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Two-step growth of VSe_2 films and their photoelectric properties
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作者 曾玉 张生利 +6 位作者 李秀玲 敖建平 孙云 刘玮 刘芳芳 高鹏 张毅 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第5期343-349,共7页
We put forward a two-step route to synthesize vanadium diselenide(VSe_2), a typical transition metal dichalcogenide(TMD). To obtain the VSe_2 film, we first prepare a vanadium film by electron beam evaporation and we ... We put forward a two-step route to synthesize vanadium diselenide(VSe_2), a typical transition metal dichalcogenide(TMD). To obtain the VSe_2 film, we first prepare a vanadium film by electron beam evaporation and we then perform selenization in a vacuum chamber. This method has the advantages of low temperature, is less time-consuming, has a large area, and has a stable performance. At 400?C selenization temperature, we successfully prepare VSe_2 films on both glass and Mo substrates. The prepared VSe_2 has the characteristic of preferential growth along the c-axis, with low transmittance.It is found that the contact between Al and VSe_2/Mo is ohmic contact. Compared to Mo substrate, lower square resistance and higher carrier concentration of the VSe_2/Mo sample reveal that the VSe_2 film may be a potential material for thin film solar cells or other semiconductor devices. The new synthetic strategy that is developed here paves a sustainable way to the application of VSe_2 in photovoltaic devices. 展开更多
关键词 TWO-step ROUTE VSe2 SELENIZATION THIN film
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ZnO micro-nano composite hydrophobic film prepared by the three-step method
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作者 马恺 李华 +3 位作者 张晗 许小亮 公茂刚 杨周 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第5期1942-1946,共5页
