14
11
作者 易筱筠 古国榜 贾宝琼 《化学研究与应用》 CAS CSCD 北大核心 2002年第6期755-757,共3页
Facts affect recovering copper from spent ammoniacal etchant by extraction using Lix 54-100 were analysised.Copper amount in spent etchant whose copper concentration reached 150g/l could decrease to the level of fresh... Facts affect recovering copper from spent ammoniacal etchant by extraction using Lix 54-100 were analysised.Copper amount in spent etchant whose copper concentration reached 150g/l could decrease to the level of fresh etchant in one or two stage,when phase ratio(O/A)was 2/1,and 80% Lix 54-100 was used as organic phase. 展开更多
关键词 氨性蚀铜废液 萃取 回收 Lix54-100 蚀刻废液 再生 印制线路板 废水处理
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印制电路板酸性蚀刻废液的膜电解再生 被引量:8
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作者 蒋玉思 黄奇书 +2 位作者 张建华 程华月 顾珩 《环境污染与防治》 CAS CSCD 北大核心 2011年第8期53-56,共4页
高度精细化线路和高层数印制电路板产量的增加,导致酸性蚀刻废液的排放量越来越大,对环境的负荷也随之增大。介绍了酸性蚀刻废液膜电解再生的基本原理,进行了中试规模的应用研究,并与其他电解再生方法进行技术与经济比较分析。结果表明... 高度精细化线路和高层数印制电路板产量的增加,导致酸性蚀刻废液的排放量越来越大,对环境的负荷也随之增大。介绍了酸性蚀刻废液膜电解再生的基本原理,进行了中试规模的应用研究,并与其他电解再生方法进行技术与经济比较分析。结果表明,在槽电压为5V、电解时间为2h的条件下,酸性蚀刻废液的氧化还原电位由480mV升至540mV,所得铜粉的纯度大于99%。电解再生能耗约为627kW.h/t(以废液计),盐酸消耗量为30L/t(以废液计)。膜电解方法再生酸性蚀刻废液是可行的,预计将具有广阔的发展前景。 展开更多
关键词 印制电路板 酸性蚀刻废液 膜电解 再生 铜粉
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镁合金表面微结构阵列的电化学微加工 被引量:5
13
作者 蒋利民 程泽宇 +3 位作者 杜楠 李维 田中群 田昭武 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第7期1307-1312,共6页
研究了镁合金的约束刻蚀微加工方法.通过对电解过程中电极表面氢离子浓度变化以及刻蚀体系对镁合金的腐蚀速率的测量与分析,对一些可能有刻蚀作用的刻蚀体系进行了研究.选用亚硝酸钠作为产生刻蚀剂(硝酸)的前驱体、氢氧化钠作为捕捉剂... 研究了镁合金的约束刻蚀微加工方法.通过对电解过程中电极表面氢离子浓度变化以及刻蚀体系对镁合金的腐蚀速率的测量与分析,对一些可能有刻蚀作用的刻蚀体系进行了研究.选用亚硝酸钠作为产生刻蚀剂(硝酸)的前驱体、氢氧化钠作为捕捉剂、少量硅酸钠作为缓蚀剂的约束刻蚀体系,使用具有规整三维微立方体点阵结构的模板,在金属镁表面加工出具有与模板互补特性的点阵微结构,复制加工的分辨率为亚微米级.并对刻蚀过程机理进行了探讨与分析. 展开更多
关键词 约束刻蚀剂层技术 三维微加工 电化学
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新型智能电化学微加工系统的研究 被引量:4
14
作者 刘品宽 孙立宁 +2 位作者 荣伟彬 蒋利民 田昭武 《高技术通讯》 EI CAS CSCD 2002年第6期83-87,共5页
