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铜团簇束在硅上碰撞沉积的薄膜形貌和方块电阻 被引量:3
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作者 李公平 何山虎 +5 位作者 丁宝卫 张小东 丁印锋 包良满 刘正民 朱德彰 《兰州大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2004年第5期31-33,共3页
用一种新型磁控溅射气体凝聚团簇源产生Cu_n^-(n是簇原子个数)团簇束,当团簇束分别在偏压V_α为0,1,3,5,10kV的电场中加速后,在真空中,沉积在室温下的P-si(111)衬底上,获得Cu/P-Si(111)薄膜样品。用AFM分析表明:当V_α(?)3kV时,团簇束成... 用一种新型磁控溅射气体凝聚团簇源产生Cu_n^-(n是簇原子个数)团簇束,当团簇束分别在偏压V_α为0,1,3,5,10kV的电场中加速后,在真空中,沉积在室温下的P-si(111)衬底上,获得Cu/P-Si(111)薄膜样品。用AFM分析表明:当V_α(?)3kV时,团簇束成膜,膜表面的粗糙度比常规磁控溅射小,且随V_α增加,粗糙度减小。用四探针测薄膜方块电阻,经归一化后可知:团簇束沉积,当V_α(?)3kV时,薄膜方块电阻大于常规磁控溅射的方块电阻,当V_α(?)5kV时薄膜方块电阻已小于常规磁控溅射方块电阻;对于团簇束沉积,薄膜方块电阻随沉积偏压V_α的增加而减小。 展开更多
关键词 铜团簇束沉积 单晶硅 薄膜形貌 薄膜方块电阻
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铝箔阳极氧化后2种铈转化膜的沉积机理 被引量:3
2
作者 贺格平 梁燕萍 冯俊伟 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2009年第9期1-3,共3页
为探讨铝阳极氧化沉积铈转化膜形成机理,分别用化学沉积和电沉积法在铝阳极氧化膜上制备了铈转化膜。用SEM和EDS表征了阳极氧化膜、化学沉积铈转化膜和阴极电沉积铈转化膜的形貌和组分,测试了膜层厚度和膜的耐腐蚀性。结果表明:平均孔径... 为探讨铝阳极氧化沉积铈转化膜形成机理,分别用化学沉积和电沉积法在铝阳极氧化膜上制备了铈转化膜。用SEM和EDS表征了阳极氧化膜、化学沉积铈转化膜和阴极电沉积铈转化膜的形貌和组分,测试了膜层厚度和膜的耐腐蚀性。结果表明:平均孔径89nm的铝阳极氧化膜经阴极电沉积、化学沉积铈后平均孔径分别减小为38nm和32nm,2种沉积分别可得到含铈52.10%和20.39%的铈转化膜。2种铈转化膜的平均膜厚分别比铝阳极氧化膜的大1.96μm和1.23μm,极化电阻均是铝阳极氧化膜的近3倍。2种铈转化膜形成机理不同是造成它们性质不同的原因。 展开更多
关键词 铈转化膜 形成机理 铝阳极氧化 化学沉积 电沉积
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应用铟源的反应蒸发制备In_2O_3透明导电膜 被引量:4
3
作者 张曙 罗新 王乔民 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1996年第3期510-514,共5页
本工作说明,在低压氧气氛中。应用铟源的反应蒸发很容易淀积高质量的In2O3透明导电膜.旦然没有使用锡杂质,但所得膜的性能可以和最好的掺锡的In2O3膜相比.膜电阻率达2~3×10 ̄4Ω·cm,可见光透过率超过... 本工作说明,在低压氧气氛中。应用铟源的反应蒸发很容易淀积高质量的In2O3透明导电膜.旦然没有使用锡杂质,但所得膜的性能可以和最好的掺锡的In2O3膜相比.膜电阻率达2~3×10 ̄4Ω·cm,可见光透过率超过90%,并且膜生长速率高达219/min.文章对成膜过程作了分析,报道了膜的最佳淀积条件,对由于偏离最佳淀积参数而导致的异常膜的形成机制也进行了讨论. 展开更多
关键词 氧化铟 导电薄膜 蒸发 半导体薄膜
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团簇沉积C-N薄膜的研究 被引量:1
4
作者 陈景升 俞国庆 +5 位作者 张志滨 潘浩昌 朱德彰 徐洪杰 郑志豪 阎逢元 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第6期433-438,共6页
利用荷能团簇沉积装置在高阻硅 ( 111)衬底上沉积了碳氮薄膜。通过红外光谱、拉曼谱和X光电子能谱对薄膜的结构和化学组分进行了分析。结果表明 ,薄膜中存在N -sp3C( β -C3N4 的键合方式 ) ,但以N -sp2 C和C =C双键的结合方式为主。
关键词 团族沉积 碳氮薄膜 结构 制备 表征 硅基底 硬度 光谱
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柠檬酸浓度对化学浴沉积硫化铟薄膜形成机理的影响研究 被引量:2
5
作者 高志华 刘晶冰 汪浩 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2011年第9期1685-1690,共6页
