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Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition of Diamond Films on Silicon From Ethanol and Hydrogen 被引量:3
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作者 马志斌 满卫东 +1 位作者 汪建华 王传新 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2003年第2期1735-1741,共7页
Diamond films with very smooth surface and good optical quality have been deposited onto silicon substrate using microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) from a gas mixture of ethanol and hydrogen at a low s... Diamond films with very smooth surface and good optical quality have been deposited onto silicon substrate using microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD) from a gas mixture of ethanol and hydrogen at a low substrate temperature of 450 ℃. The effects of the substrate temperature on the diamond nucleation and the morphology of the diamond film have been investigated and observed with scanning electron microscopy (SEM). The microstructure and the phase of the film have been characterized using Raman spectroscopy and X-ray diffraction (XRD). The diamond nucleation density significantly decreases with the increasing of the substrate temperature. There are only sparse nuclei when the substrate temperature is higher than 800 ℃ although the ethanol concentration in hydrogen is very high. That the characteristic diamond peak in the Raman spectrum of a diamond film prepared at a low substrate temperature of 450 ℃ extends into broadband indicates that the film is of nanophase. No graphite peak appeare 展开更多
关键词 diamond film microwave plasma chemical vapor deposition ethanol
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Effective parameters on diameter of carbon nanotubes by plasma enhanced chemical vapor deposition 被引量:1
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作者 Kang Young JEONG Hyun Kyung JUNG Hyung Woo LEE 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2012年第S3期712-716,共5页
The effective parameters on the diameter of carbon nanotubes (CNTs) by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) were presented.Among lots of influential parameters,the effects of the catalytic film thickness ... The effective parameters on the diameter of carbon nanotubes (CNTs) by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) were presented.Among lots of influential parameters,the effects of the catalytic film thickness and the pretreatment plasma power on the growth of CNTs were investigated.The results show that the size of catalytic islands increases by increasing the thickness of catalytic layer,but the density of CNTs decreases.The pretreatment duration time of 30 s is the optimal condition for growing CNTs with about 50 nm in diameter.By increasing the pretreatment plasma power,the diameter of CNTs decreases gradually.However,the diameter of CNTs does not change drastically from 80 to 120 W.The uniformly grown CNTs with the diameter of 50 nm are obtained at the pretreatment plasma power of 100 W. 展开更多
关键词 carbon NANOTUBES catalytic film thickness PRETREATMENT PLASMA power PLASMA enhanced chemical vapor deposition