The hydrophobicity of the lotus leaf is mainly due to its surface micro-nano composite structure. In order to mimic the lotus structure, ZnO micro-nano composite hydrophobic films were prepared via the three-step meth... The hydrophobicity of the lotus leaf is mainly due to its surface micro-nano composite structure. In order to mimic the lotus structure, ZnO micro-nano composite hydrophobic films were prepared via the three-step method. On thin buffer films of SiO2, which were first fabricated on glass substrates by the so,gel dip-coating method, a ZnO seed layer was deposited via RF magnetron sputtering. Then two different ZnO films, micro-nano and micro-only flowerlike structures, were grown by the hydrothermal method. The prepared films have different hydrophobic properties after surface modification. The structures of the obtained ZnO films were characterized using x-ray diffraction and field-emission scanning electron microscopy. A conclusion that a micro-nano composite structure is more beneficial to hydrophobicity than a micro-only structure was obtained through research into the effect of structure on hydrophobic properties. 展开更多
关键词 three-step method ZNO micro-nano structure hydrophobic film
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一种高精度快速激光修调方案设计
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作者 贾晨强 李文昌 +2 位作者 阮为 刘剑 张天一 《半导体技术》 北大核心 2024年第2期171-177,共7页
在激光修调过程中,激光的修调路径和控制策略是影响修调精度和修调速度的关键因素,而常规激光修调方案难以同时满足高精度和快速修调。因此,提出了一种高精度快速激光修调方案,使用“离散+连续”结构的金属薄膜电阻图形提高修调效率和... 在激光修调过程中,激光的修调路径和控制策略是影响修调精度和修调速度的关键因素,而常规激光修调方案难以同时满足高精度和快速修调。因此,提出了一种高精度快速激光修调方案,使用“离散+连续”结构的金属薄膜电阻图形提高修调效率和可靠性;利用阶梯形的激光修调路径提升修调精度;采用动态测试步长的控制策略提高修调速度。采用上述方案对60个金属薄膜电阻样品进行激光修调,结果表明:修调精度可达0.004%,平均测试步长为2.53,验证了所提出的修调方案可有效提升修调精度和修调速度。进一步将该方案应用在200个温度传感器芯片的校准中,结果表明200个温度传感器芯片的测温误差均校准至±0.2℃以内,平均测试步长为6.29。 展开更多
关键词 激光修调 修调精度 修调速度 金属薄膜电阻 阶梯形修调路径 动态测试步长
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两段阶梯加热成膜工艺对蛋白基复合材料疏水性和阻隔性能的影响
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作者 王滋 雷桥 张文惠 《食品与机械》 CSCD 北大核心 2024年第1期3-10,共8页