以柠檬酸为配位剂,在酸性条件下采用化学浴沉积方法在FTO玻璃衬底上制得硫化铟薄膜,分别采用XRD、SEM、UV等手段对薄膜相结构、形貌和薄膜的透光率进行了表征。结果表明薄膜为立方结构的β-In2S3,薄膜均一连续,呈网状表面形貌,透光率随... 以柠檬酸为配位剂,在酸性条件下采用化学浴沉积方法在FTO玻璃衬底上制得硫化铟薄膜,分别采用XRD、SEM、UV等手段对薄膜相结构、形貌和薄膜的透光率进行了表征。结果表明薄膜为立方结构的β-In2S3,薄膜均一连续,呈网状表面形貌,透光率随厚度增加而递减,带隙宽度介于2.5~2.6 eV之间。主要研究了配位剂的浓度对薄膜形成机理的影响,结果表明:柠檬酸浓度较低时,柠檬酸根与铟离子的配位平衡是整个反应的速控步骤;当柠檬酸浓度较高时,硫代乙酰胺与酸作用生成硫离子的反应是整个反应的速控步骤。 展开更多
关键词 化学浴 薄膜 硫化铟 柠檬酸 形成机理
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多羟基双季铵盐分子沉积膜驱油实验研究 被引量:1
6
作者 王瑞 曾美婷 +3 位作者 何龙 黄雪莉 刘耀宇 李洲 《油田化学》 CAS CSCD 北大核心 2021年第3期459-463,共5页
分子沉积膜驱油剂(MD膜驱剂)作为一种新兴纳米材料驱油体系,可有效提高驱油效率。本文选用三羟甲基氨基甲烷、环氧氯丙烷和三乙胺为原料,合成出分子沉积膜驱油用的单分子双季铵盐体系,测定了MD膜驱剂的黏度、阳离子度、表面张力及其接... 分子沉积膜驱油剂(MD膜驱剂)作为一种新兴纳米材料驱油体系,可有效提高驱油效率。本文选用三羟甲基氨基甲烷、环氧氯丙烷和三乙胺为原料,合成出分子沉积膜驱油用的单分子双季铵盐体系,测定了MD膜驱剂的黏度、阳离子度、表面张力及其接触角等,并通过动态驱油试验对驱油效果进行了评价。结果表明,合成的MD膜驱剂性能稳定,体系黏度均在1.11 mPa·s左右;当浓度为800 mg/L时阳离子度达到71.73%,此时在砂岩表面的吸附性能最好;MD膜驱剂可使润湿性发生转变,将亲油表面载玻片(98.70°)转变为弱亲油(85.31°),使水湿表面载玻片(58.1°)亲水性增强(45.58°)。MD膜驱剂能驱替出水驱未能采出的原油,水驱转为分子沉积膜驱后,驱油效率由42.55%上升到48.29%,而直接进行分子沉积膜驱后,驱油效率高达54.81%,相较于水驱后分子膜接替驱油,直接进行分子膜驱油能够获得更高的采收率。 展开更多
关键词 分子沉积膜 驱油 润湿性 砂岩储层 提高采收率
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铜团簇束在硅上碰撞沉积的薄膜表面能谱分析 被引量:1
7
作者 李公平 丁宝卫 +4 位作者 张小东 丁印锋 刘正民 朱德彰 包良满 《原子与分子物理学报》 CAS CSCD 北大核心 2004年第2期191-194,共4页
用一种新型磁控溅射气体凝聚团簇源产生Cu-n(n是团簇原子个数)团簇束,当团簇束分别在偏压为:0,1,3,5,10kV的电场中加速后,在真空中,沉积在室温下的P型Si(111)衬底上,获得Cu/P-Si(111)薄膜样品。用X射线光电子能谱(XPS)分析薄膜,结果表明... 用一种新型磁控溅射气体凝聚团簇源产生Cu-n(n是团簇原子个数)团簇束,当团簇束分别在偏压为:0,1,3,5,10kV的电场中加速后,在真空中,沉积在室温下的P型Si(111)衬底上,获得Cu/P-Si(111)薄膜样品。用X射线光电子能谱(XPS)分析薄膜,结果表明:薄膜本身不含C和O等杂质;当Cu/P-Si(111)样品暴露在空气中时,样品表面会氧化和碳污染,铜的特征电子峰几乎被湮没。用能量3keV流强为4~6μA/cm2Ar+束,预溅射处理样品表面后,用XPS分析,常规磁控溅射室温下得到的Cu/P-Si(111)样品和铜团簇束沉积,偏压分别为0,1,3,5,10kV的样品XPS谱和块状Cu标样谱基本一样,Cu2P1、Cu2P3、CuLMM特征峰位没有移动,反映不出原子结合能差异。 展开更多
关键词 铜团簇束 碰撞沉积 单晶硅 XPS谱 薄膜中的原子结合能
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离子束增强沉积VO_2多晶薄膜的成膜机理 被引量:3
8
作者 李金华 袁宁一 《微细加工技术》 2004年第1期47-51,61,共6页
用离子束增强沉积制备高性能VO2薄膜,在溅射V2O5粉末靶的同时,用氩、氢混合束对沉积膜作高剂量离子注入,然后经500℃以上的退火,获得热电阻温度系数(TCR)高达4%的VO2薄膜。成膜机理是:利用高剂量氩离子注入的损伤效应使V2O5的V-O键断裂... 用离子束增强沉积制备高性能VO2薄膜,在溅射V2O5粉末靶的同时,用氩、氢混合束对沉积膜作高剂量离子注入,然后经500℃以上的退火,获得热电阻温度系数(TCR)高达4%的VO2薄膜。成膜机理是:利用高剂量氩离子注入的损伤效应使V2O5的V-O键断裂;利用注入氢的还原效应将V2O5转换成VO2薄膜;利用混合效应使界面结合牢固、薄膜结构均匀;利用掺杂效应,使氩出现在晶格的间隙位置,产生张应力,降低了薄膜的转换温度;利用轰击效应使薄膜致密,降低了氧空位,减小了晶界宽度,提高了其TCR。 展开更多
关键词 二氧化钒薄膜 离子束增强沉积 成膜机理 VO2 多晶薄膜
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长脉冲激光沉积原位生成YBaCuO超导膜