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Effect of Gas Sources on the Deposition of Nano-Crystalline Diamond Films Prepared by Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 被引量:1
3
作者 翁俊 熊礼威 +2 位作者 汪建华 满卫东 陈冠虎 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第6期761-764,共4页
Nano-crystalline diamond (NCD) films were deposited on silicon substrates by a microwave plasma enhanced chemical vapor deposition (MPCVD) reactor in C2H5OH/H2 and CH4/H2/O2 systems, respectively, with a constant ... Nano-crystalline diamond (NCD) films were deposited on silicon substrates by a microwave plasma enhanced chemical vapor deposition (MPCVD) reactor in C2H5OH/H2 and CH4/H2/O2 systems, respectively, with a constant ratio of carbon/hydrogen/oxygen. By means of atomic force microscopy (AFM) and X-ray diffraction (XRD), it was shown that the NCD films deposited in the C2H5OH/H2 system possesses more uniform surface than that deposited in the CH4/H2/O2 system. Results from micro-Raman spectroscopy revealed that the quality of the NCD films was different even though the plasmas in the two systems contain exactly the same proportion of elements. In order to explain this phenomenon, the bond energy of forming OH groups, energy distraction in plasma and the deposition process of NCD films were studied. The experimental results and discussion indicate that for a same ratio of carbon/hydrogen/oxygen, the C2H5OH/H2 plasma was beneficial to deposit high quality NCD films with smaller average grain size and lower surface roughness. 展开更多
关键词 nano-crystalline diamond thin film chemical vapor deposition gas source ethanol
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Formation and Transport of Atomic Hydrogen in Hot-Filament Chemical Vapor Deposition Reactors
4
作者 XueguiQI ZeshaoCHEN GuanzhongWANG 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2003年第3期235-239,共5页
In this paper we focus on diamond film hot-filament chemical vapor deposition reactors where the only reactant is hydrogen so as to study the formation and transport of hydrogen atoms. Analysis of dimensionless number... In this paper we focus on diamond film hot-filament chemical vapor deposition reactors where the only reactant is hydrogen so as to study the formation and transport of hydrogen atoms. Analysis of dimensionless numbers for heat and mass transfer reveals that thermal conduction and diffusion are the dominant mechanisms for gas-phase heat and mass transfer, respectively. A simplified model has been established to simulate gas-phase temperature and H concentration distributions between the filament and the substrate. Examination of the relative importance of homogeneous and heterogeneous production of H atoms indicates that filament-surface decomposition of molecular hydrogen is the dominant source of H and gas-phase reaction plays a negligible role. The filament-surface dissociation rates of H2 for various filament temperatures were calculated to match H-atom concentrations observed in the literature or derived from power consumption by filaments. Arrhenius plots of the filament-surface hydrogen dissociation rates suggest that dissociation of H2 at refractory filament surface is a catalytic process, which has a rather lower effective activation energy than homogeneous thermal dissociation. Atomic hydrogen, acting as an important heat transfer medium to heat the substrate, can freely diffuse from the filament to the substrate without recombination. 展开更多