目的:改良成膜加热工艺。方法:将薄膜基材采用一段35,40,45,50,55℃低温解链,二段85℃变性加热的方法制备乳清分离蛋白—普鲁兰多糖薄膜。研究比较了薄膜结构、疏水性、阻隔性能和力学性能的变化,确定了优化成膜工艺条件。结果:两段阶... 目的:改良成膜加热工艺。方法:将薄膜基材采用一段35,40,45,50,55℃低温解链,二段85℃变性加热的方法制备乳清分离蛋白—普鲁兰多糖薄膜。研究比较了薄膜结构、疏水性、阻隔性能和力学性能的变化,确定了优化成膜工艺条件。结果:两段阶梯加热的薄膜对比未变性交联(25℃)的薄膜和一段加热(85℃)的薄膜,阻氧性能提高了25.0%~58.7%,拉伸强度(TS)增强了54.8%~89.9%,断裂伸长率(EAB)增强了40.2%~59.2%,水蒸气阻隔性能提高了20.0%~52.6%。结论:两段阶梯加热的成膜方式能控制蛋白质解链程度,促进成膜基材基团之间的反应且45℃/85℃加热条件对提高薄膜各项性能的作用最为显著。 展开更多
关键词 两段阶梯加热成膜 乳清分离蛋白 结构变化 疏水性 阻隔性能
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薄膜复合粘接工艺的PID控制优化分析
5
作者 赵向杰 尹培丽 《粘接》 CAS 2024年第2期9-12,共4页
为块状物薄膜复合粘接工艺提供精确可靠的控制方案,根据不同薄膜复合粘接工艺进行分析得到电机控制特征,并与传统的控制方法进行控制效率对比,对茶砖薄膜复合粘接的步骤加以确定并使用PLC实现粘接系统控制,通过PID策略分析和MATLAB仿真... 为块状物薄膜复合粘接工艺提供精确可靠的控制方案,根据不同薄膜复合粘接工艺进行分析得到电机控制特征,并与传统的控制方法进行控制效率对比,对茶砖薄膜复合粘接的步骤加以确定并使用PLC实现粘接系统控制,通过PID策略分析和MATLAB仿真后,选择得到块状物粘接控制方案,粘接过程中的各阶段的阶跃响应曲线,下料时间有效缩短为其定重时间的80%以上,并缩短原有下料时间25%-34%。通过使用合适的PID控制方案有效地优化了原有粘接工艺,为实际应用于相关生产过程中提供科学的理论支持。 展开更多
关键词 块状物粘接 PID控制策略 软硬件设计 阶跃响应曲线
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杂模抑制薄膜体声波谐振器的仿真分析
6
作者 罗恩雄 张必壮 +2 位作者 吴坤 马晋毅 李思忍 《压电与声光》 CAS 北大核心 2024年第2期159-163,共5页
该文研究了电极边界阶梯结构对薄膜体声波谐振器(FBAR)杂波的影响。采用有限元仿真法讨论了阶梯结构宽度尺寸对杂波的抑制效果,结合振型分析该结构能抑制声波能量的泄露,提高器件品质因数。为了进一步验证仿真结果,实验制备了FBAR器件... 该文研究了电极边界阶梯结构对薄膜体声波谐振器(FBAR)杂波的影响。采用有限元仿真法讨论了阶梯结构宽度尺寸对杂波的抑制效果,结合振型分析该结构能抑制声波能量的泄露,提高器件品质因数。为了进一步验证仿真结果,实验制备了FBAR器件。测试结果表明,当该阶梯结构凸起宽度为3μm,凹陷宽度为1.5μm时,谐振器杂波被有效抑制,反谐振频率处的品质因数约增大100。 展开更多
关键词 薄膜体声波谐振器(FBAR) 阶梯结构 杂模抑制 有限元
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纳米金刚石膜/{100}晶面多晶金刚石膜台阶法快速生长研究
7
作者 唐春玖 侯海虹 +1 位作者 陈维霞 江学范 《应用技术学报》 2024年第2期133-139,共7页
通过高功率微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)以及台阶式基底排列方法,可以在一次沉积过程中同时沉积纳米晶粒及<100>取向的{100}面多晶金刚石薄膜。详细比较在同一次沉积中同时制备的多种不同类别的金刚石产物的生长速率。采用台... 通过高功率微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)以及台阶式基底排列方法,可以在一次沉积过程中同时沉积纳米晶粒及<100>取向的{100}面多晶金刚石薄膜。详细比较在同一次沉积中同时制备的多种不同类别的金刚石产物的生长速率。采用台阶法并添加少量空气,微波功率从2.0k W增加至3.2 kW,在下面大硅片上生长的纳米金刚石膜的平均生长速率可从0.3μm/h增大到3.0μm/h;而在上面小硅片上生长的纳米金刚石膜的平均生长速率从3.8μm/h也增加到11.2μm/h,同时产物也转变为{100}晶面的多晶膜。另外,在上面小硅片上生长的金刚石膜的边角效应明显,在边界生长的金刚石产物的生长速率更高,从17.0μm/h增大到27.1μm/h。该结果表明少量氮气和氧气同时添加对金刚石生长的形貌多样性调节作用和对生长速率的提升作用强烈依赖于生长条件。 展开更多