9
作者 张甫权 李庠 +1 位作者 潘萍 薛瑞君 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第8期80-82,共3页
用长脉冲激光(脉冲宽度150μs,波长1.06μm)辐照高温烧结的YBa_2Cu_3O_(7-x)靶,在6Pa的氧气压强下,巳在(100)YSZ单晶衬底上原位生成YBa_2Cu_(?)O_(7-x)超导膜。衬底置于750℃的加热器上,衬底与靶之间的距离5cm,用该法制得的薄膜光亮坚实... 用长脉冲激光(脉冲宽度150μs,波长1.06μm)辐照高温烧结的YBa_2Cu_3O_(7-x)靶,在6Pa的氧气压强下,巳在(100)YSZ单晶衬底上原位生成YBa_2Cu_(?)O_(7-x)超导膜。衬底置于750℃的加热器上,衬底与靶之间的距离5cm,用该法制得的薄膜光亮坚实,正常态呈金属性,零电阻温度为84.7K。用XRD和SEM对薄膜进行了分析研究。 展开更多
关键词 冲激光沉积 超导薄膜 原位生成
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离子束溅射原位淀积高温超导薄膜的机理与实验研究
10
作者 郝建华 赵兴荣 +1 位作者 周方桥 易新建 《微细加工技术》 1997年第3期32-39,共8页
理论计算了氩离子束溅射Y-Ba-CU-O靶的组分原子溅射率,得出了溅射过程中存在Cu原子溅射率偏低的“择优溅射”效应。通过分析原位形成高温超导薄膜的实现条件,表示出了离子束溅射原位成膜的基本过程。实验上采用分子氧辅助淀积技术... 理论计算了氩离子束溅射Y-Ba-CU-O靶的组分原子溅射率,得出了溅射过程中存在Cu原子溅射率偏低的“择优溅射”效应。通过分析原位形成高温超导薄膜的实现条件,表示出了离子束溅射原位成膜的基本过程。实验上采用分子氧辅助淀积技术,用离子束溅射法原位外延出YBa2Cu3O(7-δ)超导薄膜。讨论了实验条件对薄膜特性的影响。所得到的实验结果与理论分析相一致。 展开更多
关键词 超导薄膜 离子束溅射 成膜机理 原位淀积
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反应离化团束沉积技术及其在薄膜制备中的应用
11
作者 王琼 张观明 《半导体杂志》 1998年第2期43-48,共6页
反应离化团束沉积技术是在离化团束沉积技术基础上加入了反应材料。本文讨论了簇团的产生、离化、加速,成膜的机制,及其在薄膜制备中的应用。
关键词 R-ICBD 离化团束沉积 薄膜 制备
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DMF溶液中导电玻璃上沉积类金刚石薄膜 被引量:2
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作者 蔡锴 曹传宝 +3 位作者 酒金婷 傅强 汪浩 朱鹤孙 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 1999年第4期80-82,共3页
The hydrogenated diamond like carbon(DLC) films were formed on conductive glass substrate by deposition in DMF using a pulse modulated source. The X ray photoelectron spectroscopy results of the films showed that the ... The hydrogenated diamond like carbon(DLC) films were formed on conductive glass substrate by deposition in DMF using a pulse modulated source. The X ray photoelectron spectroscopy results of the films showed that the main composition of the films are carbon. The Raman and IR spectra indicated the existence of hydrogen in form of sp 3 C in the film. From the Raman spectra indicated the formation of DLC in most regions of the film and also possible diamond deposits. The films showed high transmission ratio (>70%) in 330~2000 nm and electrical resistivity of 10 10 Ω·cm. 展开更多
关键词 类金刚石膜 液相沉积法 制备 DMF溶液
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Si基的RICBD法生长GaN薄膜 被引量:2