关键词 Hot-filament chemical vapor deposition (HFCVD) Diamond film Atomic hydrogen catalytic dissociation Transport
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Large-scale industrial manufacturing of carbon nanotubes in a continuous inclined mobile-bed rotating reactor via the catalytic chemical vapor deposition process
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作者 Sophie L. Pirard Sigrid Douven Jean-Paul Pirard 《Frontiers of Chemical Science and Engineering》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第2期280-289,共10页
这篇评论文章向工业生产从实验室规模经由催化化学蒸汽免职为碳 nanotubes (CNT ) 的连续生产汇报进程的设计,开发和确认的不同的步。这个过程作为碳来源基于一个连续使倾向的活动床的旋转反应堆和很活跃的催化剂使用甲烷或乙烯。当模... 这篇评论文章向工业生产从实验室规模经由催化化学蒸汽免职为碳 nanotubes (CNT ) 的连续生产汇报进程的设计,开发和确认的不同的步。这个过程作为碳来源基于一个连续使倾向的活动床的旋转反应堆和很活跃的催化剂使用甲烷或乙烯。当模特儿考虑水动力学的重要性,在过程分析发生在 CNT 生产期间的物理化学、物理的现象被强调。环境和人的健康上的这发明的影响也被考虑。 展开更多
关键词 nanotubes 催化化学蒸汽免职 使倾向的旋转反应堆 工业过程 可伸缩起来
原文传递
Remarkable carbon dioxide catalytic capture (CDCC) leading to solid-form carbon material via a new CVD integrated process (CVD-IP): An alternative route for CO_2 sequestration 被引量:5
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作者 Wei Chu Maofei Ran +4 位作者 Xu Zhang Ning Wang Yufei Wang Heping Xie Xiusong Zhao 《Journal of Energy Chemistry》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第1期136-144,共9页
Through our newly-developed "chemical vapor deposition integrated process (ISVD-IP)'" using carbon OlOXlae (t..u2) as me raw matenal and only carbon source introduced, CO2 could be catalytically activated and c... Through our newly-developed "chemical vapor deposition integrated process (ISVD-IP)'" using carbon OlOXlae (t..u2) as me raw matenal and only carbon source introduced, CO2 could be catalytically activated and converted to a new solid-form product, i.e., carbon nanotubes (CO2-derived) at a quite high yield (the single-pass carbon yield in the solid-form carbon-product produced from CO2 catalytic capture and conversion was more than 30% at a single-pass carbon-base). For comparison, when only pure carbon dioxide was introduced using the conventional CVD method without integrated process, no solid-form carbon-material product could be formed. In the addition of saturated steam at room temperature in the feed for CVD, there were much more end-opening carbon nano-tubes produced, at a slightly higher carbon yield. These inspiring works opened a remarkable and alternative new approach for carbon dioxide catalytic capture to solid-form product, comparing with that of CO2 sequestration (CCS) or CO2 mineralization (solidification), etc. As a result, there was much less body volume and almost no greenhouse effect for this solid-form carbon-material than those of primitive carbon dioxide. 展开更多