关键词 纳米金刚石膜 {100}晶面 台阶法 微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)
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AZ31镁合金基Cu-MOF-SA超疏水膜的制备及其耐腐蚀性能研究
8
作者 王世颖 康丰 +2 位作者 吴敏娴 陈艳丽 陈智栋 《材料保护》 CAS CSCD 2024年第1期148-155,211,共9页
腐蚀是影响镁及其合金大规模应用的关键技术难题之一,因可有效隔离金属基底与腐蚀介质的直接接触,从而降低腐蚀速率,制备超疏水表面成为提高镁合金耐蚀性的有效途径。通过一步电沉积方法,在AZ31镁合金基底上成功制备了铜-金属有机骨架-... 腐蚀是影响镁及其合金大规模应用的关键技术难题之一,因可有效隔离金属基底与腐蚀介质的直接接触,从而降低腐蚀速率,制备超疏水表面成为提高镁合金耐蚀性的有效途径。通过一步电沉积方法,在AZ31镁合金基底上成功制备了铜-金属有机骨架-硬脂酸(Cu-MOF-SA)超疏水膜,并对超疏水膜的耐腐蚀性、化学稳定性和耐热性进行了综合研究。结果表明,表面的水接触角可达158°,超疏水膜覆盖的试样在3.5%NaCl溶液中表现出良好的耐腐蚀性能,相比AZ31镁合金基底,其腐蚀电位正移了0.24 V,腐蚀电流密度降低了1个数量级。在pH值为1~14的溶液中浸润24 h后,超疏水膜的水接触角仍可达135°以上,浸泡在pH=1的溶液24 h的超疏水膜的腐蚀电位比AZ31镁合金基底高0.21 V。在20~90℃空气中保温24 h后,超疏水膜的水接触角仍保持在154°以上,80℃下保温24 h后其腐蚀电位比AZ31镁合金基底的高0.22 V,腐蚀电流密度比AZ31镁合金基底的小1个数量级。结果表明,本研究制备的Cu-MOF-SA疏水膜具有良好的超疏水性和耐腐蚀性。 展开更多
关键词 AZ31镁合金 一步电沉积法 Cu-MOF-SA超疏水膜 耐腐蚀性能 化学稳定性 耐热性
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STEP卫星加速度计测量头线圈的超导特性测试及改进 被引量:3
9
作者 杨勇 曹喜滨 +4 位作者 王肃文 D.GILL R.TORRII J.MESTER P.WORDEN 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第11期2421-2429,共9页
为确保STEP卫星超高精度加速度计的测量头线圈三维超导膜在设计的工作电流范围内完全超导,以实现10-18g精度的加速度测量,对测量头线圈进行了低温超导测试,测试证明三维超导膜存在不完全超导缺陷。利用分段测试法对三维膜线圈的二维组... 为确保STEP卫星超高精度加速度计的测量头线圈三维超导膜在设计的工作电流范围内完全超导,以实现10-18g精度的加速度测量,对测量头线圈进行了低温超导测试,测试证明三维超导膜存在不完全超导缺陷。利用分段测试法对三维膜线圈的二维组成部分进行了测试,确定了测量头线圈超导缺陷的位置,并分析了造成超导缺陷的原因。根据测试和分析结果改进了线圈设计,实现了测量头线圈的完全超导,并标定线圈的最大工作电流为-40~40mA,满足STEP卫星加速度计对超导电流要求的-10~10mA,设计裕度达到300%。通过测试、分析与改进设计,定型了STEP卫星超高精度加速度计测量头线圈的研制,为完成STEP任务奠定了技术基础。同时,实现了三维超导膜线圈的制造与工程应用。 展开更多
关键词 加速度计 超导量子干涉仪 测量头线圈 三维超导膜 低温超导 等效原理检验卫星
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多步旋涂CsPbBr_(3)薄膜复光学常数的椭偏光谱研究
10
作者 管悦 韩培高 +2 位作者 孙晓娟 王梦茹 杨军营 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2023年第6期866-871,共6页