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作者 蔡先体 黄启俊 +3 位作者 黄浩 孟宪权 郭怀喜 范湘军 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2001年第1期26-30,共5页
讨论了反应离化团簇束沉积 (RICBD)方法的原理和特点 ,利用改进的双气流方式和ZnO缓冲层技术在Si衬底上生长GaN薄膜 ,并用XPS、XRD和PL对样品进行了测试分析 ,证实形成了良好的GaN薄膜。
关键词 反应离化团簇束沉积 氮化钙薄膜 硅基
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集束型多层纳米薄膜沉积设备的研制 被引量:2
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作者 杨胜 夏洋 +6 位作者 兰丽丽 陶晓俊 冯嘉恒 明帅强 卢维尔 屈芙蓉 刘涛 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第11期1096-1102,共7页
运用模块化的设计构想,将等离子体增强原子层沉积工艺单元、热型原子层沉积工艺单元,直流磁控溅射单元和射频磁控溅射工艺单元进行高度优化集成,研制了集束型多层纳米薄膜沉积设备。设备创新采用真空旋转传输平台,替代了传统集成设备的... 运用模块化的设计构想,将等离子体增强原子层沉积工艺单元、热型原子层沉积工艺单元,直流磁控溅射单元和射频磁控溅射工艺单元进行高度优化集成,研制了集束型多层纳米薄膜沉积设备。设备创新采用真空旋转传输平台,替代了传统集成设备的机械手结构,实现了样品在高真空(5×10^-5 Pa)中传输,而且传输速度快(2~3 s),有效地减少污染,保证样品表面物性的稳定。设备可在全真空的环境下,实现多层纳米薄膜的制备,同时可以对薄膜生长实现原子层精度的控制。设备的磁控溅射工艺平台可以安装金属掩膜板,直接制备图形薄膜。另外设备具有非常灵活的扩展性,针对薄膜工艺需求的不同,可以集成其他的薄膜制备工艺单元。 展开更多
关键词 原子层沉积 磁控溅射 薄膜制备 集束型设备
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离化团束沉积中的分子动力学模拟 被引量:2
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作者 张豪 夏宗宁 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期83-87,共5页
离化团束沉积是一种可在室温条件下获得高质量薄膜甚至单晶膜的沉积方法。本文对这种沉积方法的原理、装置及主要应用做了简要的介绍。由于沉积过程还存在大量未解决的问题,所以分子动力学模拟逐渐成为研究它们的有力手段。作者考察了... 离化团束沉积是一种可在室温条件下获得高质量薄膜甚至单晶膜的沉积方法。本文对这种沉积方法的原理、装置及主要应用做了简要的介绍。由于沉积过程还存在大量未解决的问题,所以分子动力学模拟逐渐成为研究它们的有力手段。作者考察了近年来分子动力学模拟在这一领域的应用,着重介绍和讨论了模型的建立、势能及参数的选择,模拟存在的问题及今后工作的重点。 展开更多
关键词 离化团束沉积 薄膜 分子动力学模拟
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在GaAs(100)衬底上离化团束外延ZnSe单晶薄膜
16
作者 张芳伟 冯嘉猷 +1 位作者 郑毅 范毓殿 《真空科学与技术》 CSCD 1994年第6期405-410,共6页
ZnSe是一种理想的蓝紫色发光材料,用于制作发光器件有较大的应用前景,采用单源喷发、离化原子团束(ICB)技术在GaAs(100)上外延ZnSe单晶薄膜,并用电子能谱分析了外延薄膜的成分。用X射线衍射和RHEED研究了外延ZnSe单晶薄膜结构和... ZnSe是一种理想的蓝紫色发光材料,用于制作发光器件有较大的应用前景,采用单源喷发、离化原子团束(ICB)技术在GaAs(100)上外延ZnSe单晶薄膜,并用电子能谱分析了外延薄膜的成分。用X射线衍射和RHEED研究了外延ZnSe单晶薄膜结构和外延质量。研究了淀积能量和衬底温度对薄膜质量的影响。得到了摆动曲线半高宽为133rad·s,并具有原子水平平整程度的ZnSe(100)单晶薄膜。外延薄膜存在0.2~0.4μm的应变过渡层,过渡层随淀积能量的增大而变薄。 展开更多
关键词 硒化锌 薄膜沉积 外延 离化团束
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激光修补技术在修复薄膜图形缺陷上的应用——薄膜图形缺陷激光修补机 被引量:1
17
作者 万承华 宋体涵 《电子工业专用设备》 2015年第6期25-30,共6页
阐述了应用激光修补技术在玻璃基板上去除金属及其化合物薄膜和在玻璃基板上沉积金属薄膜的图形缺陷修补原理与方法;简述了影响薄膜图形缺陷修补质量与效率的关键技术;简单介绍了薄膜图形缺陷激光修补机的系统构成及其技术与性能指标。
关键词 激光化学气相沉积(LCVD) 金属薄膜 快速成膜 激光快速去除(ZAP) 设备参数
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Ultrafine Structure of Calcific Deposits Developed in Calcific Tendinopathy