关键词 carbon dioxide catalytic capture (CDCC) carbon nanotubes (CNTs) chemical vapor deposition integrated process (CVD-IP) solid-formcarbon material debating greenhouse gases (GHG) effects
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One-pot synthesis of Sb-Fe-carbon-fiber composites with in situ catalytic growth of carbon fibers 被引量:2
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作者 Jiart Xie Wen-tao Song Gao-shao Cao Xin-bing Zhao 《International Journal of Minerals,Metallurgy and Materials》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第6期542-548,共7页
A Sb-Fe-carbon-fiber (CF) composite was prepared by a chemical vapor deposition (CVD) method with in situ growth of CFs us- ing Sb203/Fe2O3 as the precursor and acetylene (C2H2) as the carbon source. The Sb-Fe-C... A Sb-Fe-carbon-fiber (CF) composite was prepared by a chemical vapor deposition (CVD) method with in situ growth of CFs us- ing Sb203/Fe2O3 as the precursor and acetylene (C2H2) as the carbon source. The Sb-Fe-CF composite was characterized by X-ray diffraction (XRD), field emission scanning electron microscopy (FESEM) and transmission electron microscopy (TEM), and its electrochemical per- formance was investigated by galvanostatic charge-discharge cycling and electrochemical impedance spectroscopy. The Sb-Fe-CF composite shows a better cycling stability than the Sb-amorphous-carbon composite prepared by the same CVD method but using Sb2O3 as the precur- sor. Improvements in cycling stability of the Sb-Fe-CF composite can be attributed to the formation of three-dimensional network structure by CFs, which can connect Sb particles firmly. In addition, the CF layer can buffer the volume change effectively. 展开更多
关键词 composite materials antimony alloys carbon fibers chemical vapor deposition catalytic growth network structures lithiumbatteries anodes
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Direct synthesis of large-area Al-doped graphene by chemical vapor deposition:Advancing the substitutionally doped graphene family 被引量:1
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作者 Sami Ullah Yu Liu +10 位作者 Maria Hasan Wenwen Zeng Qitao Shi Xiaoqin Yang Lei Fu Huy Q.Ta Xueyu Lian Jingyu Sun Ruizhi Yang Lijun Liu Mark H.Rummeli 《Nano Research》 SCIE EI CSCD 2022年第2期1310-1318,共9页
Graphene doping continues to gather momentum because it enables graphene properties to be tuned,thereby affording new properties to,improve the performance of,and expand the application potential of graphene.Graphene ... Graphene doping continues to gather momentum because it enables graphene properties to be tuned,thereby affording new properties to,improve the performance of,and expand the application potential of graphene.Graphene can be chemically doped using various methods such as surface functionalization,hybrid composites(e.g.,nanoparticle decoration),and substitution doping,wherein C atoms are replaced by foreign ones in the graphene lattice.Theoretical works have predicted that graphene could be substitutionally doped by aluminum(Al)atoms,which could hold promise for exciting applications,including