为了研究多步旋涂法制备的CsPbBr_(3)薄膜的光学常数,以溴化铅和溴化铯为原料,采用多步旋涂法在硅和FTO衬底上制得CsPbBr_(3)薄膜。利用光弹调制式椭偏光谱仪对硅衬底上的薄膜进行了椭偏光谱分析,使用Tanguy和Tauc-Lorentz 3组合模型对... 为了研究多步旋涂法制备的CsPbBr_(3)薄膜的光学常数,以溴化铅和溴化铯为原料,采用多步旋涂法在硅和FTO衬底上制得CsPbBr_(3)薄膜。利用光弹调制式椭偏光谱仪对硅衬底上的薄膜进行了椭偏光谱分析,使用Tanguy和Tauc-Lorentz 3组合模型对变角度的椭偏光谱进行参数拟合,得到了薄膜光学常数在1.00 eV~5.00 eV范围内的色散关系,并利用荧光发射光谱、吸收谱验证椭偏拟合结果。结果表明,多步旋涂法制备的CsPbBr_(3)薄膜的光学常数与其它方法相比具有一定的差异性,其中折射率可能与薄膜表面粗糙度呈负相关;椭偏拟合所得带隙为2.3 eV,验证了荧光光谱、吸收谱的计算结果。该研究为多步旋涂法制备的CsPbBr_(3)薄膜椭偏光谱拟合分析提供了参考。 展开更多
关键词 光谱学 光学常数 椭圆偏振光谱 CsPbBr_(3)薄膜 多步旋涂法
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界面滑移对阶梯滑块轴承润滑行为的影响 被引量:1
11
作者 荆兆刚 郭峰 +4 位作者 金微 MITJAN Kalin MARKO Polajnar 王永强 刘成龙 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第12期335-342,共8页
目的研究入/出口阶梯面界面滑移对阶梯轴承油膜厚度和摩擦因数的影响。方法通过建立考虑入/出口阶梯面不同程度的界面滑移的一维阶梯滑块模型,求解不同入/出口滑移比例下的油膜厚度和摩擦因数。在阶梯滑块工作面制备含氟类金刚石涂层(F-... 目的研究入/出口阶梯面界面滑移对阶梯轴承油膜厚度和摩擦因数的影响。方法通过建立考虑入/出口阶梯面不同程度的界面滑移的一维阶梯滑块模型,求解不同入/出口滑移比例下的油膜厚度和摩擦因数。在阶梯滑块工作面制备含氟类金刚石涂层(F-DLC),在平行间隙条件下研究了有无含氟类金刚石涂层对油膜润滑性能的影响,并与理论计算结果进行比较。结果当滑移只发生在入口阶梯面时,随着滑移程度的增大,油膜厚度增大,摩擦因数减小;当滑移只发生在出口阶梯面时,随着滑移程度的增大,油膜厚度减小,摩擦因数减小。当润滑油在入口和出口阶梯面均发生滑移时,会产生油膜厚度及摩擦因数同时减小或油膜厚度增大而摩擦因数减小2种结果。试验结果表明,F-DLC涂层阶梯滑块的膜厚最大且摩擦因数最小,没有涂层的结论与之相反。产生这一特殊现象是由于润滑油在阶梯滑块入口区和出口区的滑移程度不同。由于激光加工形成了微凸体结构以及F-DLC涂层的协同作用,入口区的滑移程度比出口区的大,从而膜厚增大;同时滑移的存在使其摩擦因数降低。结论在入/出口的界面滑移对阶梯滑块轴承的影响下,会产生2种结果,得到了可以同时满足油膜承载力增大且摩擦因数减小的入/出口滑移比例关系。通过试验验证了在阶梯滑块表面发生一定滑移的条件下,会在理论计算的油膜厚度增大的同时出现摩擦因数减小的情况。 展开更多
关键词 界面滑移 阶梯滑块轴承 油膜厚度 摩擦因数 类金刚石薄膜 接触角
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非对称台阶式板边插头印制板制作技术
12
作者 李清春 王佐 +1 位作者 蒋勤 黄剑超 《印制电路信息》 2023年第2期44-49,共6页
对于含板边插头(金手指)的印制板,为满足焊接及金手指位置插拔需求,金手指卡槽位置厚度不能超过1.6~1.8 mm。为满足高速信号传输的要求,保持金手指与厚板部分连接兼容,提出了阶梯式金手指设计,但该设计难度较大。介绍一种非对称结构阶... 对于含板边插头(金手指)的印制板,为满足焊接及金手指位置插拔需求,金手指卡槽位置厚度不能超过1.6~1.8 mm。为满足高速信号传输的要求,保持金手指与厚板部分连接兼容,提出了阶梯式金手指设计,但该设计难度较大。介绍一种非对称结构阶梯式金手指板的关键制造技术,为蚀刻、层压、电镀和钻孔工艺提供解决方案。 展开更多
关键词 非对称台阶金手指板 离型保护膜 揭盖 镭射线槽
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多孔铝阳极氧化膜的制备及膜孔的影响因素 被引量:13
13