约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术。本文根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点 ,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成 ,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发。利用研制的加工仪器 ,在半导体GaAs进行刻... 约束刻蚀剂层技术是三维超微图形复制加工的新型技术。本文根据约束刻蚀剂层技术的工艺特点 ,介绍了约束刻蚀剂层电化学微加工仪器的组成 ,讨论了具有微力传感的纳米级微定位系统的研究与开发。利用研制的加工仪器 ,在半导体GaAs进行刻蚀加工 ,复制出微孔阵列 ,其排列周期与模板的微锥阵列的排列周期吻合得很好 。 展开更多
关键词 智能电化学微加工系统 约束刻蚀剂层技术 压电陶瓷驱动器 半导体 三维超微图形复制加工技术
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微圆盘电极技术测定表面化学微加工时的约束刻蚀剂浓度分布 被引量:3
15
作者 汤儆 马信洲 +5 位作者 何辉忠 张力 林密旋 曲东升 丁庆勇 孙立宁 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2006年第4期507-512,共6页
利用微圆盘电极技术,测定了KBr、L-胱氨酸和硫酸组成的刻蚀溶液体系中Pt电极表面电化学氧化产生的刻蚀剂Br2浓度分布,为约束刻蚀剂层技术(CELT)中刻蚀体系的选择和优化提供更直观的依据.GaAs表面CELT微加工实验证明了用微圆盘电极测得... 利用微圆盘电极技术,测定了KBr、L-胱氨酸和硫酸组成的刻蚀溶液体系中Pt电极表面电化学氧化产生的刻蚀剂Br2浓度分布,为约束刻蚀剂层技术(CELT)中刻蚀体系的选择和优化提供更直观的依据.GaAs表面CELT微加工实验证明了用微圆盘电极测得的表面刻蚀剂的浓度分布趋势与微加工实验所得到的结果一致. 展开更多
关键词 约束刻蚀剂层技术 微圆盘电极 L-胱氨酸 GAAS 浓度分布
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PCB行业环境治理之技术需求 被引量:8
16
作者 秦琦 宋乾武 +4 位作者 吴兆晴 姜萍 代晋国 白璐 王红雨 《环境工程技术学报》 CAS 2012年第5期456-460,共5页
国家对工业行业节能减排的要求越来越严格,印制线路板(printed circuit board,PCB)行业如何更好地发展,首先要解决其环境治理问题。分析了PCB行业的主要污染来源及治理现状,即PCB行业废水、蚀刻废液、含铜污泥三大方面的污染治理现状。... 国家对工业行业节能减排的要求越来越严格,印制线路板(printed circuit board,PCB)行业如何更好地发展,首先要解决其环境治理问题。分析了PCB行业的主要污染来源及治理现状,即PCB行业废水、蚀刻废液、含铜污泥三大方面的污染治理现状。提出了该行业环境治理的技术需求,包括废水处理方面的含络合铜废水处理、中小型PCB企业废水治理、PCB行业废水深度处理及回用技术需求;蚀刻废液的再生循环处理技术需求;含铜污泥的资源化、稳定化及无害化处理技术需求。为该行业如何更好地解决环境问题和健康发展提供建议。 展开更多
关键词 络合铜 蚀刻废液 污泥处置
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金属铜表面的三维齿状图形的化学微加工 被引量:6
17
作者 刘柱方 蒋利民 +4 位作者 汤儆 刘品宽 孙立宁 田中群 田昭武 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2004年第3期227-230,共4页
运用约束刻蚀剂层技术 (CELT)在金属铜 (Cu)表面实现了三维微图形加工 ,取得成功的关键因素在于寻找到能对Cu进行有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系。采用规整的三维齿状结构为模板 ,在Cu表面得到了与齿状结构模板互补的三维微结构。采... 运用约束刻蚀剂层技术 (CELT)在金属铜 (Cu)表面实现了三维微图形加工 ,取得成功的关键因素在于寻找到能对Cu进行有效CELT加工的化学刻蚀和捕捉体系。采用规整的三维齿状结构为模板 ,在Cu表面得到了与齿状结构模板互补的三维微结构。采用扫描电子显微镜 (SEM )和原子力显微镜 (AFM )对所刻蚀图案进行表征 ,证实CELT可用于金属表面三维微图形的刻蚀加工。 展开更多