hydrogen storage and evolution,and supercapacitors.Other theoretical predictions suggest that Al substitutionally doped graphene(AIG)could serve as a material for gas sensors and the catalytic decomposition of undesirable materials.However,fabricating Al substitutionally doped graphene has proven challenging until now.Herein,we demonstrate how controlled-flow chemical vapor deposition(CVD)implementing a simple solid precursor can yield high-quality and large-area monolayer AIG,and this synthesis is unequivocally confirmed using various characterization methods including local electron energy-loss spectroscopy(EELS).Detailed high-resolution transmission electron microscopy(HRTEM)shows numerous bonding configurations between the Al atoms and the graphene lattice,some of which are not theoretically predicted.Furthermore,the produced AIG shows a CO_(2) capturability superior to those of other substitutionally doped graphenes. 展开更多
关键词 aluminum-doped graphene single-solid precursor chemical vapor deposition carbon dioxide capture energy storage catalytic applications
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改性铜集流体应用于锂离子电池研究进展
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作者 段长琦 谷月月 +3 位作者 黎子龙 刘婷婷 于镇洋 孙琦 《铜业工程》 CAS 2024年第2期119-130,共12页
随着社会发展和科技进步,能源的过度消耗引发资源和环境问题。近年来,电动汽车等新能源领域的蓬勃发展,促进了电化学储能技术的开发应用。锂离子电池(LIBs)被认为是目前最可靠的先进可充电储能器件之一。在LIBs中,集流体发挥着至关重要... 随着社会发展和科技进步,能源的过度消耗引发资源和环境问题。近年来,电动汽车等新能源领域的蓬勃发展,促进了电化学储能技术的开发应用。锂离子电池(LIBs)被认为是目前最可靠的先进可充电储能器件之一。在LIBs中,集流体发挥着至关重要的作用,它连接着LIBs内外电子通路,是活性电极材料的支撑基底。目前,商业铜箔作为集流体已经无法满足人们对高性能储能器件的性能要求。因此,对LIBs铜集流体进行改性,是一种解决其性能不足和部分电池缺陷问题的可行方法。由于碳基材料具有高导电性和高机械强度等优点,与铜材料能够实现良好结合和性能过渡,被认为是最契合的优秀改性材料。本文介绍了LIBs中存在的常见问题,针对这些问题,系统总结了近年来铜集流体改性方法,主要包括碳基材料改性以及铜集流体表面改性和结构改性。对于铜集流体碳基材料改性,总结了近年来众多突出成果,包括应用于改性过程中的不同碳纳米材料及其制备过程,以及影响碳纳米材料改性铜基集流体性能的诸多因素。最后对铜集流体在LIBs中的应用和发展趋势进行了展望。 展开更多
关键词 铜集流体 锂离子电池 改性设计 碳基材料 催化化学气相沉积
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ECCVD法制备单壁碳纳米管
10
作者 王茂发 潘志安 +4 位作者 邹小平 程进 袁静 杨秋格 欧阳群波 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2012年第7期462-466,共5页
采用催化化学气相沉积法,以乙醇作为碳源,二茂铁为催化剂前驱体,高纯度的N2和3%H2/Ar为载气,在反应温度850℃下,制备出了高质量的单壁碳纳米管。采用该方法制备单壁碳纳米管,具有反应温度相对较低以及碳源(液态乙醇)丰富、廉价的优点。... 采用催化化学气相沉积法,以乙醇作为碳源,二茂铁为催化剂前驱体,高纯度的N2和3%H2/Ar为载气,在反应温度850℃下,制备出了高质量的单壁碳纳米管。采用该方法制备单壁碳纳米管,具有反应温度相对较低以及碳源(液态乙醇)丰富、廉价的优点。分别采用SEM,TEM和喇曼光谱等手段对制备出的样品进行了微观结构表征,并对表征结果进行分析计算。结果表明单壁碳纳米管集结成束状,直径约为1.2nm,其直径分布范围较窄,缺陷较少,产量相对丰富。 展开更多
关键词 催化化学气相沉积(eccvd) 单壁碳纳米管 二茂铁 膜状产物 低温
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新型MgO负载Co-Y双金属催化剂对单壁碳纳米管直径分布的调控
11
作者 霍琴梅 汪镭 《合成化学》 CAS 2024年第5期437-443,共7页
单壁碳纳米管的直径调控是碳管生长和应用领域的重要问题。本文以氧化镁(MgO)为载体,首次采用共浸渍法制备了新型钴-钇(Co-Y)双金属催化剂,利用高熔点的Y作为稀释剂和锚定组分控制Co纳米颗粒的尺寸,从而制备窄直径分布的单壁碳纳米管。... 单壁碳纳米管的直径调控是碳管生长和应用领域的重要问题。本文以氧化镁(MgO)为载体,首次采用共浸渍法制备了新型钴-钇(Co-Y)双金属催化剂,利用高熔点的Y作为稀释剂和锚定组分控制Co纳米颗粒的尺寸,从而制备窄直径分布的单壁碳纳米管。利用SEM、XRD、XPS和TEM等对催化剂的结构形貌进行了表征,确定了Y和Co的存在状态分别为Y_(2)O_(3)和Co_(3)O_(4),其中Y金属的加入能显著提高Co_(3)O_(4)晶粒的分散性。利用TEM和Raman分析产物的直径分布,结果表明Co-Y/MgO催化剂体系制备了窄直径分布的单壁碳纳米,其直径范围为1.06~1.42nm。 展开更多
关键词 Co-Y/MgO 单壁碳纳米管 直径分布 催化化学气相沉积 浸渍法
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碳酸钾催化制备螺旋纳米碳纤维
12