作者 张勇 冯辉 +2 位作者 金远锋 杨勇 武行兵 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2009年第3期9-12,共4页
采用阳极氧化法制备铝氧化膜,探讨了前处理、电解液组成、电解液浓度以及氧化电压等参数对氧化过程的影响。实验结果表明:前处理对氧化膜的质量有较大影响;适当比例的磷酸和草酸的混合酸制备的多孔膜质量最佳,在一定范围内,提高阳极氧... 采用阳极氧化法制备铝氧化膜,探讨了前处理、电解液组成、电解液浓度以及氧化电压等参数对氧化过程的影响。实验结果表明:前处理对氧化膜的质量有较大影响;适当比例的磷酸和草酸的混合酸制备的多孔膜质量最佳,在一定范围内,提高阳极氧化电压可使膜的孔密度减小,孔径增大,膜的有序性增加。两步阳极氧化法制备的多孔氧化铝模板的有序性优于一步氧化法。 展开更多
关键词 阳极氧化 氧化铝膜 多孔膜 二次阳极氧化
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微型超级电容器PPy/GO-RuO_2复合膜电极的制备与电化学性能 被引量:4
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作者 朱平 蔡婷 +1 位作者 韩高义 熊继军 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第5期505-510,共6页
为了解决氧化钌(RuO2)沉积电位过高,难以在三维微结构金属集流体上直接沉积的问题,提出采用分步电沉积方法在微三维结构镍(Ni)集流体上制备RuO2复合膜电极,即先在三维微结构Ni集流体上沉积聚吡咯/氧化石墨烯(PPy/GO)薄膜作为基底,经热... 为了解决氧化钌(RuO2)沉积电位过高,难以在三维微结构金属集流体上直接沉积的问题,提出采用分步电沉积方法在微三维结构镍(Ni)集流体上制备RuO2复合膜电极,即先在三维微结构Ni集流体上沉积聚吡咯/氧化石墨烯(PPy/GO)薄膜作为基底,经热处理后,在基底上二次沉积出RuO2颗粒,最后再对RuO2复合薄膜进行二次热处理。扫描电子显微镜(SEM)观察显示,随着热处理温度的升高,薄膜表面多孔结构增多,达到了提高膜电极结构孔隙分布的目的。能量分散谱(EDS)和X射线光电子能谱分析(XPS)表明,薄膜中无定形RuO2·x H2O的存在保证了膜电极的大比容量。电化学性能测试结果表明,经105℃处理后的膜电极电化学性能最佳,比电容为28.5 m F/cm2,能量密度为0.04 Wh/m2,功率密度为14.25 W/m2。采用分步电沉积方法制备出的RuO2复合薄膜是一种良好的MEMS超级电容器电极材料。 展开更多
关键词 RuO2复合薄膜 分步电沉积 热处理 MEMS超级电容器
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基于ANSYS Workbench的阶梯面推力滑动轴承动特性研究 被引量:3
15
作者 张文涛 刘文浩 毛杰伟 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2013年第3期81-84,共4页
通过计算流体力学方法研究具有供油槽的阶梯面推力滑动轴承压力场分布。建立油膜的三维模型,利用ANSYS Workbench软件提供的模块对模型切片和混合网格划分,选取标准化湍流模型计算模拟滑动轴承的压力分布,分析转速和润滑油黏度对轴承承... 通过计算流体力学方法研究具有供油槽的阶梯面推力滑动轴承压力场分布。建立油膜的三维模型,利用ANSYS Workbench软件提供的模块对模型切片和混合网格划分,选取标准化湍流模型计算模拟滑动轴承的压力分布,分析转速和润滑油黏度对轴承承载能力的影响。结果表明,随着轴颈转速和润滑油黏度的增加,轴承的承载能力呈现有规律的提高。 展开更多
关键词 油膜 阶梯面 压力分布 推力滑动轴承
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Cr薄膜的沉积与湿法刻蚀工艺研究 被引量:9
16
作者 李兆泽 徐超 +2 位作者 吴学忠 万红 李圣怡 《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第05A期1437-1440,共4页
通过台阶仪和扫描电镜、原子力显微镜测试观察了PVD方法制作Cr薄膜的溅射速率和表面形貌,实验分析了相关工艺参数对溅射速率的影响情况,并对薄膜的湿法刻蚀工艺进行了初步研究.同时给出了Cr膜与其腐蚀后的电阻图形的显微镜照片.