关键词 约束刻蚀剂层技术(CELT) 金属铜 三维微加工 化学刻蚀
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约束刻蚀剂层技术对金属铝的微结构加工研究 被引量:6
18
作者 蒋利民 黄选民 +1 位作者 田中群 田昭武 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第8期1540-1544,共5页
采用约束刻蚀剂层技术,以亚硝酸钠为先驱物,通过电化学氧化产生刻蚀剂(硝酸)刻蚀铝,并以NaOH为捕捉剂,在电极模板上形成约束刻蚀剂层.在金属铝表面加工出梯型槽微结构,加工分辨率约为500 nm.通过测量表面氢离子浓度,对捕捉剂的约束效果... 采用约束刻蚀剂层技术,以亚硝酸钠为先驱物,通过电化学氧化产生刻蚀剂(硝酸)刻蚀铝,并以NaOH为捕捉剂,在电极模板上形成约束刻蚀剂层.在金属铝表面加工出梯型槽微结构,加工分辨率约为500 nm.通过测量表面氢离子浓度,对捕捉剂的约束效果进行了分析. 展开更多
关键词 约束刻蚀剂层技术 微机电系统 微加工 电化学
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不同类型GaAs上应用约束刻蚀剂层技术进行电化学微加工 被引量:2
19
作者 汤儆 王文华 +1 位作者 庄金亮 崔晨 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2009年第8期1671-1677,共7页
应用约束刻蚀剂层技术(CELT)对GaAs进行电化学微加工.研究了刻蚀溶液体系中各组成的浓度比例、GaAs类型、掺杂以及阳极腐蚀过程对GaAs刻蚀加工过程的影响.循环伏安实验表明,Br-可以通过电化学反应生成Br2作为刻蚀剂,L-胱氨酸可作为有效... 应用约束刻蚀剂层技术(CELT)对GaAs进行电化学微加工.研究了刻蚀溶液体系中各组成的浓度比例、GaAs类型、掺杂以及阳极腐蚀过程对GaAs刻蚀加工过程的影响.循环伏安实验表明,Br-可以通过电化学反应生成Br2作为刻蚀剂,L-胱氨酸可作为有效的捕捉剂.CELT中刻蚀剂层被紧紧束缚于模板表面,模板和工件之间的距离小于刻蚀剂层的厚度时,刻蚀剂可以对GaAs进行加工.利用表面具有微凸半球阵列的导电模板,可以在不同类型GaAs上加工得到微孔阵列.实验结果表明:在相同刻蚀条件下,GaAs的加工分辨率与刻蚀体系中各组分的浓度比例有关,刻蚀结构的尺寸随着刻蚀剂与捕捉剂浓度比的增加而增大;在加工过程中,p-GaAs相对于n-GaAs和无掺杂GaAs受到阳极氧化过程的影响较为显著,p-GaAs表面易生成氧化物层,影响电化学微加工过程.X射线光电子能谱(XPS)和极化曲线实验也证明了这一点. 展开更多
关键词 阳极溶解 砷化镓 约束刻蚀剂层技术 刻蚀剂 捕捉剂
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砷捕捉刻蚀剂反应速率常数研究 被引量:3
20
作者 罗瑾 苏连永 +2 位作者 吴金添 林仲华 田昭武 《电化学》 CAS CSCD 1995年第3期270-273,共4页
采用约束刻蚀剂层技术(CELT)有可能实现纳米级的超微加工目的 ̄[1,2]。约束刻蚀层形成的方法之一是:通过电化学反应在模板表面上产生刻蚀剂,其在向外扩散过程中即与其它未有刻蚀作用的溶液组分发生快速均相化学反应,从而... 采用约束刻蚀剂层技术(CELT)有可能实现纳米级的超微加工目的 ̄[1,2]。约束刻蚀层形成的方法之一是:通过电化学反应在模板表面上产生刻蚀剂,其在向外扩散过程中即与其它未有刻蚀作用的溶液组分发生快速均相化学反应,从而使刻蚀剂失去活性,刻蚀剂的扩散层厚度可约束在紧靠模板的范围内。而CELT技术则取决于产生能对特定材料具有高度腐蚀性的腐蚀剂和具有合理的清除反应体系;象强氧化剂溴,邻菲绕啉铁(Ⅲ)和过氧化氢等均可作为刻蚀剂,Bardetal ̄[3]等研究者借助扫描电化学显微镜(SECM)通过电化学产生的溴和邻菲绕啉铁(Ⅲ)直接来刻蚀进行微加工,但未采用约束刻蚀层技术,所刻的线条较宽。本文研究溴和邻菲绕啉铁(Ⅲ)的均相捕捉反应速率常数,为利用约束刻蚀层技术进行微加工打下必要的基础。 展开更多
关键词 反应速度常数 刻蚀剂 邻菲绕啉铁
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