作者 龚勇 罗利 +3 位作者 潘忠文 谢纯 崔瑾 姜波 《石油与天然气化工》 CAS CSCD 北大核心 2023年第6期39-43,共5页
目的螺旋纳米碳纤维制备过程中残留的催化剂会影响产物本征性能,常采用酸洗除去催化剂,但会破坏纤维的结构并增加使用成本。以水溶性盐为催化剂制备螺旋纳米碳纤维,可水洗除去催化剂得到高纯度的螺旋纳米碳纤维。方法以K_(2)CO_(3)为催... 目的螺旋纳米碳纤维制备过程中残留的催化剂会影响产物本征性能,常采用酸洗除去催化剂,但会破坏纤维的结构并增加使用成本。以水溶性盐为催化剂制备螺旋纳米碳纤维,可水洗除去催化剂得到高纯度的螺旋纳米碳纤维。方法以K_(2)CO_(3)为催化剂、C_(2)H_(2)为碳源,采用化学气相沉积法制备螺旋纳米碳纤维,用简单的水洗除去K_(2)CO_(3)催化剂,并考查制备温度对螺旋纳米碳纤维形貌的影响。利用场发射扫描电子显微镜、透射电子显微镜和能谱仪表征螺旋纳米碳纤维的微观结构和元素组成,通过X射线衍射、拉曼光谱和傅里叶红外光谱表征螺旋纳米碳纤维的晶体结构和表面官能团。结果在700℃条件下制备的产物直径约为60 nm,呈螺旋结构且形貌均匀,螺旋纳米碳纤维的碳原子呈短程有序排列,主要由C-H、C=C官能团组成;K_(2)CO_(3)催化剂在纤维中呈类似菱形对称结构,导致纤维在催化剂两侧呈手性对称生长。结论采用化学气相沉积法制备出形貌均匀的螺旋纳米碳纤维,水洗除去表面催化剂可得到高纯度的螺旋纳米碳纤维。 展开更多
关键词 碳酸钾 螺旋纳米碳纤维 化学气相沉积法 催化裂解 生长机理
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CVD法无催化直接生长α-In_(2)Se_(3)纳米材料
13
作者 苗瑞霞 杨奔 +1 位作者 王业飞 李田甜 《西安邮电大学学报》 2023年第4期44-50,共7页
在常压无催化条件下,采用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)方法,直接生长二维α-硒化铟(In_(2)Se_(3))纳米片材料。研究了生长温度、生长时间和气体流量对In_(2)Se_(3)纳米片的微观形貌和尺寸的影响,采用扫描电子显微镜、X... 在常压无催化条件下,采用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)方法,直接生长二维α-硒化铟(In_(2)Se_(3))纳米片材料。研究了生长温度、生长时间和气体流量对In_(2)Se_(3)纳米片的微观形貌和尺寸的影响,采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、拉曼光谱仪对In_(2)Se_(3)纳米材料的分布、形貌、结构进行了表征和分析。实验结果表明,CVD法直接生长的In_(2)Se_(3)纳米片为规则的六边形,分布较均匀,沿(006)晶面择优生长,具有2H-α相的晶体结构。最佳工艺参数为硒粉区域温度为430℃,氧化铟粉末区域温度为800℃,生长时间为45 min,H_(2)流量为45 sccm,Ar流量为15 sccm。 展开更多
关键词 硒化铟 纳米片 扫描电子显微镜 无催化反应 化学气相沉积 表面形貌
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洋葱状富勒烯的CCVD法制备及其形貌特征 被引量:22
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作者 李天保 许并社 +4 位作者 韩培德 张艳 王晓敏 刘旭光 市野濑英喜 《新型炭材料》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期23-27,共5页
采用催化化学气相沉积法(CCVD)制备了洋葱状富勒烯 (OFs),借助高分辨透射电镜 (HRTEM)观察和分析了其形貌结构。结果发现,以负载Co2+的Y型沸石为催化剂,C2H2为碳源,反应温度为 700℃时,单位催化剂产炭率的质量分数为 66%,其中洋葱状富... 采用催化化学气相沉积法(CCVD)制备了洋葱状富勒烯 (OFs),借助高分辨透射电镜 (HRTEM)观察和分析了其形貌结构。结果发现,以负载Co2+的Y型沸石为催化剂,C2H2为碳源,反应温度为 700℃时,单位催化剂产炭率的质量分数为 66%,其中洋葱状富勒烯的收率可达产炭率体积分数的 20%以上;并认为OFs的生长机理为由内到外逐层石墨化的气固(VS)模式。 展开更多
关键词 洋葱状富勒烯 催化化学气相沉积法 高分辨透射电镜 碳60 催化剂
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气相沉积制备V_2O_5-WO_3/TiO_2催化剂及其脱硝性能的研究 被引量:6
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作者 杨眉 刘清才 +2 位作者 薛屺 王小红 高英 《动力工程》 CAS CSCD 北大核心 2010年第1期52-55,62,共5页
以堇青石蜂窝陶瓷为基体,应用化学气相沉积技术(CVD)负载TiO2载体,浸渍V、W化合物溶液,制备出V2O5-WO3/TiO2脱硝催化剂.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)和X射线荧光光谱仪(XRF)等表征催化剂微观结构和成分... 以堇青石蜂窝陶瓷为基体,应用化学气相沉积技术(CVD)负载TiO2载体,浸渍V、W化合物溶液,制备出V2O5-WO3/TiO2脱硝催化剂.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)和X射线荧光光谱仪(XRF)等表征催化剂微观结构和成分,并利用自行研制的活性评价装置分析了催化剂的脱硝效率.结果表明:制备的催化剂比表面积为78.8m2/g,平均孔径为6.8 nm;锐钛型TiO2载体在堇青石基体上沉积均匀、排列紧密,V2O5在TiO2载体上无定形态单层分散,微量V2O5在微区长大成针状,宽度均小于100 nm;在350℃、空速为1000 h-1、nNH3/nNO摩尔比=1时,催化剂NO的脱除效率ηNO可达到98.3%. 展开更多
关键词 烟气脱硝 化学气相沉积 V2O5-WO3/TIO2催化剂 催化活性 蜂窝堇青石
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纳米聚团床制备碳纳米管的生长机理 被引量:6
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作者 李志飞 罗国华 +1 位作者 魏飞 王垚 《过程工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期224-229,共6页