关键词 PVD 薄膜 湿法刻蚀 台阶仪 扫描电镜 原子力显微镜
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各向异性基底上超薄膜生长的计算机模拟 被引量:7
17
作者 顾菊观 叶阳 吴锋民 《浙江工业大学学报》 CAS 2000年第1期31-36,共6页
通过改变原子沿不同方向的扩散概率P ,原子在基底上的扩散步数W及沿周界的扩散步数W′,得到与实验结果一致的分形生长、枝晶状生长、团状生长等生长形态和“台阶流动”
关键词 各向异性 基底 超薄膜生长 计算机模拟 分形生长
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两步氧化法制备ZnO薄膜及其光催化特性研究 被引量:4
18
作者 张军 谢毅柱 +1 位作者 谢二庆 邵乐喜 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期355-359,共5页
本文采用热蒸发法在玻璃衬底上沉积Zn膜,然后在氧气中通过两步热氧化制备ZnO薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和紫外透过光谱等表征技术,研究了氧化温度对ZnO薄膜结晶质量和光学性能的影响。研究结果表明,两步氧化法在40... 本文采用热蒸发法在玻璃衬底上沉积Zn膜,然后在氧气中通过两步热氧化制备ZnO薄膜。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和紫外透过光谱等表征技术,研究了氧化温度对ZnO薄膜结晶质量和光学性能的影响。研究结果表明,两步氧化法在400℃下氧化1 h后的样品中除含有ZnO成份外,还有少量金属Zn存在;525℃下氧化1 h可以制备出疏松多孔的ZnO薄膜,其在紫外光和可见光范围内的透过率可达85%。通过太阳光和紫外光(254 nm)催化降解苯酚实验,发现两步氧化法制备的ZnO薄膜具有良好的光催化特性:太阳光照10 h后苯酚降解率达到56%,紫外灯下苯酚降解率高达86%。此外,ZnO薄膜的光催化重复利用实验表明,经过H2O2溶液清洗干燥处理后,ZnO薄膜可以基本恢复其光催化能力,此特性为ZnO薄膜的重复利用提供了很好的实验依据。 展开更多
关键词 ZNO薄膜 两步热氧化法 热蒸发 光催化
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两步化学沉积法制备ZnO薄膜及其场发射特性 被引量:5
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作者 马毓堃 姚宁 +3 位作者 高知丰 王爱华 秦玉华 张兵临 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期368-372,共5页
在低温常压条件下,以ITO玻璃为衬底,采用电化学法与湿化学法结合的两步化学沉积法制备了团簇状ZnO薄膜。利用XRD,SEM分析了薄膜结构和表面形貌,并采用二极管结构在高真空条件下对薄膜进行了场发射性能测试。稳定发射后,开启电场为3.0V/... 在低温常压条件下,以ITO玻璃为衬底,采用电化学法与湿化学法结合的两步化学沉积法制备了团簇状ZnO薄膜。利用XRD,SEM分析了薄膜结构和表面形貌,并采用二极管结构在高真空条件下对薄膜进行了场发射性能测试。稳定发射后,开启电场为3.0V/μm。当电场为5.8V/μm时,电流密度为583.3μA/cm2。研究表明:两步化学沉积法低温制备ZnO薄膜是可行的,且该薄膜具有良好的场发射性能。 展开更多
关键词 ZNO薄膜 两步化学法 场发射
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二阶关联成像系统宽光谱吸收膜研制 被引量:4
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作者 付秀华 熊仕富 +2 位作者 刘冬梅 张静 程慧婷 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第10期167-172,共6页
为满足关联成像系统抑制背景的需求,选用Al、Cr和SiO2作为镀膜材料,依据薄膜吸收理论,结合膜系设计软件设计了宽光谱吸收膜,并采用真空沉积技术获得了该薄膜样品.通过真空阶梯式退火,减小了膜层内应力,解决了薄膜牢固度问题;采用交互式... 为满足关联成像系统抑制背景的需求,选用Al、Cr和SiO2作为镀膜材料,依据薄膜吸收理论,结合膜系设计软件设计了宽光谱吸收膜,并采用真空沉积技术获得了该薄膜样品.通过真空阶梯式退火,减小了膜层内应力,解决了薄膜牢固度问题;采用交互式分析对测试结果逆向反演,通过优化工艺参量,使膜系中敏感薄层厚度得以精准控制,并减小了膜厚控制误差.制备的吸收膜在4001 100nm波段平均吸收率达到99.1%,满足系统使用要求. 展开更多
关键词 薄膜 关联成像 阶梯式退火 逆向反演 内应力 吸收膜
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