18
作者 Marketa Zelenková Otakar Sohnel Felix Grases 《Journal of Biophysical Chemistry》 2015年第2期35-41,共7页
The ultrafine structure of tendons deposits formed in three patients, males aged 52 and 61 years and a female aged 71 years were evaluated by atomic force microscopy. Three distinctly different structures of deposit s... The ultrafine structure of tendons deposits formed in three patients, males aged 52 and 61 years and a female aged 71 years were evaluated by atomic force microscopy. Three distinctly different structures of deposit surface were identified: (i) compact, smooth and uneven surface composed of closely packed nanoparticles of diameter 30 nm;(ii) surfaces consisting of plate-like crystalline particles about 30 nm thick that formed larger entities divided by deep depressions;(iii) rough surface formed by individual or closely attached elongated needle-like particles with elliptical cross-section of diameter about 30 nm. These surface structures were developed by different formation mechanisms: (i) Aggregation of Posner’s clusters into nanoparticles formed on biological calcific able surfaces and in the bulk of body fluid surrounding the deposits that subsequently settled onto the deposit surface;(ii) Regular crystal growth on surface nuclei generated at low supersaturation of body fluid with respect to the phosphatic phase and/or in a narrow cavity containing a very limited volume of liquid;(iii) Solution mediated re-crystallization of the upper layers of a deposit or unstable crystalline growth governed by volume diffusion of building units to the particle tip. Small rods, 40 nm wide and from 100 to 300 nm long, with no apparent order were detected only on the surface of deposit formed in the female patient. These rods could be debris of collagen fibres that disintegrated into individual building units (macromolecules) with some showing breakdown into smaller fragments. 展开更多
关键词 Calcific Tendinopathy Carbonated Hydroxyapatite Posner’s clusters Deposit Structure formation Mechanism
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High-frequency magnetic characteristics of Fe-Co-based nanocrystalline alloy films 被引量:1
19
作者 HIHARA Takehiko SUMIYAMA Kenji 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2010年第6期1501-1506,共6页