采用催化化学气相沉积法(CCVD),在550(750oC温度范围内,于内径44 mm、高1000 mm的石英管纳米聚团床中制备了碳纳米管;通过SEM, TEM, TGA等多种分析手段对碳纳米管产品的形貌和质量进行了分析;把相同条件下的纳米聚团床法与前人固定催化... 采用催化化学气相沉积法(CCVD),在550(750oC温度范围内,于内径44 mm、高1000 mm的石英管纳米聚团床中制备了碳纳米管;通过SEM, TEM, TGA等多种分析手段对碳纳米管产品的形貌和质量进行了分析;把相同条件下的纳米聚团床法与前人固定催化剂法的结果进行了比较,并考察了纳米聚团床中反应条件对碳纳米管生长的影响;通过对电镜照片和反应转化率动态数据的深入分析,对纳米聚团床中碳纳米管生长机理的特殊性进行了初步探讨. 展开更多
关键词 碳纳米管 纳米聚团床 催化化学气相沉积 生长机理
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化学气相沉积法SiC连续纤维炭芯的研究Ⅰ.加压齐聚反应调制可纺中间相沥青 被引量:3
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作者 查庆芳 吴明铂 +2 位作者 陆松 宋怀河 朱星明 《石油学报(石油加工)》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期28-33,共6页
为了研制化学气相沉积法 Si C连续纤维用的大直径中间相沥青炭单丝 (炭芯 ) ,由 FCC油浆 3 0 0~ 4 0 0℃馏分调制了可纺中间相沥青。FCC油浆 3 0 0~ 4 0 0℃馏分形成中间相的特征反应 ,是芳环脱自由基缩合形成大平面分子结构的齐聚反... 为了研制化学气相沉积法 Si C连续纤维用的大直径中间相沥青炭单丝 (炭芯 ) ,由 FCC油浆 3 0 0~ 4 0 0℃馏分调制了可纺中间相沥青。FCC油浆 3 0 0~ 4 0 0℃馏分形成中间相的特征反应 ,是芳环脱自由基缩合形成大平面分子结构的齐聚反应 ,而加压齐聚反应获得的呈粗纤维状大域融并结构、 1 0 0 %光学各向异性的可溶性中间相沥青 ,是制备大直径中间相沥青炭单丝的优质前驱体。 展开更多
关键词 化学气相沉积 中间相沥青 碳纤维 齐聚反应 碳化硅 连续纤维碳芯
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催化剂对纳米聚团床法制备的纳米碳材料形貌的影响 被引量:3
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作者 李志飞 罗国华 +2 位作者 魏飞 向兰 邓祥义 《催化学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2002年第2期173-178,共6页
在纳米聚团床中用催化化学气相沉积法批量制备了碳纳米管 ,研究了过渡金属催化剂对碳纳米管形貌和产量的影响 .实验结果表明 ,含铁催化剂的活性较低 ,产率较低 ,但产品质量较好 ;含镍催化剂的活性较高 ,产率较高 ,但产品质量较差 ;在钴... 在纳米聚团床中用催化化学气相沉积法批量制备了碳纳米管 ,研究了过渡金属催化剂对碳纳米管形貌和产量的影响 .实验结果表明 ,含铁催化剂的活性较低 ,产率较低 ,但产品质量较好 ;含镍催化剂的活性较高 ,产率较高 ,但产品质量较差 ;在钴催化剂作用下发现了一种新型的针状纳米碳材料 .用含载体较少的铁催化剂可以得到纯度较高且微观结构较好的碳纳米管 ,但产率较低 ;不含任何载体的纯镍催化剂则不能得到碳纳米管 .适宜的催化剂组成。 展开更多
关键词 碳纳米管 纳米聚团床 过渡金属催化剂 形貌 催化化学气相沉积 制备 纳米碳材料
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用Cat-CVD方法制备多晶硅薄膜及结构分析 被引量:3
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作者 张玉 高博 +3 位作者 李世伟 付国柱 高文涛 荆海 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2006年第6期668-673,共6页
以金属钨为催化热丝,采用热丝催化化学气相沉积,在300℃的玻璃衬底上沉积多晶硅薄膜。研究了H2稀释率、钨丝与衬底间的距离和反应室气体压力等沉积参数对制备多晶硅薄膜的影响,并通过XRD谱分析,确定了本实验系统的最佳多晶硅成膜条件:FR... 以金属钨为催化热丝,采用热丝催化化学气相沉积,在300℃的玻璃衬底上沉积多晶硅薄膜。研究了H2稀释率、钨丝与衬底间的距离和反应室气体压力等沉积参数对制备多晶硅薄膜的影响,并通过XRD谱分析,确定了本实验系统的最佳多晶硅成膜条件:FR(SiH4)=5mL/min,FR(H2)=70mL/min,P=50Pa,L衬底与钨丝=7.5cm,T=30min,t衬底=300℃,特征峰在(111)面上。在接触式膜厚仪测量的基础上,计算出薄膜生长速率为0.6nm/s。对最佳成膜条件下制备的多晶硅薄膜进行刻蚀,形成不同的厚度,以便进行逐层分析。采用XRD和SEM方法对不同厚度的薄膜测试发现,随着薄膜厚度的减小,(111)面的XRD特征峰强度逐渐下降,(111)面上的晶粒尺寸基本没有变化,都是50nm左右。根据测试结果分析了薄膜的生长机制,提出了薄膜生长是分步成核,成核后沿(111)面纵向生长的观点。认为反应基元首先随机吸附在衬底上,在H原子的作用下在一些位置上成核,而在其他位置形成非晶相。已形成的晶核逐渐长大并沿(111)面纵向生长;已形成的非晶相也在生长,但上面不断有晶核形成。当薄膜达到一定厚度,非晶相表面完全被晶核占据,整个薄膜表面成为多晶相,此后整个薄膜处于沿(111)面的纵向生长阶段,直至反应结束,完整的晶粒结构呈柱状。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜 催化化学气相沉积 沉积参数 逐层分析 分步成核
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催化剂辅助化学气相沉积法制备准单晶ZnO纳米线 被引量:3
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作者 孙小松 余洲 +5 位作者 王帅 杨治美 晋勇 何毅 杨文彬 龚敏 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第3期216-218,222,共4页
利用Au催化辅助化学气相沉积生长技术,在nSi(111)衬底上制备了准单晶的ZnO纳米线。X射线衍射分析的结果表明,ZnO纳米线具有明显的沿(0001)方向定向生长的特征。扫描电子显微镜分析表明,ZnO纳米线的典型直径约为100nm,长度为2~5μm。讨... 利用Au催化辅助化学气相沉积生长技术,在nSi(111)衬底上制备了准单晶的ZnO纳米线。X射线衍射分析的结果表明,ZnO纳米线具有明显的沿(0001)方向定向生长的特征。扫描电子显微镜分析表明,ZnO纳米线的典型直径约为100nm,长度为2~5μm。讨论了Au催化辅助化学气相沉积生长技术制备ZnO纳米线的原理。 展开更多
关键词 ZNO纳米线 化学气相沉积 催化辅助生长技术 定向生长 XRD SEM
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