Magnetically soft Fe-Co-based nanocrystalline alloy films were produced by two preparation methods:One using a new energetic cluster deposition technique and another using a conventional magnetron sputtering technique... Magnetically soft Fe-Co-based nanocrystalline alloy films were produced by two preparation methods:One using a new energetic cluster deposition technique and another using a conventional magnetron sputtering technique.Their structural,static magnetic properties and high-frequency magnetic characteristics were investigated.In the energetic cluster deposition method,by applying a high-bias voltage to a substrate,positively charged clusters in a cluster beam were accelerated electrically and deposited onto a negatively biased substrate together with neutral clusters from the same cluster source,to form a high-density Fe-Co alloy cluster-assembled film with good high-frequency magnetic characteristics.In the conventional magnetron sputtering method,only by rotating substrate holder and without applying a static inducing magnetic field on the substrates,we produced Fe-Co-based nanocrystalline alloy films with a remarkable in-plane uniaxial magnetic anisotropy and a good soft magnetic property.The obtained Fe-Co-O,Fe-Co-Ti-N,and Fe-Co-Cr-N films all revealed a high real permeability exceeding 500 at a frequency up to 1.2 GHz.This makes Fe-Co-based nanocrystalline alloy films potential candidates as soft magnetic thin film materials for the high-frequency applications. 展开更多
关键词 Fe-Co-based NANOCRYSTALLINE alloy films HIGH-FREQUENCY characteristics energetic cluster deposition magnetron sputtering substrate rotation
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低能Cu13团簇沉积薄膜的分子动力学模拟研究
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作者 张世旭 刘惠伟 +2 位作者 贺亦文 张梅玲 李公平 《原子核物理评论》 CAS CSCD 北大核心 2019年第2期235-241,共7页
利用分子动力学模拟方法对Cu13团簇在Fe(001)表面上沉积薄膜进行了研究,分析了不同沉积条件对薄膜生长模式的影响,对比分析了不同沉积条件下表面粗糙度、缺陷分布和外延度等薄膜性质的差异。Cu13团簇的初始沉积能量范围为0.1~10.0 eV/at... 利用分子动力学模拟方法对Cu13团簇在Fe(001)表面上沉积薄膜进行了研究,分析了不同沉积条件对薄膜生长模式的影响,对比分析了不同沉积条件下表面粗糙度、缺陷分布和外延度等薄膜性质的差异。Cu13团簇的初始沉积能量范围为0.1~10.0 eV/atom,沉积率为1.0 clusters/ps,衬底温度分别为300,700和1 000 K。模拟结果表明:团簇初始沉积能量主要影响薄膜生长模式,当初始沉积能量为7.5 eV/atom的Cu13团簇沉积到温度为300 K的Fe(001)表面时,可形成表面光滑、内部缺陷少和较好外延度的高质量Cu薄膜。 展开更多
关键词 分子动力学模拟 团簇沉积薄膜 Cu13团簇 Fe(001)表面
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